双层液晶结构的相位补偿膜、计算方法及制备方法技术

本发明专利技术公开双层液晶结构的相位补偿膜、计算方法及制备方法，该相位补偿膜包括：第一手性向列相层和第二手性向列相层，第一手性向列相层内液晶分子的初始方位角为沿第一手性向列相层厚度方向，第一手性向列相层内液晶分子逐渐扭曲，其扭曲角为第二手性向列相层底部贴合于第一手性向列相层上，且其底部内液晶分子与第一手性向列相层内液晶分子指向一致；沿第二手性向列相层厚度方向及背离第一手性向列相层的方向，第二手性向列相层内液晶分子逐渐扭曲，其总扭曲角为本发明专利技术通过液晶分子指向操控实现功能，具有可调光学补偿特性，灵活度高，成本低且生产工艺简单。成本低且生产工艺简单。成本低且生产工艺简单。

【技术实现步骤摘要】
双层液晶结构的相位补偿膜、计算方法及制备方法


[0001]本专利技术属于光器械
，具体涉及一种双层液晶结构的相位补偿膜、计算方法及制备方法。

技术介绍

[0002]AMOLED显示器所面临的挑战之一，是如何有效抵抗环境光、减少显示方面的干扰，在OLED外部再加上圆偏振片便是其中一个解决方法。外界自然光经过线偏光膜、1/4波长相位延迟膜，依次变成线偏振光、圆偏振光；经过OLED金属阴极反射后，变成旋向相反的圆偏振光；再经过1/4相位延迟膜，变成振动方向与线偏光膜偏振方向垂直的线偏振光；线偏振光不能透过，从而抑制了外界环境光的反射干扰。因此宽波段1/4波长相位延迟膜是提高OLED显示对比度的核心部件。
[0003]现有宽波段相位补偿膜工艺主要包括以下几种：
[0004]第一，斜向延伸树脂相位补偿膜工艺主要为：溶融压出后的COP树脂，先进行纵向延伸，再进行横向延伸，一次制程便能制造出双光轴相位差膜。但是，该工艺制备的相位补偿膜的厚度大于50微米，且工艺中对膜厚难以控制。
[0005]第二，多相位差膜堆栈工艺主要为：将树脂本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.双层液晶结构的相位补偿膜，其特征在于，包括：第一手性向列相层，所述第一手性向列相层内液晶分子的初始方位角为沿所述第一手性向列相层厚度方向，所述第一手性向列相层内液晶分子逐渐扭曲，其扭曲角为第二手性向列相层，所述第二手性向列相层底部贴合于所述第一手性向列相层上，且其底部内液晶分子与所述第一手性向列相层内液晶分子指向一致；沿所述第二手性向列相层厚度方向及背离所述第一手性向列相层的方向，所述第二手性向列相层内液晶分子逐渐扭曲，其总扭曲角为2.根据权利要求1所述的相位补偿膜，其特征在于，所述第一手性向列相层内液晶分子的扭曲角由所述第一手性向列相层的掺入手性分子浓度和其厚度决定。3.根据权利要求1所述的相位补偿膜，其特征在于，所述第二手性向列相层内液晶分子的总扭曲角由所述第二手性向列相层的掺入手性分子浓度和其厚度决定。4.根据权利要求1
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3任一项所述的相位补偿膜，其特征在于，所述第一手性向列相层内液晶分子的均一配向通过摩擦取向或光取向得到。5.计算方法，其特征在于，用于计算如权利要求1
‑
4任一项所述的双层液晶结构的相位补偿膜的参数，所述第一手性向列相层的初始方位角所述第一手性向列相层的扭曲角所述第一手性向列相层的厚度d1、所述第二手性向列相层的总扭曲角以及所述第二手性向列相层的厚度d2通过muller传递矩阵计算得到。6.根据权利要求5所述的计算方法，其特征在于，具体包括以下步骤：A：确定目标出射光为在450
‑<...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘广韬，祁清凯，刘俊芹，施龙娣，
申请(专利权)人：无锡禾煜光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：