显示面板制造技术

技术编号:37134515 阅读:37 留言:0更新日期:2023-04-06 21:33
本发明专利技术提供一种显示面板包括第一基板、多条扫描线、多条数据线以及多个像素结构。这些扫描线和这些数据线设置在第一基板上,且彼此相交。这些像素结构分别设置在这些数据线和这些扫描线之间。这些像素结构的至少一者包括主动元件、像素电极、电容电极、共电极以及修补图案。主动元件具有源极、漏极和栅极。栅极电性连接这些扫描线的其中一条。源极电性连接这些数据线的其中一条。像素电极电性连接主动元件的漏极。电容电极电性连接像素电极,并且自漏极延伸而出。共电极投影重叠像素电极和电容电极。修补图案投影重叠这些扫描线的其中一条、共电极和像素电极。共电极和像素电极。共电极和像素电极。

【技术实现步骤摘要】
显示面板


[0001]本专利技术涉及一种显示面板,尤其是涉及一种具有修补结构的显示面板。

技术介绍

[0002]随着液晶显示技术的发展,液晶显示面板已广泛地应用在不同的领域。在实际的生产过程中,液晶显示面板常因为制造工艺或其他因素而面临异常亮暗点的问题。为了降低这些亮暗点对显示质量的影响,通常会在像素阵列基板上设置多个修补结构。这些修补结构可提高液晶显示面板的成品率,并且能降低生产成本。然而,修补结构与信号线的电容耦合效应容易对像素结构的操作电性产生影响,造成显示画面的亮度不均。

技术实现思路

[0003]本专利技术是针对一种显示面板,其修补结构对显示像素的操作电性影响较不明显,且修补流程较为简化。
[0004]根据本专利技术的实施例的显示面板,包括第一基板、多条扫描线、多条数据线以及多个像素结构。这些扫描线和这些数据线设置在第一基板上,且彼此相交。这些像素结构分别设置在这些数据线和这些扫描线之间。这些像素结构的至少一者包括主动元件、像素电极、电容电极、共电极以及修补图案。主动元件具有源极、漏极和栅极。栅极电性连接这些扫本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板,其特征在于,包括:第一基板;多条扫描线,设置在所述第一基板上;多条数据线,设置在所述第一基板上,且相交于所述多条扫描线;以及多个像素结构,分别设置在所述多条数据线和所述多条扫描线间,所述多个像素结构的至少一者包括:主动元件,具有源极、漏极和栅极,所述栅极电性连接所述多条扫描线的其中一条,所述源极电性连接所述多条数据线的其中一条;像素电极,电性连接所述主动元件的所述漏极;电容电极,电性连接所述像素电极,所述电容电极自所述漏极延伸而出;共电极,投影重叠所述像素电极和所述电容电极;以及修补图案,投影重叠所述多条扫描线的其中一条、所述共电极和所述像素电极。2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述多个像素结构的所述至少一者包括第一像素结构,所述多条扫描线包括第一扫描线,且所述第一像素结构的所述修补图案和所述漏极的一部分重叠于所述第一扫描线。3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述修补图案、所述电容电极和所述主动元件的所述漏极为一体。4.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一像素结构的所述修补图案和所述主动元件的所述栅极电性连接所述第一扫描线。5.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述共电极具有第一延伸部、第二延伸部和连接部,所述第一延伸部和所述第二延伸部设置在所述像素电极沿着第一方向的相对两侧并且在第二方向上延伸,所述连接部延伸在所述第一方向上,所述连接部连接所述第一延伸部和所述第二延伸部,所述第一方向与所述第二方向相交,所述电容电极重叠于所述共电极的所述连接部。6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述电容电极还重叠于所述共电极的所述第一延伸部与所述第二延伸部的其中一者。7.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述多条数据线、多个所述第一延伸部和多个所述第二延伸部沿着所述第一方向交替排列。8.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述多个像素结构的所述至少一者还包括第二像素结构,所述第一像素结构和所述第二像素结构沿着第一方向排列并且电性连接所述多条数据线的第一数据线,所述多条扫描线还包括第二扫描线,所述第一扫描线和所述第二扫描线位于所述第一像素结构和所述第二像素结构沿着第二方向的相对两侧,所述第一方向与所述第二方向相交,所述第一像素结构电性连接所述第一扫描线,且所述第二像素结构电性连接所述第二扫描线。9.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,所述共电极具有连接部、第一延伸部和第二延伸部,所述第一延伸部和所述第二延伸部沿着所述第一方向设置在所述连接部的相对两侧并且连接所述连接部,所述电容电极重叠于所述多个共电极的所述连接部。10.根据权利要求9所述的显示面板,其特征在于,所述第一像素结构的所述共电极的所述第一延伸部连接所述第二像素结构的所述共电极的所述第一延伸部并界定出开口,且
所述开口投影重...

【专利技术属性】
技术研发人员:张崇霖刘轩辰叶政谚林侑正苏振豪
申请(专利权)人:瀚宇彩晶股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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