化合物制造技术

本发明专利技术提供一种能够使后烘前后的色差变小的式(I)或式(II)表示的化合物。[式(I)中，R1表示可以具有取代基的碳原子数2～20的不饱和烃基，R2表示氢原子、可以具有取代基的碳原子数1～20的烃基、或者将Z2与R1连接的单键。Z1和Z2各自独立地表示单键或氧原子。式(II)中，R3表示可以具有取代基的碳原子数2～20的不饱和烃基。Z3表示单键或氧原子。]]]

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】化合物


[0001]本专利技术涉及化合物、着色树脂组合物、滤色器和显示装置。

技术介绍

[0002]在液晶显示装置、电致发光显示装置和等离子显示器等显示装置、CCD、CMOS传感器等固体拍摄元件中使用的光学滤波器由着色树脂组合物制造。作为上述着色树脂组合物用的着色剂，已知有铝酞菁颜料。专利文献1中记载了提供如下滤色器用着色组合物等，通过具有特定结构的铝酞菁颜料作为着色剂，从而在滤色器中使用时为高明度，并且不仅NMP(N
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甲基吡咯烷酮)耐性优异，而且显影性、涂膜的平坦性也优异。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2016
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75837号公报

技术实现思路

[0006]然而，专利文献1中记载的铝酞菁颜料存在后烘前后的色差变大的情况。因此，本专利技术提供一种能够使后烘前后的色差变小的新型化合物。
[0007]本专利技术包含以下的专利技术。
[0008][1]式(I)或式(II)表示的化合物。<br/>[0009]本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.式(I)或式(II)表示的化合物，式(I)中，R1表示可以具有取代基的碳原子数2～20的不饱和烃基，R2表示氢原子、可以具有取代基的碳原子数1～20的烃基、或者将Z2与R1连接的单键，Z1和Z2各自独立地表示单键或氧原子，X1～X4各自独立地表示
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R4、
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OR4、
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SR4、卤素原子、硝基或可以具有取代基的氨磺酰基，R4表示可以具有取代基的碳原子数1～20的烃基，n1～n4各自独立地表示0～4的整数；式(II)中，R3表示可以具有取代基的碳原子数2～20的不饱和烃基，Z3表示...

【专利技术属性】
技术研发人员：青木拓磨，中山智博，赤坂哲郎，黑木贵裕，滨木裕史，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：