线式膜形成装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种线式膜形成装置，包括：淀积源、防淀积板和屏。淀积源存储不同膜形成材料，并且包括在垂直于传送方向的基板的宽度方向上延伸的开口。所述开口相互平行地分别设置在传送方向的上游侧和下游侧。所述防淀积板隔开与共淀积室相邻的淀积室，并且相互平行地设置在传送方向的上游侧和下游侧，限制来自开口的蒸汽的淀积区域。屏限制并且使来自开口的蒸汽在基板的淀积区域与通过板限定的淀积区域重合。因而，防止单成分模形成而只有混合膜形成在基板上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种设置有共淀积室的线式(in-line)膜形成装置，多个 膜形成材料在所述共共淀积室中蒸发或者升华，并且然后混合地淀积在基 板上以形成膜。
技术介绍
在已知的共淀积膜形成装置中，多个膜形成材料蒸发或者升华，并且 然后混合地淀积在基板上以形成膜。例如，在形成有机电致发光(EL)装置 等等的发光层的情况下，使用这种共淀积膜形成装置，膜的形成必须经过 如下过程。当玻璃基板被传送时，多个被蒸发或升华的膜形成材料从安装 在玻璃基板下方的多个喷嘴喷射出，并且然后以预定比例混合在一起。这 样被混合的膜形成材料被淀积在玻璃基板上以在其上形成膜。在日本专利 申请公开号No. 2002-348659中公开的装置是上述共淀积膜形成装置的具 体例子，并且所述公开装置混合膜形成材料并以如下方式形成膜。能够被 倾斜的容器设置到所述装置以分别地容纳膜形成材料。这些容器的角度被 调整以获得允许它们各自的膜形成材料在单个淀积区域共淀积的位置。所 述共淀积膜形成装置的另一个例子是在日本专利申请公开号 No.2006-057173中公开的。容纳不同膜形成材料的多个容器设置在所公开 的装置中，并且在玻璃基板的宽度方向(g卩，在垂直于玻璃基板传送方向 的方向)交替地设置多个容器的喷嘴。然后，通过把己经从喷嘴喷射出的 膜形成材料混合在一起而执行共淀积以形成膜。在已知的线式膜形成装置中，包括含有多个膜形成材料混合膜的多层 膜连续地形成在以等速传送的玻璃基板上。日本专利申请公开号No.特开 平10-140351， No. 2002-176090和No.特开平02-125866 (参见图5) 公开了这种线式膜形成装置。在这些线式膜形成装置中的每一个中， 一连 串淀积室连续地设置在玻璃基板传送方向上(此后，简称为玻璃基板传送方向或者传送方向)。为了形成多层膜，所述装置设置有隔开多个淀积室 的防淀积板。防淀积板防止从相互邻近的淀积室的淀积源泄露的不同种膜 形成材料的蒸汽的混合。图5显示设置在传统线式膜形成装置的共淀积室的示例性结构。在共 淀积室41中，容器42和43被设置以分别地存储膜形成材料A和B。玻 璃基板44在传送方向T上传送。膜形成材料A和B被分别地从容器42 和43中释放以执行膜形成材料A和B在玻璃基板44上的共淀积。在这 种情况下，防淀积板45A和45B被用于隔开共淀积室41。假设通过使用 具有这种结构的装置而形成混合膜的情况。在这种情况下，在玻璃基板44 上的淀积区域R内获得膜形成材料A和B的混合膜，同时，防淀积板45A 和45b対膜形成材料A和B的共淀积没有任何影响。相反，膜形成材料A 和B的任何一种的单成分模形成在淀积区域RA和RB的每个中，所述淀 枳区域Ra和RB分别地位于玻璃基板上淀积区域R的在传送方向上的 下游和上游侧。换句话说，由于容器42和43的喷嘴相对于防淀积板45A 和45b的几何位置，在这些区域不能获得混合膜。在有机EL装置的制造 中，这种单成分模的形成产生这样的问题，即较高电压被需要以用于在电 子注入层发射光，这有可能最终导致较低的发光效率。下面参照图5说明形成单成分模的机理。在上游侧上，防淀积板45A限 制从容器42释放的膜形成材料A淀积在由线Ua限定的区域内。另一方 面，在上游侧上，防淀积板45A也限制从容器43释放的膜形成材料B 淀积在由线Ub限定的区域内。因而形成的淀积区域RB包括在容器43 的膜形成材料B的淀积区域中，但是不包括在容器42的膜形成材料A的 淀积区域中。因而，如此形成在淀积区域RB中的膜为膜形成材料B的 单成分模。同样地，在下游侧，防淀枳板45b限制从容器42释放的膜形 成材料A淀积在由线Da限定的区域内。另一方面，在下游侧，防淀积板 45B也限制从容器43释放的膜形成材料B淀积在由线Db限定的区域内。 这样形成的淀积区域Ra包括在容器42的膜形成材料A的淀积区域内， 但是不包括在容器43的膜形成材料B的淀积区域内。因而，这样形成在 淀积区域RA的膜为膜形成材料A的单成分模d因而，问题出现了，在 玻璃基板44的传送方向T中的上游侧和在下游侧都形成单成分模而不是混合膜。因此，每两个淀积室之间的距离必须被延长，这最终导致装置整 体变大。图6显示在日本专利申请公开号No. 2006-057173中公开的装置的结 构。在共淀积室51中，多个容器52和53被设置以存储膜形成材料A和 B。多个容器52和53的喷嘴交替地设置在玻璃基板54的基板宽度方向W 上(即，垂直于玻璃基板传送方向T的方向)。从这样设置的喷嘴释放的膜 形成材料A和B被混合以执行共淀积。因此，这种结构不太可能产生上 述的形成单成分模的问题。但是，上述的容器52和53的喷嘴交替地设置 在基板宽度方向W的结构产生另一个问题，如图6所示，膜形成材料在 密度方面在基板宽度方向W上不均衡地分布。不同膜形成材料必须被加 热到不同温度以被蒸发或者升华。另外，不同膜形成率需要不同温度。因 此，蒸发容器52和53的喷嘴必须被加热到不同温度。另外，每两个相 邻的喷嘴之间需要空间以绝缘热。这种热绝缘的需要要求喷嘴之间较大的 距离。因而，增加了在基板宽度方向上的不均衡浓度分布。至此的说明，通过传统线式膜形成装置的共淀积不可避免地产生单成 分模形成和浓度分布不均衡发生这样的问题。
技术实现思路
鉴于上述问题而产生本专利技术。本专利技术的目的是提供一种线式膜形成装 置，其能够执行共淀积而没有引起形成单成分模或产生浓度分布不均衡。为实现上述目的，本专利技术的第一方面是提供线式膜形成装置，所述线 式膜形成装置包括多个淀积室，至少一个淀积室是共淀积室，所述共淀积 室通过两种不同的膜形成材料的共淀积过程而形成混合膜，在共淀积过程 中，两种不同的膜形成材料被蒸发或者升华，然后被蒸发或者升华的两种 膜形成材料的蒸汽被混合地淀积,所述多个淀积室设置在基板被传送的传 送方向上，如此设置的淀积室在被传送的基板连续地形成膜，从而在基板 上形成多层膜。在所述线式膜形成装置中，所述共淀积室包括分别地存 储膜形成材料的两个淀积源，淀积源各自包括开口，每个开口在垂直于传 送方向的基板的宽度方向上延伸，所述开口被相互平行地分别设置在传送 方向的上游侧和下游侧上；分别地隔开与共淀积室相邻的淀积室的两个隔7开部件，隔开部件被设置远离传送基板并且被相互平行地分别设置在传送 方向的上游侧和下游侧上，两个淀积源被设置在所述隔开部件之间；和限 制部件，所述限制部件限制从上游侧开口释放并且在基板的下游侧淀积的 蒸汽，以使下游侧界线被设置在蒸汽将被淀积的淀积区域上，具有下游侧 界线的所述淀积区域与从下游侧开口释放并且在基板的下游侧淀积的蒸 汽的淀积区域重合，在下游侧的隔开部件在从下游侧开口释放的蒸汽的淀 积区域上设置下游侧界线，并且当防止在基板的下游侧形成包含两个膜形 成材料的任何一种的单成分模时，只有混合膜形成在基板的下游侧。为实现上述目的，本专利技术的第二方面根据第一方面提供具有如下技术 特征的线式膜形成装置。限制部件进一步限制从下游侧开口释放并且淀积 在基板的上游侧的蒸汽，以使上游侧界线被设置在从下游侧开口释放的蒸 汽的淀积区域上，并且所述具有上游侧界线的从下游侧开口释放的蒸汽的 淀积区域与从上本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种线式膜形成装置，包括：多个淀积室，至少一个所述淀积室是共淀积室，所述共淀积室通过两种不同的膜形成材料的共淀积过程而形成混合膜，在所述共淀积过程中，所述两种不同膜形成材料被蒸发或者升华，并且然后，蒸发或者升华的两种膜形成材料的蒸汽被混合地淀积，所述多个淀积室在基板被传送的传送方向上设置，如此设置的淀积室在被传送的基板上连续地形成膜，从而，在所述基板上形成多层膜，其中　所述共淀积室包括：　两个淀积源，所述两个淀积源分别地存储膜形成材料，所述淀积源各自包括开口，每个 所述开口在垂直于所述传送方向的基板的宽度方向上延伸，开口相互平行地分别设置在传送方向的上游侧和下游侧；　两个隔开部件，所述隔开部件分别地使共淀积室与相邻的淀积室隔开，所述隔开部件被设置远离所述传送基板，并且被相互平行地分别设置在传送方 向的上游侧和下游侧，所述两个淀积源设置在所述两个隔开部件之间；和　限制部件，所述限制部件限制从上游侧开口释放并且在基板下游侧淀积的蒸汽，从而，下游侧界线被设置在蒸汽将被淀积的淀积区域上，具有所述下游侧界线的所述淀积区域与从下游侧开口释 放并且在基板下游侧淀积的蒸汽的淀积区域重合，在下游侧的所述隔开部件在从下游侧开口释放的蒸汽的淀积区域上设置下游侧界线，并且　当防止包含两种膜形成材料中任何一种的单成分模形成在基板下游侧时，只有混合膜形成在基板的下游侧。...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：神川进，佐藤惠一，北本博子，小林敏郎，
申请(专利权)人：三菱日立制铁机械株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]