基于有机-无机杂化的锑卤化物在X射线检测与成像中的应用制造技术

本发明专利技术属于光致发光材料技术领域，本发明专利技术提出基于有机

【技术实现步骤摘要】
基于有机
‑
无机杂化的锑卤化物在X射线检测与成像中的应用


[0001]本专利技术属于光致发光材料
，具体涉及基于有机
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无机杂化的锑卤化物在X射线检测与成像中的应用，即利用有机
‑
无机杂化金属锑卤化物进行X射线检测与成像的方法。

技术介绍

[0002]X射线是一种波长极短、能量很大的电磁波，具有很强的穿透能力，X射线检测被广泛应用于计算机断层扫描检查(CT检查)、无损检测、材料研究、辐射监测、天文探索等领域。近年来，X射线间接探测在成本和稳定性方面比直接探测具有优势，已成为新兴领域的研究热点。其中，闪烁体在间接探测中具有至关重要的作用，闪烁体可以吸收高能射线并将其转换为低能光子，实现X射线探测成像。在过去的几十年里，各种传统闪烁体，如NaI:Tl、CsI:Tl、Gd2O2S:Tb(GOS)、Bi4Ge3O
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(BGO)已经很好的用于研究X射线闪烁体。其中，CsI:Tl和Bi4Ge3O
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(BGO)已经成功实现商业探测应用，然而，CsI：Tl对湿度本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.基于有机
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无机杂化的锑卤化物在X射线检测与成像中的应用，其特征在于，所述锑卤化物化学式为C
50
H
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P2SbX5，其中X代表Cl或Br，所述锑卤化物C
50
H
44
P2SbX5的化学结构式如下所示:所述应用包括以下步骤：将所述锑卤化物C
50
H
44
P2SbX5粉末充分研磨烘干后，与浓度为50
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200mg/mL的聚合物溶液混合，溶剂挥发后制成锑卤化物薄膜；将目标物体放置在所述锑卤化物薄膜上，X射线源从正上方照射目标物体，得到的成像图片通过相机收集；所述聚合物溶液为溶解于有机溶剂的聚甲基丙烯酸甲酯或聚乙二醇。2.如权利要求1所述的基于有机
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无机杂化的锑卤化物在X射线检测与成像中的应用，其特征在于，所述有机溶剂为乙醇、甲醇、二氯甲烷、苯或甲苯中的任意一种。3.如权利要求1所述的基于有机
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无机杂化的锑卤化物在X射线检测与成像中的应用，其特征在于，所述有机
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无机杂化金属锑卤化物采用一步法制备而成，具体合成路线如下所示：4.如权利要求1所述的基于有机
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无机杂化的锑卤化物在X射线检测与成像中的应用，其特征在于，所述锑卤化物为C
50
H
44<...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘淑娟，孟海星，赵强，
申请(专利权)人：南京邮电大学，
类型：发明
国别省市：