蒸镀掩模的制造方法技术

本发明专利技术提供一种用简单的方法来制造蒸镀效率优异的蒸镀掩模的制造方法。蒸镀掩模的制造方法包括：将抗蚀剂图案作为掩模来形成第一镀层的步骤；使所述抗蚀剂图案变形的步骤；和将变形后的所述抗蚀剂图案作为掩模，在所述第一镀层之上形成第二镀层的步骤。通过使所述抗蚀剂图案变形，可以使变形后的所述抗蚀剂图案与所述第一镀层的一部分重叠。与所述第一镀层的一部分重叠。与所述第一镀层的一部分重叠。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀掩模的制造方法


[0001]本专利技术的一个实施方式涉及蒸镀掩模的制造方法。

技术介绍

[0002]通常，在制造有机EL显示装置的过程中，在由有机EL材料构成的层(有机EL层)的形成时使用了真空蒸镀法。在真空蒸镀法中，使蒸镀掩模靠近被处理基板，经由蒸镀掩模对被处理基板进行有机EL材料的蒸镀。蒸镀掩模具有多个开口部。由于有机EL材料通过多个开口到达被处理基板，因此能够在与多个开口部对应的位置有选择地形成有机EL层。
[0003]从蒸镀源飞来的蒸镀材料相对于蒸镀掩模从各种角度飞来。因此，当蒸镀材料向蒸镀掩模倾斜地前进时，发生不能通过开口部的现象，存在蒸镀效率降低的情况。因此，现有技术中开发了一种蒸镀掩模，其将蒸镀掩模的开口部的直径形成为朝向蒸镀源扩展的形状(例如锥形形状)，抑制了上述现象的发生(例如，专利文献1和专利文献2)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2009
‑
087840号公报。
[0007]专利文献2：日本特开2016
‑
074938号公报。

技术实现思路

[0008]专利技术要解决的技术问题
[0009]本专利技术的一个实施方式的问题之一在于，提供用简单的方法制造蒸镀效率优异的蒸镀掩模的方法。
[0010]用于解决问题的技术手段
[0011]本专利技术的一个实施方式的蒸镀掩模的制造方法包括：将抗蚀剂图案作为掩模来形成第一镀层的步骤；使所述抗蚀剂图案变形的步骤；和将变形后的所述抗蚀剂图案作为掩模，在所述第一镀层之上形成第二镀层的步骤。
[0012]本专利技术的一个实施方式的蒸镀掩模的制造方法包括：在第一抗蚀剂层之上形成第二抗蚀剂层的步骤；对所述第二抗蚀剂层进行蚀刻来形成第二抗蚀剂图案的步骤；将所述第二抗蚀剂图案作为掩模，蚀刻所述第一抗蚀剂层来形成第一抗蚀剂图案的步骤；和将所述第一抗蚀剂图案和所述第二抗蚀剂图案作为掩模来形成镀层的步骤，所述第一抗蚀剂图案被蚀刻成在剖视时所述第一抗蚀剂图案的宽度比所述第二抗蚀剂图案的宽度变窄。
附图说明
[0013]图1是表示本专利技术的第一实施方式的蒸镀掩模的结构的平面图。
[0014]图2是表示本专利技术的第一实施方式的蒸镀掩模的结构的截面图。
[0015]图3是表示本专利技术的第一实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0016]图4是表示本专利技术的第一实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0017]图5是表示本专利技术的第一实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0018]图6是表示本专利技术的第一实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0019]图7是表示本专利技术的第一实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0020]图8是表示本专利技术的第一实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0021]图9是表示本专利技术的第一实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0022]图10是表示本专利技术的第一实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0023]图11是表示本专利技术的第一实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0024]图12是表示本专利技术的第一实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0025]图13是表示本专利技术的第一实施方式的变形例1的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0026]图14是表示本专利技术的第一实施方式的变形例1的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0027]图15是表示本专利技术的第一实施方式的变形例2的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0028]图16是表示本专利技术的第一实施方式的变形例2的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0029]图17是表示本专利技术的第二实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0030]图18是表示本专利技术的第二实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0031]图19是表示本专利技术的第二实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0032]图20是表示本专利技术的第二实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0033]图21是表示本专利技术的第二实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0034]图22是表示本专利技术的第二实施方式的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0035]图23是表示本专利技术的第二实施方式的变形例1的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0036]图24是表示本专利技术的第二实施方式的变形例1的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0037]图25是表示本专利技术的第二实施方式的变形例1的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0038]图26是表示本专利技术的第二实施方式的变形例1的蒸镀掩模的制造方法的截面图。
[0039]附图标记的说明
[0040]21
…
倾斜面，100
…
蒸镀掩模，110
…
掩模部，111、111a、111b
…
开口部，112、112a、112b
…
非开口部，115
…
面板区域，120
…
保持框，130
…
连接部，200
…
基板，210
…
种子层，216
…
抗蚀剂层，220、225、225a、225b
…
抗蚀剂图案，230、230a、230b
…
镀层，240
…
抗蚀剂图案，261、262
…
抗蚀剂层，261a、262a
…
抗蚀剂图案。
具体实施方式
[0041]以下，关于本专利技术的实施方式，参照附图等进行说明。但是，本专利技术在不脱离其主旨的范围内能够以各种方式实施，而不限定于以下例示的实施方式的记载内容限定地解释。附图中为了使说明更加明确，与实际的方式相比，关于各部的宽度、厚度、形状等存在示意性地表示的情况，不过这只不过是一个例子而已，并不限定本专利技术的解释的内容。在本说明书和各附图中，对于与针对已出现的附图所说明的要素具有相同功能的要素，存在标注相同的附图标记并省略重复的说明的情况。
[0042]在本说明书和权利要求的范围中，表现在某构造体之上配置其它的构造体的方式时，在仅记作“在
……
上”的情况下，除非另有说明，就包含以与某个结构体接触的方式在正上方配置其它结构体的情况，和在某个结构体的上方还隔着另外的结构体地配置其它结构体的情况这两种情况。
[0043]在本说明书中，“α包含A、B或者C”、“α包含A、B和C的任一者”、“α包含选自A、B和C中的一者”这样的表达，除非另有说明，不排除α包含A～C的多个组合的情况。并且，这些表现也不排除α包含其他要素的情况。
[0044]<第一实施方式>
[0045][蒸镀掩模的结构][0046]图1是表示本专利技术的第一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，包括：将抗蚀剂图案作为掩模来形成第一镀层的步骤；使所述抗蚀剂图案变形的步骤；和将变形后的所述抗蚀剂图案作为掩模，在所述第一镀层之上形成第二镀层的步骤。2.如权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：通过使所述抗蚀剂图案变形的步骤，使变形后的所述抗蚀剂图案与所述第一镀层的一部分重叠。3.如权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：使所述抗蚀剂图案变形的步骤包含将所述抗蚀剂图案浸渍在有机碱溶剂中的步骤。4.如权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：使所述抗蚀剂图案变形的步骤包含加热所述抗蚀剂图案的步骤。5.如权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：形成在夹着变形后的所述抗蚀剂图案的位置的所述第一镀层的间隔，比形成在夹着变形后的所述抗蚀剂图案的位置的所述第二镀层的间隔小。6.如权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：还包括在金属层之上形成所述抗蚀剂图案的步骤，所述第一镀层和所述第二镀层利用电镀形成。7.如权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：福田加一，
申请(专利权)人：株式会社日本显示器，
类型：发明
国别省市：