环氧树脂、感光性树脂组合物、抗蚀膜、固化性组合物及固化膜制造技术

本发明专利技术涉及环氧树脂、感光性树脂组合物、抗蚀膜、固化性组合物及固化膜。提供能够抑制热处理时的低分子量成分的挥发及升华、能够制造可以表现高折射率、低消光系数及高耐蚀刻性的膜的环氧树脂。环氧树脂具有下述通式(1

【技术实现步骤摘要】
环氧树脂、感光性树脂组合物、抗蚀膜、固化性组合物及固化膜


[0001]本专利技术涉及环氧树脂、感光性树脂组合物、抗蚀膜、固化性组合物及固化膜。

技术介绍

[0002]近年，随着LSI的高集成化和高速度化，其图案加工要求进一步的微细化，使用ArF准分子激光光(193nm)的光刻中，通过工艺材料的光学特性的利用、工艺设备的改良，超过了源自光源的波长的本质的分辨率极限。
[0003]光致抗蚀剂的领域中，开发了各种用于形成更微细的布线图案的方法，其中之一有多层抗蚀剂法。多层抗蚀剂法中，在基板上形成1层或多层下层膜等，在其上基于通常的光刻形成抗蚀剂图案后，通过干蚀刻向基板加工转印布线图案。
[0004]多层抗蚀剂法中重要的构件之一为下层膜。作为对下层膜所要求的特性，要求成膜性、高耐干蚀刻性、高折射率、低消光系数等。作为满足该要求的下层膜用材料，提出了芳香族环浓度高的酚醛清漆树脂(例如专利文献1)，此外还提出了使用阳离子聚合性化合物和光聚合引发剂的下层膜的制造方法(专利文献2)。
[0005]现有技术文献
>[0006]专利文本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种环氧树脂，其具有下述通式(1
‑
1)所示的重复单元，且两末端为下述通式(1
‑
2)所示的结构，所述通式(1
‑
1)及(1
‑
2)中，R
11
、R
12
、R
13
、R
14
及R
15
各自独立地为碳原子数1～6的亚烷基，R
21
为氢原子或碳原子数1～5的烷基，R
22
及R
23
各自独立地为碳原子数1～6的亚烷基，X1、X2及X3各自独立地为烷基、烷氧基、芳基、芳烷基或卤素原子，Y为＝O基，a、b及c各自独立地为0～5的整数。2.根据权利要求1所述的环氧树脂，其中，所述通式(1
‑
2)所示的结构为下述通式(1
‑
3)所示的结构，所述通式(1
‑
3)中，R
13
、R
14
、R
15
、R
22
、R
23
及R
24
与所述通式(1
‑
2)相同。3.一种环氧树脂，其将二羟基萘树脂和环氧卤丙烷作为反应成分...

【专利技术属性】
技术研发人员：今田知之，今井裕佳理，长田裕仁，伊部武史，
申请(专利权)人：DIC株式会社，
类型：发明
国别省市：