评估匀场条在磁共振系统中静态受力状态的方法和装置制造方法及图纸

本公开涉及一种用于评估匀场条在磁共振系统中静态受力状态的方法。匀场条具有沿其纵向方向设置的用于容纳匀场片的多个腔室，并且匀场条能够插入磁共振系统中以用于进行匀场操作。该方法包括：基于匀场条的每个腔室中针对匀场操作所需要容纳的匀场片的量，计算容纳有匀场片的各个腔室中的匀场片在磁场中的受力；基于各个腔室中的匀场片在磁场中的受力，计算各个腔室的横向侧壁的受力；以及基于各个腔室的横向侧壁的受力与相应阈值的比较，确定匀场条在磁共振系统中的静态受力状态。匀场条在磁共振系统中的静态受力状态。匀场条在磁共振系统中的静态受力状态。

【技术实现步骤摘要】
评估匀场条在磁共振系统中静态受力状态的方法和装置


[0001]本公开涉及磁共振
，特别是涉及一种用于评估磁共振系统中匀场条静态受力状态的方法、装置、磁共振系统、计算机可读存储介质以及计算机程序产品。

技术介绍

[0002]磁共振成像(Magnetic Resonance Imaging,MRI)技术在医学诊断方面发挥着重要作用。磁共振成像技术不仅要求较高的恒定磁场，还要求恒定磁场有较高的均匀性。所谓的磁场均匀性是指在一定的容积范围内磁场强度的均一性，也就是单位面积内通过的磁力线数量的一致性。在磁共振成像的过程中，如果主磁场不均匀，可能导致产生的图像模糊或出现伪影。
[0003]然而受磁体设计和制造工艺的限制以及周围环境的影响，磁共振的磁场可能无法达到符合要求的均匀性。为了提高磁场均匀性，需要对磁共振系统进行匀场操作，从而减少所生成的图像模糊或伪影。匀场操作是指调节磁场中某区间内磁场分布均匀性的操作过程。匀场方法可以包括被动匀场和主动匀场。被动匀场又被称为无源匀场，是在磁体的匀场孔内壁上添加专用的匀场片以使实际磁场变形，使得磁场更加本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于评估匀场条在磁共振系统中静态受力状态的方法，其中，所述匀场条具有沿其纵向方向设置的用于容纳匀场片的多个腔室，并且所述匀场条能够插入所述磁共振系统中以用于进行匀场操作，所述方法包括：基于所述匀场条的每个腔室中针对所述匀场操作所需要容纳的匀场片的量，计算容纳有匀场片的各个腔室中的匀场片在磁场中的受力；基于所述各个腔室中的匀场片在磁场中的受力，计算所述各个腔室的横向侧壁的受力；以及基于所述各个腔室的横向侧壁的受力与相应阈值的比较，确定所述匀场条在所述磁共振系统中的静态受力状态。2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述匀场条具有用于将其固定到所述磁共振系统中的固定端部，所述方法还包括：基于所述各个腔室中的匀场片在磁场中的受力，计算所述匀场条的固定端部的受力；以及，基于所述匀场条的固定端部的受力与相应阈值的比较，确定所述匀场条在所述磁共振系统中的静态受力状态。3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，计算容纳有匀场片的各个腔室中的匀场片在磁场中的受力包括：计算所述匀场片在所述磁共振系统所产生的磁场中的受力。4.根据权利要求3所述的方法，其中，计算容纳有匀场片的各个腔室中的匀场片在磁场中的受力还包括：计算所述匀场片在与其相邻的至少一个腔室中的匀场片所产生的磁场中的受力。5.根据权利要求3所述的方法，其中，所述匀场片在所述磁共振系统所产生的磁场中的受力通过如下等式计算：其中：其中：表示所述匀场条的每个腔室中单位厚度的匀场片在所述磁共振系统所产生的磁场中的受力，其中，n表示所述匀场条中的腔室的数量，a
11
至a
nn
表示所述匀场条的相应腔室中的单位厚度的匀场片在所述磁共振系统产生的磁场中的受力，其中a
11
至a
nn
的取值与相应腔室在磁共振系统所产生的磁场中的位置处的磁场强度以及容纳在该相应腔室中的匀场片的磁导率有关；以及
H
P
表示所述匀场条的每个腔室中的匀场片的厚度。6.根据权利要求4所述的方法，其中，所述匀场片在与其相邻的至少一个腔室中的匀场片所产生的磁场中的受力通过如下等式计算：F
P
″
＝[H
P
·
I
PT
·
G
PtoP
]
·
H
P
其中：其中，G
PtoP
表示第i个腔室中的单位厚度的匀场片产生的磁场对于第j个腔室中的单位厚度的匀场片的力，n表示匀场条中的腔室的数量，其中b
1，2
至b
n
‑
1，n
、b
2，1
至b
n，n
‑1、c
1，3
至c
n
‑
2，n
、c
3，1
至c
n，n
‑2、z
n，1
...

【专利技术属性】
技术研发人员：匡斌，刘晓梅，
申请(专利权)人：西门子深圳磁共振有限公司，
类型：发明
国别省市：