本发明专利技术涉及GIL静态化金属微粒技术领域，具体是一种GIL母线和GIL母线连接件。本发明专利技术提供了一种GIL母线，其从内至外依次包括：母线基件、金属导电层和类金刚石绝缘层。本发明专利技术提供的GIL母线，其金属导电层大大减少了本源性电场畸变，其类金刚石绝缘层不仅能够对母线基体起保护作用，还能抑制金属微粒运动。金属导电层均匀地设置在母线基件表面，能够提供较高的平整度，抑制了类金刚石绝缘层的磨损，使类金刚石绝缘层使用寿命大大增加，从而所述GIL母线具有高的使用寿命。实验表明，本发明专利技术提供的GIL母线的DLC膜层寿命最高为不具有金属导电层的GIL母线的1089倍。层的GIL母线的1089倍。
【技术实现步骤摘要】
一种GIL母线和GIL母线连接件
[0001]本专利技术涉及GIL静态化金属微粒
，具体是一种GIL母线和GIL母线连接件。
技术介绍
[0002]GIL(气体绝缘金属封闭输电线路)具有传输容量大、单位损耗低、布置灵活、运行可靠性高以及不受灰尘、湿度和覆冰等外界环境因素影响等优点。但是在GIL的生产，装配，使用过程中不可避免会产生一些金属微粒，在GIL启用后，这些金属微粒由于接触到母线而带电，从而在电场力的作用下运动，吸附在绝缘子表面或者管路内壁，使局部电场发生畸变，使GIL绝缘性能大大降低，可能会发生绝缘子闪络甚至管路击穿的严重事故，所以需要抑制金属微粒的运动或者尽可能减少金属微粒的数量。
[0003]当前广泛使用的静态化金属微粒的方法为母线表面喷漆使金属微粒无法带电，从而抑制其运动。但是普通喷漆的方法有很大的缺陷：漆层不均匀使电场发生畸变；漆层硬度不足，耐磨性与附着性较差，很容易破损而失去效用。而真空镀膜技术具有膜层均匀度极好，硬度高，附着性与耐磨性好的优点，极其适合于母线及其连接件的表面镀层。
[0004]真空镀铝技术成熟，膜层可以达到极低的厚度和极高的表面平整度。类金刚石薄膜(DLC薄膜)具有高绝缘性，超高硬度，摩擦系数低，耐磨性优异，耐腐蚀性好的特点。GIL内存在金属微粒与母线的摩擦，使涂层磨损加剧。类金刚石膜层表面先出现由脱落的DLC和极细金属微粒构成的薄层，新薄层加剧了摩擦，从而使涂层正反馈破坏,出现局部破损或者脱落。
技术实现思路
[0005]有鉴于此，本专利技术所要解决的技术问题在于一种GIL母线和GIL母线连接件，本专利技术提供的GIL母线和GIL母线连接件均能够实现GIL内金属微粒的静态化，同时具有高的使用寿命。
[0006]本专利技术提供了一种GIL母线，其从内至外依次包括：母线基件、金属导电层和类金刚石绝缘层。
[0007]本专利技术对所述母线基件无特殊限制，为本领域技术人员熟知的可用于GIL的母线基件。本申请专利技术人创造性地发现，在所述母线基件表面依次设置金属导电层和类金刚石绝缘层，得到的GIL母线能够在实现GIL内金属微粒静态化的同时，提高其表面的类金刚石绝缘层的摩擦循环寿命，从而使得GIL母线的整体寿命得到提高。
[0008]不经真空镀金属导电层，母线基件表面的粗糙度通常在1μm以上，DLC薄膜的寿命很短，不能正常使用，预先真空镀一层金属导电层可通过降低母线基件表面粗糙度至0.01μm以下，从而大幅增加DLC薄膜的使用寿命。在本专利技术的某些实施例中，所述金属导电层的平整度为0.6μm以下，优选为0.01μm。
[0009]在本专利技术的某些实施例中，所述金属导电层的厚度为，优选为。本专利技术所述金属导电层均匀度好，厚度合适，可以作为母线的均压屏蔽层，最大限
度的减少本源性电场畸变，远远优于不加金属导电层或者覆盖导电铜网的方法。
[0010]在本专利技术的某些实施例中，所述金属导电层中的金属为铝。为避免电化学腐蚀，金属导电层中的金属材料应与母线的材料一致，通常为铝，少数为铁。
[0011]在本专利技术的某些实施例中，所述类金刚石绝缘层的厚度为3μm～8μm，优选为5μm。本专利技术所述类金刚石膜层的绝缘性能优异，其硬度、耐磨性和耐腐蚀性远远优于绝缘漆或者聚酯薄膜，在装配过程中不易被破坏，在使用过程中，不易被金属微粒划伤。
[0012]本专利技术提供了一种上述GIL母线的制备方法，包括以下步骤：在母线基件上形成金属导电层，得到具有金属导电层覆盖的母线基件；在所述具有金属导电层覆盖的母线基件上形成类金刚石绝缘层，得到上述GIL母线。
[0013]本专利技术首先在母线基件上形成金属导电层，得到具有金属导电层覆盖的母线基件。具体而言，本专利技术首先在母线基件上镀一层金属导电层，得到具有金属导电层覆盖的母线。在本专利技术的某些实施例中，本专利技术在母线基件上真空镀一层金属导电层，得到具有金属导电层覆盖的母线基件。在一些实施例中，本专利技术采用超大型高精度真空镀膜机在母线基件上真空镀一层金属导电层，得到具有金属导电层覆盖的母线基件。在一个实施例中，所述超大型高精度真空镀膜机所能容纳的基件的长度不小于10m，截面积不小于0.5m2。
[0014]本专利技术得到具有金属导电层覆盖的母线基件后，在所述具有金属导电层覆盖的母线基件上形成类金刚石绝缘层，得到上述GIL母线。具体而言，本专利技术在所述具有金属导电层覆盖的母线基件上镀一层类金刚石绝缘层，得到上述GIL母线。在本专利技术的某些实施例中，本专利技术在所述具有金属导电层覆盖的母线基件上真空镀一层类金刚石绝缘层，得到上述GIL母线。在一些实施例中，本专利技术采用超大型高精度真空镀膜机在所述具有金属导电层覆盖的母线基件上真空镀一层类金刚石绝缘层，得到上述GIL母线。在一个实施例中，所述超大型高精度真空镀膜机所能容纳的基件的长度不小于10m，截面积不小于0.5m2。
[0015]本专利技术还提供了一种GIL母线连接件，其从内至外依次包括：母线连接件基件、金属导电层和类金刚石绝缘层。本专利技术对所述母线连接件基件无特殊限制，为本领域技术人员熟知的可用于GIL的母线连接件基件；所述金属导电层和类金刚石绝缘层能达到的效果和上述一样，不再赘述。
[0016]在本专利技术的某些实施例中，所述金属导电层的平整度为0.6μm以下，优选为0.01μm。在本专利技术的某些实施例中，所述金属导电层的厚度为m。在本专利技术的某些实施例中，所述金属导电层的厚度为，优选为。在本专利技术的某些实施例中，所述金属导电层中的金属为铝。在本专利技术的某些实施例中，所述类金刚石绝缘层的厚度为3μm～8μm，优选为5μm。
[0017]本专利技术还提供了上述GIL母线连接件的制备方法，包括以下步骤：在母线连接件基件上形成金属导电层，得到具有金属导电层覆盖的母线连接件基件；在所述具有金属导电层覆盖的母线连接件基件上形成类金刚石绝缘层，得到上述GIL母线连接件。
[0018]本专利技术首先在母线连接件基件上形成金属导电层，得到具有金属导电层覆盖的母线连接件基件。具体而言，本专利技术首先在母线连接件基件上镀一层金属导电层，得到具有金属导电层覆盖的母线连接件基件。在本专利技术的某些实施例中，本专利技术在母线连接件上真空镀一层金属导电层，得到具有金属导电层覆盖的母线连接件基件。在一些实施例中，本专利技术采用大型高精度真空镀膜机在母线连接件基件上真空镀一层金属导电层，得到具有金属导电层覆盖的母线连接件基件。在一个实施例中，所述大型高精度真空镀膜机所能容纳的基
件的长度不小于2m，截面积不小于0.5m2。
[0019]本专利技术得到具有金属导电层覆盖的母线连接件基件后，在所述具有金属导电层覆盖的母线连接件基件上形成类金刚石绝缘层，得到上述GIL母线连接件。具体而言，本专利技术在所述具有金属导电层覆盖的母线连接件基件上镀一层类金刚石绝缘层，得到上述GIL母线连接件。在本专利技术的某些实施例中，本专利技术在所述具有金属导电层覆盖的母线连接件基件上真空镀一层类金刚石绝缘层，得到上述GIL母线连接件。在一些实施例中，本专利技术采用大型高精度真本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种GIL母线，其特征在于，其从内至外依次包括：母线基件、金属导电层和类金刚石绝缘层。2.根据权利要求1所述的GIL母线，其特征在于，所述金属导电层的平整度为0.6μm以下。3.根据权利要求1所述的GIL母线，其特征在于，所述金属导电层的厚度为4.根据权利要求1所述的GIL母线，其特征在于，所述金属导电层中的金属为铝。5.根据权利要求1所述的GIL母线，其特征在于，所述类金刚石绝缘层的厚度为3μm～8μm。6.一种GIL母线连接件，...
【专利技术属性】
技术研发人员：余广译，周福升，巩俊强，黄若栋，向真，杨芸，陈硕，郑尧，杨益公，高超，吕启深，熊佳明，张欣，曾凡威，贺振华，田治仁，张成巍，
申请(专利权)人：南方电网科学研究院有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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