一种超平滑有机膜层的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种超平滑有机膜层的制备方法。镀膜是在氧化硅、氧化铝等无机膜层表面进行，工艺包括，有机物闪蒸、有机物流平、有机膜层聚合三个工艺过程；本发明专利技术的方法制备的有机膜层的作用，一方面能够使得无机膜层平坦化，粗糙度从20nm降到3纳米以内，另一方面有机层能够弥补针孔、微裂纹等微观缺陷，延长了气体分子的路径，能够制备高阻隔性能薄膜；本发明专利技术制备的有机隔膜是在氧化物膜层表面采用卷绕的方法通过闪蒸得到，该薄膜产品具有超平滑特性，采用原子力显微镜测试粗糙度小于3nm，可应用在量子点显示、光伏、光电材料封装用阻隔膜领域。膜领域。膜领域。

【技术实现步骤摘要】
一种超平滑有机膜层的制备方法


[0001]本专利技术涉及一种超平滑有机膜层的制备方法，属于有机膜层制备


技术介绍

[0002]伴随着“柔性+”概念的提出和技术的快速发展，作为量子点显示、OLED显示、薄膜太阳能电池等高科技产品生产的关键原材料、具有谱段透明、高阻隔性、高柔韧性特征的封装用阻隔薄膜及其制备技术的需求越来越迫切。以OLED为例，其选用的封装薄膜对气体的阻隔能力(氧气透过率、水汽透过率)是影响发光二极管的性能和使用寿命的主要因素，由此，随着OLED、量子点显示、OPV(有机太阳能电池)以及其它柔性电子等高附加值产业的发展，高指标以及极高指标封装薄膜产品及其制备技术和相关设备的市场前景必将非常巨大。
[0003]制备高指标水汽、氧气阻隔膜(10
‑3以上)封装材料的主流技术路线为有机/无机叠层方案，阻隔膜叠层的典型结构为50～100μm PET/有机层/无机阻隔层/有机层，其中的无机层具有高的阻隔性能，有机层一方面能够平坦化无机膜层，另一方面能够填充无机层的针孔、微裂纹等缺陷，有机膜层的平坦化程度决定了阻隔层的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种超平滑有机膜层的制备方法，其特征在于步骤如下：第一步，在聚酯薄膜上生长氧化物薄膜，得到待镀膜，将得到的待镀膜安装在卷式真空蒸发镀膜机的放卷辊上；第二步，对第一步中安装了待镀膜的卷式真空蒸发镀膜机抽真空；第三步，开启卷式真空蒸发镀膜机开始卷绕，开启阳极层离子源，对待镀膜表面进行表面张力预处理；第四步，在第三步得到的待镀膜表面镀聚丙烯酸酯膜层；第五步，对第四步得到的产物进行紫外灯固化，并进行基膜卷绕，得到超平滑有机膜层。2.根据权利要求1所述的一种超平滑有机膜层的制备方法，其特征在于：所述的第一步中，聚酯薄膜的厚度为12～125微米，氧化物薄膜的厚度为60～180nm。3.根据权利要求1或2所述的一种超平滑有机膜层的制备方法，其特征在于：所述的第二步中，对卷式真空蒸发镀膜机抽真空时使得本底真空度优于3
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‑3Pa。4.根据权利要求3所述的一种超平滑有机膜层的制备方法，其特征在于：...

【专利技术属性】
技术研发人员：董茂进，冯煜东，王小军，秦丽丽，王冠，冯尔鹏，蔡宇宏，韩仙虎，王毅，马凤英，
申请(专利权)人：兰州空间技术物理研究所，
类型：发明
国别省市：