一种质谱仪器极片清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种质谱仪器极片清洗装置，涉及极片清洗技术领域。包括质谱仪器腔体，质谱仪器腔体的顶部固定安装有安装板，安装板的顶部固定安装有离子源腔体，离子源腔体的内侧固定安装有离子源极片，离子源极片位于质谱仪器腔体内侧，安装板的底部安装有清洗机构，清洗机构顶部的一端安装有驱动机构。本实用新型专利技术可实现对离子源极片的自动清洗，不仅清洗效率高，还不影响质谱仪器的正常使用。还不影响质谱仪器的正常使用。还不影响质谱仪器的正常使用。

【技术实现步骤摘要】
一种质谱仪器极片清洗装置


[0001]本技术属于极片清洗
，特别是涉及一种质谱仪器极片清洗装置。

技术介绍

[0002]基质辅助激光解吸飞行时间质谱仪是一种广泛使用的生物质谱仪。其通过将待分析的样品与基质进行混合形成共结晶体，当激光照射共结晶体时，基质就会吸收激光的能量，随后将能量传递给样品，使得样品产生解吸附和电离过程；
[0003]而待测生物大分子样品的数量往往非常巨大，在每次轰击样品时，除了被分析物外，还含有大量的基质物质，在激光脉冲作用下会产生等离子云，在某些情况下，等离子云还包含来自爆炸性基质材料的固体或液体喷雾颗粒，当等离子体云进一步扩展，一些汽化或喷涂的材料沉积在加速极片上，经过数十万次轰击后，在这些加速极片上，离子束通过的孔周围会形成可见的涂层。这些涂层是电绝缘体，它们可能带电并干扰离子的加速和聚焦过程，影响仪器的使用性能，因此必须除去涂层；
[0004]要去掉这些图层，通常的做法是在仪器放气后再打开离子源盖手动清洁离子源极片，一般清洁离子源极片通常是采用乙醇或丙酮等溶剂，但是，等离子源极片清洁完成之后，仪本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种质谱仪器极片清洗装置，其特征在于：包括质谱仪器腔体(1)，所述质谱仪器腔体(1)的顶部固定安装有安装板(2)，所述安装板(2)的顶部固定安装有离子源腔体(3)，所述离子源腔体(3)的内侧固定安装有离子源极片(4)，所述离子源极片(4)位于质谱仪器腔体(1)内侧，所述安装板(2)的底部安装有清洗机构(5)，所述清洗机构(5)顶部的一端安装有驱动机构(6)。2.根据权利要求1所述的一种质谱仪器极片清洗装置，其特征在于，所述清洗机构(5)包括固定套(51)、内齿圈(52)、转动套(53)和第一外齿圈(54)；所述固定套(51)固定安装在安装板(2)的底部，所述内齿圈(52)固定安装在固定套(51)内侧，所述转动套(53)贯穿安装板(2)、且与安装板(2)转动连接，所述第一外齿圈(54)固定安装在转动套(53)的底端。3.根据权利要求2所述的一种质谱仪器极片清洗装置，其特征在于，所述清洗机构(5)还包括冲洗件(55)，所述冲洗件(55)包括第一转轴(551)、第一行走齿轮(552)、第一连接板(553)和溶剂喷头(554)；所述第一行走齿轮(552)固定安装在第一转轴(551)的顶部，所述第一行走齿轮(552)位于内齿圈(52)与第一外齿圈(54)之间、且与内齿圈(52)、第一外齿圈(54)啮合，所述第一连接板(553)固定安装在第一转轴(551)的底部，所述溶剂喷头(554)固定安装在第...

【专利技术属性】
技术研发人员：张艺伟，吴成龙，赵婷婷，朱旭东，王圣详，
申请(专利权)人：合肥斯坦德优检测技术有限公司，
类型：新型
国别省市：