【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶的回收装置
[0001]本技术实施例涉及半导体光刻工艺
,尤其涉及一种光刻胶的回收装置。
技术介绍
[0002]在半导体制造领域中,光刻工艺是整个行业的起始点,光刻工艺中主要的耗材成本来自光刻胶,使得光刻工艺成本较高。在生产制造的过程中,因匀胶异常排查、优化等工艺动作,使得大量光刻胶浪费在工艺优化的过程中,增加成本。因此,在光刻工艺中,如何提高光刻胶的利用率成为了成本管控与技术开发的重中之重。
技术实现思路
[0003]本技术提供了一种光刻胶的回收装置,以提高光刻胶的利用率,节约成本。
[0004]本技术实施例提供了一种光刻胶的回收装置,包括:控制模块,分别与所述控制模块电连接的匀胶模块、收集模块、过滤模块、储存模块、回收利用模块和多个阀门,以及第一进气管道;
[0005]所述收集模块通过第一阀门与所述过滤模块连通,所述过滤模块通过第二阀门与所述储存模块连通,所述回收利用模块分别与所述储存模块和所述匀胶模块连通,第一进气管道通过第三阀门与所述收集模块连通以及通过第四阀门与所述储存模 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光刻胶的回收装置,其特征在于,包括:控制模块,分别与所述控制模块电连接的匀胶模块、收集模块、过滤模块、储存模块、回收利用模块和多个阀门,以及第一进气管道;所述收集模块通过第一阀门与所述过滤模块连通,所述过滤模块通过第二阀门与所述储存模块连通,所述回收利用模块分别与所述储存模块和所述匀胶模块连通,第一进气管道通过第三阀门与所述收集模块连通以及通过第四阀门与所述储存模块连通;所述控制模块用于控制各个所述阀门开通或关断,使所述匀胶模块滴胶后,所述收集模块回收光刻胶,该回收的光刻胶经所述过滤模块过滤后存储至所述储存模块,该存储的光刻胶经所述回收利用模块处理后输送至所述匀胶模块。2.根据权利要求1所述的光刻胶的回收装置,其特征在于,所述收集模块包括光刻胶接收盒、缓冲瓶、第一检测单元以及第二检测单元;所述光刻胶接收盒通过第五阀门与所述缓冲瓶连通,所述第一进气管道和所述过滤模块均与所述缓冲瓶连通,所述过滤模块连通的管道端口延伸入所述缓冲瓶的瓶底,所述第一检测单元和所述第二检测单元分别位于所述缓冲瓶的侧壁的不同高度处;所述控制模块分别与所述第一检测单元和所述第二检测单元电连接,用于通过控制各个所述阀门,使所述光刻胶接收盒将接收到的光刻胶输送至所述缓冲瓶,并在所述光刻胶达到所述缓冲瓶的第一液位时,将所述光刻胶输送至所述过滤模块。3.根据权利要求2所述的光刻胶的回收装置,其特征在于,所述过滤模块包括回收盒和第一过滤器,所述缓冲瓶、所述第一阀门、所述回收盒、所述第一过滤器、所述第二阀门与所述储存模块依次连通;所述回收盒的容积小于所述缓冲瓶的容积。4.根据权利要求3所述的光刻胶的回收装置,其特征在于,所述过滤模块还包括废液回收桶和第三检测单元,所述回收盒通过第六阀门与所述废液回收桶连通,所述第三检测单元位于所述回收盒的瓶口处;所述控制模块与所述第三检测单元电连接,用于通过控制各个所述阀门,在所述光刻胶达到所述回收盒的第二液位时,将所述回收盒中的所述光刻胶输送至所述储存模块。5.根据权利要求1所述的光刻胶的回收装置,其特征在于,所述储存模块包括存储瓶、光刻胶瓶、第四检测单元和真空管道;所述过滤模块通过所述第二阀门与所述存储瓶连通,所述第一进气管道...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴觉民,张剑桥,陆前军,
申请(专利权)人:广东中图半导体科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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