一种粉体包覆装置及其使用方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种粉体包覆装置及其使用方法，属于粉体包覆材料技术领域，该粉体包覆装置包括真空室和控制系统，真空室内设置有粉体处理仓、粉体仓、循环组件和发射源；粉体处理仓的底部与粉体仓的顶部可拆卸连接；循环组件包括粉体循环管路以及设置在粉体循环管路上的循环泵，粉体循环管路两端分别与粉体处理仓的顶部和粉体仓的底部连通；发射源设置在真空室的内侧壁上，粉体处理仓侧壁上开设有容许发射源的粒子流穿过的窗口，窗口处设置有活动遮板；控制系统分别与发射源、循环泵、活动遮板电性连接。本发明专利技术可以实现采用物理气相沉积方法在细粉以及超细金属粉表面包覆一层防护、改性层，解决抽真空过程中细粉容易损失以及被处理粉末循环的问题。粉末循环的问题。粉末循环的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种粉体包覆装置及其使用方法


[0001]本专利技术涉及粉体包覆材料
，具体地说是一种采用物理气相沉积法进行粉体包覆的装置及其使用方法。

技术介绍

[0002]随着科技的进步和材料产业的发展，粉体的表面镀膜改性技术已逐渐应用于行业的方方面面。粉体包覆改性的原理是在粉体颗粒的表面上均匀地引入一种或多种其他组分的物质，通过化学反应或者物理吸附作用形成一定厚度的沉积层，从而改变粉体的表面特性或赋予粉体新的性能。
[0003]现有技术中，粉体包覆改性技术主要有液相法和气相法两大类。前者包括机械化学法、液相沉淀法、溶胶
‑
凝胶法、化学镀等方法，后者主要指物理气相沉积法和化学气相沉积法。机械化学法是借助于强机械搅拌、冲击、剪切研磨等作用激活粉体和表面包覆改性剂，并使颗粒与改性剂发生作用从而将其包覆在粉体颗粒外表面的一种方法。机械化学法具有处理时间短、过程容易控制、可连续批量生产等优点，但是，其也存在机械处理过程中无机粒子的晶型被破坏、包覆不均匀等缺点。液相沉积法也叫沉淀法，是利用液相过饱和体系中改性剂有在被改性颗粒表面沉积析本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种粉体包覆装置，其特征在于，包括真空室和控制系统，所述真空室内设置有粉体处理仓、粉体仓、循环组件和发射源；所述粉体处理仓的底部与所述粉体仓的顶部可拆卸连接；所述循环组件包括粉体循环管路和设置在粉体循环管路上的循环泵，所述粉体循环管路的两端分别与所述粉体处理仓的顶部和所述粉体仓的底部连通；所述发射源设置在所述真空室的内壁上，所述粉体处理仓侧壁上开设有容许所述发射源粒子流穿过的窗口，所述窗口处设置有活动遮板；所述控制系统分别与所述发射源、循环泵、活动遮板电性连接。2.根据权利要求1所述的一种粉体包覆装置，其特征在于，所述真空室内还包括加热器，所述加热器均匀环绕设置在所述粉体处理仓外侧。3.根据权利要求1所述的一种粉体包覆装置，其特征在于，所述粉体处理仓的顶部设置有分粉器，粉体从所述粉体循环管路经过所述分粉器分散均匀后落入所述粉体处理仓。4.根据权利要求1所述的一种粉体包覆装置，其特征在于，所述循环组件还包括两个控制阀门，所述两个控制阀门分别设置在所述循环泵两侧的粉体循环管路上。5.根据权利要求1所述的一种粉体包覆装置，其特征在于，所述发射源在同一水平面上沿所述真空室的中轴线对称设置有若干个，且其轴向所射出的粒子流的方向与真空室壁面法线呈5
°
～85
°
的向下倾角。6.根据权利要求1所述的一种粉体包覆装置，其特征在于，所述粉体处理仓侧壁窗口的位置不高于所述发射源在所述真空室内侧壁上的位置。7.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：杜昊，张怡，朗文昌，王玉江，李建新，路金林，魏世丞，尹衍升，
申请(专利权)人：广州航海学院，
类型：发明
国别省市：