基于鼻黏膜光电容积描记法的光衰指数预测系统及方法技术方案

本发明专利技术公开了医学检测数据处理技术领域的基于鼻黏膜光电容积描记法的光衰指数预测系统及方法，包括：获取用于预测的数据样本集；对用于预测的数据样本集的部分数据进行滑动平均滤波，得到滤波输出数据样本集；基于滤波输出数据样本集获取拟合函数后，计算拟合函数和滤波输出数据样本集各样本之间误差值的平方和；以所述误差值的平方和最小化为目标，计算拟合函数各参数的最优解；基于所述拟合函数各参数的最优解计算光衰指数稳态值的预测值。本发明专利技术较基于多项式拟合的准确度更高，且无需配置基于经验值的修正参数，所需的前阶段数据更少，可将鼻黏膜厚度测量时间缩短至原来的三分之一甚至更短，从而减轻了受检者的痛苦。从而减轻了受检者的痛苦。从而减轻了受检者的痛苦。

【技术实现步骤摘要】
基于鼻黏膜光电容积描记法的光衰指数预测系统及方法


[0001]本专利技术涉及基于鼻黏膜光电容积描记法的光衰指数预测系统及方法，属于医学检测数据处理


技术介绍

[0002]鼻炎、鼻窦炎和鼻腔过敏等鼻类疾患的发病率极高，因此鼻腔疾患诊测是医疗服务领域中较为频繁的活动，上述疾患的一个共同的病理特征是鼻黏膜水肿，其主要表象是鼻黏膜厚度增加，其主要症状是上细胞分泌物增加和上呼吸道阻塞，因此测量鼻黏膜厚度成为上述疾患诊测的主要手段。
[0003]鼻腔阻塞程度的测量，较为常用的传统的方法是前鼻测压法(简称鼻压法)和鼻声测量法(简称鼻声法)，例如文献[P.A.R.Clement，“Committee report on standardization of rhinomanometry，”Rhinology，vol.22，pp.151
–
155，1984.]提出的前鼻测压法(anterior rhinomanometry)，通过测量鼻压评估鼻腔气道的通畅度，口罩内埋设了压力传感器；文献[E.W.Fisher，“Acousti本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
B＝{b
m
：m＝1
…
M，b
r
‑
Δb<b
m
<b
r
+Δb}C＝{c
k
：c
k
＝t
k
，c
r
‑
kΔc≤t
k
≤c
r
+kΔc}其中，为参数b的最优解，为参数c的最优解，B为参数b的可选数据样本集，C为参数c的可选数据样本集，b
m
为可选数据样本集B中第m个数据样本，c
k
为可选数据样本集C中第k个数据样本，Δb为与粗略预测值b
r
的差值，其中b
r
采用如下公式计算：其中α和β为满足t
u
≤t
α
≤t
β
≤t
v
的时间样点序号，其选择原则是使得f
’
t
(t
α
)和f
’
t
(t
β
)的差值较大，符号f
’
t

【专利技术属性】
技术研发人员：顾斌，朱启文，李益飞，谭立容，嵇亮，陈婷婷，
申请(专利权)人：南京信息职业技术学院，
类型：发明
国别省市：