【技术实现步骤摘要】
光学玻璃、加压成形用玻璃原材料、光学元件毛坯及光学元件
[0001]本申请是申请日为2019年10月10日、申请号为201910957175.4、专利技术名称为“光学玻璃、加压成形用玻璃原材料、光学元件毛坯及光学元件”的申请的分案申请。
[0002]本专利技术涉及光学玻璃、加压成形用玻璃原材料、光学元件毛坯及光学元件。
技术介绍
[0003]折射率高且具有低色散性的光学玻璃(高折射率低色散玻璃)作为光学元件用材料是有用的。这样的高折射率低色散玻璃例如已被专利文献1公开。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:日本特开2009
‑
203155号公报
技术实现思路
[0007]专利技术要解决的问题
[0008]如专利文献1所公开那样的高折射率低色散玻璃可通过将由该玻璃形成的透镜与由超低色散玻璃形成的透镜等组合并制成接合透镜,从而补正色差,同时实现光学系统的小型化。
[0009]然而,对于专利文献1中记载的光学玻璃,在各种玻璃成分中大量含有价格较高的成分(例如Ta2O5)。然而,为了实现由高折射率低色散玻璃形成的光学元件的低成本化,期望在光学玻璃的玻璃组成中,减少高价的玻璃成分所占的比例。
[0010]本专利技术的一个实施方式提供在玻璃组成中高价的玻璃成分所占的比例低、折射率高、且具有低色散性的光学玻璃。
[0011]解决问题的方法
[0012]本专利技术的一个实施方式涉及一种光学玻璃 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光学玻璃,其中,在以阳离子%表示的该光学玻璃的玻璃组成中,Y
3+
含量为1~20阳离子%的范围,Ta
5+
含量为0~5阳离子%的范围,Zr
4+
含量为1~15阳离子%的范围,Si
4+
与B
3+
的总含量(Si
4+
+B
3+
)为28~45阳离子%的范围,La
3+
、Gd
3+
及Y
3+
的总含量(La
3+
+Gd
3+
+Y
3+
)为36~55阳离子%的范围,Ti
4+
、Nb
5+
、W
6+
及Bi
3+
的总含量(Ti
4+
+Nb
5+
+W
6+
+Bi
3+
)为10~28阳离子%的范围,Ti
4+
含量相对于Ti
4+
、Nb
5+
、W
6+
及Bi
3+
的总含量的阳离子比(Ti
4+
/(Ti
4+
+Nb
5+
+W
6+
+Bi
3+
))为0.60~1.00的范围,Si
4+
与B
3+
的总含量相对于La
3+
、Gd
3+
及Y
3+
的总含量的阳离子比((Si
4+
+B
3+
)/(La
3+
+Gd
3+
+Y
3+
))为0.70~0.95的范围,Si
4+
与B
3+
的总含量相对于Ti
4+
、Nb
5+
、W
6+
及Bi
3+
的总含量的阳离子比((Si
4+
+B
3+
)/(Ti
4+
+Nb
5+
+W
6+
+Bi
3+
))为1.10~2.00的范围,La
3+
、Gd
3+
及Y
3+
的总含量相对于Ti
4+
、Nb
5+
、W
6+
及Bi
3+
的总含量的阳离子比((La
3+
+Gd
3+
+Y
3+
)/(Ti
4+
+Nb
5+
+W
6+
+Bi
3+
))为1.00~2.00的范围,Mg
2+
、Ca
2+
、Sr
2+
、Ba
2+
及Zn
2+
的总含量相对于La
3+
与Y
3+
的总含量的阳离子比((M...
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