适用于牙科的氧化锆预烧体制造技术

本发明专利技术提供以短时间烧成具有适合的色调、透光性和强度的氧化锆预烧体。本发明专利技术涉及氧化锆预烧体，其具有含有氧化锆、和能够抑制氧化锆的相转变的稳定剂的至少3层的层叠结构，氧化锆的主要晶系为单斜晶系，前述层叠结构具有至少2层稳定剂相对于氧化锆和稳定剂的总计mol的含有率相互不同的层，前述层叠结构具有至少2层稳定剂相对于氧化锆和稳定剂的总计mol的含有率大致相同的层，稳定剂的含有率大致相同的所有层包含着色成分，且该层中的着色成分的组成相互不同。成分的组成相互不同。成分的组成相互不同。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】适用于牙科的氧化锆预烧体


[0001]本专利技术涉及适合用于牙科的氧化锆预烧体和其制造方法以及牙科用产品的制造方法。
[0002]氧化锆是在多个晶系间发生相转变的化合物。因此，在各种各样的领域中利用使氧化钇(氧化钇；Y2O3)等稳定剂固溶在氧化锆中而抑制相转变的部分稳定化氧化锆(PSZ；Partially
‑
Stabilized Zirconia)和完全稳定化氧化锆。
[0003]牙科领域中，氧化锆材料因高强度的特性，被用作框架材料。此外，近年来，随着氧化锆材料的透光性提高，仅用氧化锆制作牙科用补缀物的情况增多。专利文献1中，公开了每层氧化钇的含有率不同的氧化锆烧结体，通过从切端部向齿颈部减少氧化钇的含有率，作为牙科用补缀物表现出适当的透光性。专利文献2中，公开了每层氧化钇的含有率不同的包含颜料的氧化锆烧结体，通过从切端部向齿颈部减少氧化钇的含有率，作为牙科用补缀物表现出适当的透光性。
[0004]此外，仅氧化锆的牙科用补缀物的制作在牙科技工所进行的情况较多，但近年来在牙科医院简便制作的情况也增加，与此相伴地，短时间烧成氧化锆的需求提高。专利文献3中，公开了即使短时间烧成，透光性也高、适合于牙科用的氧化锆预烧体。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：美国专利申请公开第2013/0221554号说明书
[0008]专利文献2：美国专利申请公开第2016/0120765号说明书
[0009]专利文献3：国际公开第2018/056330号

技术实现思路

[0010]专利技术要解决的课题
[0011]如上所述，近年来，在牙科医院简便制作氧化锆制的牙科用补缀物的情况增加，需要仅用氧化锆维持强度，同时表现出优异的审美性。此外，为了应对在牙科医院的一日治疗等，需要能够短时间烧成。
[0012]专利文献1和2所述的氧化锆中，考虑了具有氧化钇的含有率不同的层，作为牙科用补缀物具有适当的透光性和强度，但存在的问题在于，进行烧成时，最高烧成温度下的保持时间为2小时，无法进行短时间烧成。此外，牙科用补缀物为了适合各种各样的天然齿，需要安排多个品种，但专利文献1和2所述的氧化锆的各层的氧化钇的含有率完全不同，存在无法完全应对牙科用补缀物中要求的各种各样的透光性、色调、强度的课题。
[0013]专利文献3所述的氧化锆预烧体中，氧化钇中的至少一部分未固溶在氧化锆中，即使以短时间(例如最高烧成温度下的保持时间30分钟)烧成，也能够制作具有与现有的烧成条件(最高烧成温度下的保持时间＝2小时)同等透光性的烧结体。但是，该烧结体的氧化钇的含有率从齿颈部至切端部为恒定的，存在无法兼顾切端部处要求的透光性和色调与齿颈部处要求的强度和色调的课题。
[0014]因此，要求即使以短时间烧成，烧成后的烧结体也具有适合用于牙科(特别是牙科医院中的使用)的色调、透光性和强度的氧化锆预烧体。
[0015]用于解决课题的手段
[0016]本专利技术人等为了解决上述课题而反复深入研究的结果发现，通过制成主要晶系为单斜晶系的氧化锆预烧体、和制成将各层的稳定剂和着色成分的含有率调整得适当的氧化锆预烧体，能够解决上述课题，基于该见解而进一步进行研究，完成了本专利技术。
[0017]即，本专利技术包括以下的专利技术。
[0018][1]氧化锆预烧体，其具有含有氧化锆和能够抑制氧化锆的相转变的稳定剂的至少3层的层叠结构，
[0019]氧化锆的主要晶系为单斜晶系，
[0020]前述层叠结构具有至少2层稳定剂相对于氧化锆和稳定剂的总计mol的含有率相互不同的层，
[0021]前述层叠结构具有至少2层稳定剂相对于氧化锆和稳定剂的总计mol的含有率大致相同的层，
[0022]稳定剂的含有率大致相同的所有层包含着色成分，且该层中的着色成分的组成相互不同。
[0023][2]根据[1]所述的氧化锆预烧体，其中，稳定剂的含有率大致相同的层彼此相邻。
[0024][3]根据[1]或[2]所述的氧化锆预烧体，其中，前述着色成分包含选自Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Pr、Tb和Er中的至少1种元素的氧化物、或(Zr，V)O2。
[0025][4]根据[1]～[3]中任一项所述的氧化锆预烧体，其中，前述氧化锆的55％以上为单斜晶系。
[0026][5]根据[1]～[4]中任一项所述的氧化锆预烧体，其中，前述氧化锆的75％以上为单斜晶系。
[0027][6]根据[1]～[5]中任一项所述的氧化锆预烧体，其中，前述稳定剂的含有率相互不同的层彼此具有相互不同的单斜晶系比例。
[0028][7]根据[1]～[6]中任一项所述的氧化锆预烧体，其中，前述层叠结构仅包含1层稳定剂的含有率最高的层。
[0029][8]根据[1]～[7]中任一项所述的氧化锆预烧体，其中，前述稳定剂的含有率最高的层不含着色成分。
[0030][9]根据[1]～[7]中任一项所述的氧化锆预烧体，其中，前述稳定剂的含有率最高的层包含着色成分。
[0031][10]根据[9]所述的氧化锆预烧体，其中，前述稳定剂的含有率最高的层中包含的着色成分的组成与其他层的着色成分的组成相互不同。
[0032][11]根据[1]～[10]中任一项所述的氧化锆预烧体，其中，前述稳定剂的至少一部分未固溶于氧化锆。
[0033][12]根据[1]～[11]中任一项所述的氧化锆预烧体，其中，在从前述氧化锆预烧体的一端向另一端的第1方向上延伸的直线上，
[0034]针对稳定剂的含有率相互不同的层，从前述一端向另一端稳定剂相对于氧化锆和稳定剂的总计mol的含有率的增减倾向不变化。
[0035][13]根据[1]～[12]中任一项所述的氧化锆预烧体，其中，前述稳定剂为氧化钇。
[0036][14]根据[13]所述的氧化锆预烧体，其中，在从前述氧化锆预烧体的一端向另一端的第1方向上延伸的直线上，
[0037]针对氧化钇的含有率相互不同的层，从前述一端向另一端稳定剂相对于氧化锆和稳定剂的总计mol的含有率的增减倾向不变化，
[0038]相对于前述氧化锆和前述氧化钇的总计mol，
[0039]包含前述一端的层的氧化钇的含有率为3.5mol％以上且6.5mol％以下，
[0040]包含前述另一端的层的氧化钇的含有率为2.5mol％以上且低于4.5mol％。
[0041][15]根据[14]所述的氧化锆预烧体，其中，在从前述氧化锆预烧体的一端向另一端的第1方向上延伸的直线上，
[0042]针对氧化钇的含有率相互不同的层，从前述一端向另一端稳定剂相对于氧化锆和稳定剂的总计mol的含有率的增减倾向不变化，
[0043]相对于前述氧化锆和前述氧化钇的总计mol，
[0044]包含前述一端的层与包含前述另一端的层的氧化钇的含有率的差为3.0mol％以下。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.氧化锆预烧体，其具有含有氧化锆和能够抑制氧化锆的相转变的稳定剂的至少3层的层叠结构，氧化锆的主要晶系为单斜晶系，前述层叠结构具有至少2层稳定剂相对于氧化锆和稳定剂的总计mol的含有率相互不同的层，前述层叠结构具有至少2层稳定剂相对于氧化锆和稳定剂的总计mol的含有率大致相同的层，稳定剂的含有率大致相同的所有层包含着色成分，且该层中的着色成分的组成相互不同。2.根据权利要求1所述的氧化锆预烧体，其中，稳定剂的含有率大致相同的层彼此相邻。3.根据权利要求1或2所述的氧化锆预烧体，其中，前述着色成分包含选自Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Pr、Tb和Er中的至少1种元素的氧化物、或(Zr,V)O2。4.根据权利要求1～3中任一项所述的氧化锆预烧体，其中，前述氧化锆的55％以上为单斜晶系。5.根据权利要求1～4中任一项所述的氧化锆预烧体，其中，前述氧化锆的75％以上为单斜晶系。6.根据权利要求1～5中任一项所述的氧化锆预烧体，其中，前述稳定剂的含有率相互不同的层彼此具有相互不同的单斜晶系的比例。7.根据权利要求1～6中任一项所述的氧化锆预烧体，其中，前述层叠结构仅包含1层稳定剂的含有率最高的层。8.根据权利要求1～7中任一项所述的氧化锆预烧体，其中，前述稳定剂的含有率最高的层不含着色成分。9.根据权利要求1～7中任一项所述的氧化锆预烧体，其中，前述稳定剂的含有率最高的层包含着色成分。10.根据权利要求9所述的氧化锆预烧体，其中，前述稳定剂的含有率最高的层中包含的着色成分的组成与其他层的着色成分的组成相互不同。11.根据权利要求1～10中任一项所述的氧化锆预烧体，其中，前述稳定剂的至少一部分未固溶于氧化锆。12.根据权利要求1～11中任一项所述的氧化锆预烧体，其中，在从前述氧化锆预烧体的一端向另一端的第1方向上延伸的直线上，针对稳定剂的含有率相互不同的层，从前述一端向另一端稳定剂相对于氧化锆和稳定剂的总计mol的含有率的增减倾向不变化。13.根据权利要求1～12中任一项所述的氧化锆预烧体，其中，前述稳定剂为氧化钇。14.根据权利要求13所述的氧化锆预烧体，其中，在从前述氧化锆预烧体的一端向另一端的第1方向上延伸的直线上，针对氧化钇的含有率相互不同的层，从前述一端向另一端稳定剂相对于氧化锆和稳定剂的总计mol的含有率的增减倾向不变化，相对于前述氧化锆和前述氧化钇的总计mol，
包含前述一端的层的氧化钇的含有率为3.5mol％以上且6.5mol％以下，包含前述另一端的层的氧化钇的含有率为2.5mol％以上且低于4.5mol％。15.根据权利要求14所述的氧化锆预烧体，其中，在从前述氧化锆预烧体的一端向另一端的第1方向上延伸的直线上，针对氧化钇的含有率相互不同的层，从前述一端向另一端稳定剂相对于氧化锆和稳定剂的总计mol的含有率的增减倾向不变化，相对于前述氧化锆和前述氧化钇的总计mol，包含前述一端的层与包含前述另一端的层的氧化钇的含有率的差为3.0mol％以下。16.根据权利要求13～15中任一项所述的氧化锆预烧体，其中，X射线衍射图中存在氧化钇的峰。17.根据权利要求13～16中任一项所述的氧化锆预烧体，其中，基于以下的数式(1)算出的f
y
大于0％，[数1]其中，I
y
(111)表示利用CuKα线的X射线衍射图中的2θ＝29
°
附近的氧化钇的(111)面的峰强度，I
m
(111)和I
m
(11
‑
1)表示前述X射线衍射图中的氧化锆的单斜晶系的(111)面和(11
‑
1)面的峰强度，I
t
(111)表示前述X射线衍射图中的氧化锆的四方晶系的(111)面的峰强度，I
c
(111)表示前述X射线衍射图中的氧化锆的立方晶系的(111)面的峰强度。18.根据权利要求17所述的氧化锆预烧体，其中，前述...

【专利技术属性】
技术研发人员：加藤新一郎，松本笃志，
申请(专利权)人：可乐丽则武齿科株式会社，
类型：发明
国别省市：