用于结构光的光源、结构光投影设备和系统技术方案

一种用于结构光的光源，所述光源包括布置成阵列的多个光源元件，其中所述光源元件被配置成在以下两种模式下驱动：

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于结构光的光源、结构光投影设备和系统


[0001]本专利技术涉及结构光硬件，具体来说，涉及用于结构光的光源、结构光投影设备和系统。

技术介绍

[0002]在结构光系统中，投影设备将例如网格或水平/垂直条的图案投影到场景，所述场景朝向获取图案的相机(例如基于帧或基于事件的传感器)反射图案。通过在相机的输出中找到图案的特定部分，可以从图案在相机中的位置及其在投影设备中的位置对空间中的点进行三角测量。通常，可以使用波长在可见光谱之外的结构光，以避免干扰投影图案会混淆的其它计算机视觉任务。
[0003]结构光系统具有许多应用。例如，它可以用于拍摄3D场景中的指纹。先前他们会使用胶带提取指纹并将指纹压平，现在他们可以使用相机并以数字方式压平指纹，从而防止物理地触摸和损坏指纹。此外，它还可以用于辨识用户的面部，以便以较高安全级别处理识别授权。
[0004]由于结构光系统具有许多技术特征和优点，因此从投影仪技术和全局系统性能(例如，输出深度图的密度)的视角来看，在用于投影的精确图案中需要进行很多权衡。
[0005]因此，对于本领域中本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于结构光的光源，所述光源包括布置成阵列的多个光源元件，其中所述光源元件被配置成在以下两种模式下驱动：
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校准模式，其中仅光源元件的一部分适合于被驱动；以及
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正常模式，其中其余所述光源元件适合于被驱动。2.根据权利要求1所述的光源，其特征在于，所述阵列是容纳所述光源元件的行和列的二维阵列。3.根据权利要求2所述的光源，其特征在于，所述光源元件的所述行和所述列在垂直于彼此的不同方向上延伸。4.根据权利要求2所述的光源，其特征在于，所述光源元件的所述行或所述列以固定间隔隔开。5.根据权利要求2至4中任一项所述的光源，其特征在于，在所述校准模式中，仅驱动所述光源元件的一个行或一个列。6.根据权利要求2至4中任一项所述的光源，其特征在于，在所述校准模式中，仅驱动在所述二维阵列的外围上的光源元件。7.根据权利要求1所述的光源，其特征在于，所述二维阵列布置成六角形网格的形式。8.根据权利要求1所述的光源，其特征在于，其进一步包括电连接到所述光源元件的驱动电路且包含第一子驱动电路和第二子驱动电路，其中在所述校准模式中，所述第一子驱动电路驱动光源元件的一部分，并且解除激活所述第二子驱动电路且不驱动其余光源元件；在所述正常模式中，所述第一子驱动电路驱动光源元件的所述一部分并且所述第二子驱动电路驱动其余光源元件。9.根据权利要求1所述的光源，其特征在于，在所述校准模式中，光源元件...

【专利技术属性】
技术研发人员：克斯阿维埃，
申请(专利权)人：普罗费塞公司，
类型：发明
国别省市：