基板清洗设备及其腔室隔离装置制造方法及图纸

本发明专利技术揭示的腔室隔离装置，包括基座，内部安装有垂直驱动单元；隔离门，在垂直驱动单元驱动下沿基座竖向移动；隔离门包括呈中空罩体的隔离门主体，当隔离门主体向下移动回缩至基座内部时，隔离门主体罩住垂直驱动单元；以及设置在隔离门主体顶部的上托盘，用于承接基板表面滴落的清洗液，上托盘的底部设有导流孔，导流孔连接导流管，导流管与设置在基座底部的排液总管连通。本发明专利技术还揭示了一种基板清洗设备。通过采用呈中空罩体的隔离门，将基座内部垂直驱动单元与外部环境隔离，并通过隔离门顶部的上托盘将基板表面滴落的清洗液及时导出腔室隔离装置，有效地避免清洗液与基座中的部件，尤其是垂直驱动单元接触，从而延长设备的使用寿命。备的使用寿命。备的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
基板清洗设备及其腔室隔离装置


[0001]本专利技术涉及半导体清洗
，更具体地，涉及一种基板清洗设备及其腔室隔离装置。

技术介绍

[0002]在半导体制造中，槽式湿法清洗工艺应用十分广泛，主要通过将基板有序浸入具有不同化学品的清洗槽，去除基板表面玷污，诸如颗粒、有机物、金属和自然氧化层等。参见图1，传统的槽式清洗设备中，横向排布有多个清洗槽11，基板通过搬运机械手15依次浸入多个清洗槽11，为配合不同的清洗工艺，常使用酸液、碱液、有机溶液等清洗液，由于某些清洗液容易挥发为气体，或某些清洗工序涉及高温清洗，清洗液蒸发为气体，若任由各清洗工艺区的气体自由扩散，会使得清洗设备内部不同清洗工艺区的环境氛围出现交叉污染，基于上述原因，在不同清洗工艺区之间设置隔离门12用以连通或切断相邻的清洗工艺区，在清洗设备内形成多个独立清洗工艺区，以防止不同工艺区的环境氛围相互干扰，影响基板的清洗效果。
[0003]图2和图3示出了基板在两个相邻工艺区之间转移的过程。每个工艺区均配置有风机过滤单元16，以维持各自工艺区内的环境氛围洁净。当基板10在第一工艺区17清洗完成后，第一工艺区17与第二工艺区18之间的隔离门12向下移动打开，搬运机械手15将基板10从第一工艺区17的清洗槽11转移到第二工艺区18的清洗槽11，在此期间，搬运机械手15将携带基板10跨越隔离门12的上方，基板10表面携带的部分清洗液将会滴落到隔离门12上，清洗液会沿着隔离门12的两侧渗入基座13内部，由于清洗液具有一定的化学腐蚀性，会损坏基座13内部的金属部件(如气缸14、滑轨、金属支撑板等)，影响隔离门12的使用寿命。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是提供一种基板清洗设备及其腔室隔离装置，以解决基板表面清洗液滴落后渗入隔离装置内部，影响其使用寿命的问题。
[0005]为了实现上述目的，本专利技术所提供的腔室隔离装置，设置于两个工艺腔室之间，用于切断或连通两个工艺腔室，包括：
[0006]基座，基座的内部安装有垂直驱动单元，基座的底部设置有排液总管；
[0007]隔离门，在垂直驱动单元驱动下沿基座竖向移动；所述隔离门包括：
[0008]隔离门主体，为中空的罩体，当隔离门主体向下移动回缩至基座内部时，隔离门主体罩住垂直驱动单元；
[0009]上托盘，设置在隔离门主体的顶部，上托盘的底部设有导流孔，导流孔连接导流管，导流管与基座底部的排液总管连通。
[0010]较佳地，在所述腔室隔离装置中，所述导流管包括：
[0011]导流外管，固定在基座上；
[0012]导流内管，固定在隔离门主体上，导流内管的下端嵌套在导流外管内部，导流内管
的上端与导流孔连通。
[0013]较佳地，在所述腔室隔离装置中，还包括保护盖，保护盖的上表面开设有第一导流槽，保护盖设置在隔离门主体上，并位于上托盘下方，当隔离门主体向下移动回缩至基座内部时，保护盖遮挡住隔离门主体与基座之间的运动间隙。
[0014]较佳地，在所述腔室隔离装置中，还包括排液管，排液管与第一导流槽相连通，保护盖沿基板运动方向的宽度大于上托盘的宽度。
[0015]较佳地，在所述腔室隔离装置中，还包括下托盘和排液管，下托盘设置在基座的顶部，下托盘的上表面开设有接液槽，保护盖位于下托盘的上方，且保护盖朝下托盘方向的正投影位于接液槽内，接液槽与排液管相连通，用于将下托盘内的清洗液排出。
[0016]较佳地，在所述腔室隔离装置中，还包括导流板，导流板设置在隔离门主体侧面的下方，导流板开设有第二导流槽。
[0017]较佳地，在所述腔室隔离装置中，所述上托盘包括内侧壁和外侧壁，内侧壁和外侧壁均呈斜坡面设置，外侧壁的坡度大于内侧壁的坡度，且内侧壁和外侧壁的上沿交汇形成尖端。
[0018]在本专利技术中，还提出了一种基板清洗设备，包括至少两个工艺腔室，相邻两个工艺腔室之间设置有上述任一项所述的腔室隔离装置。
[0019]本专利技术通过采用呈中空罩体的隔离门，将基座内部垂直驱动单元与外部环境隔离，与此同时，通过隔离门顶部设置的上托盘将基板表面滴落的清洗液及时导出腔室隔离装置，有效地避免清洗液与基座中的部件，尤其是垂直驱动单元接触，从而延长设备的使用寿命。
附图说明
[0020]图1为现有技术中清洗设备的平面示意图；
[0021]图2为现有技术中清洗设备内部基板转移的示意图；
[0022]图3为现有技术中清洗设备内部基板转移的另一示意图；
[0023]图4为本专利技术实施例一中隔离门完全升起时腔室隔离装置的透视图；
[0024]图5为图4的剖面图；
[0025]图6为本专利技术实施例一中导流管的示意图；
[0026]图7为图4中A处局部放大图；
[0027]图8为本专利技术实施例一中隔离门部分升起时的腔室隔离装置的透视图；
[0028]图9为本专利技术实施例一中隔离门完全缩回时的腔室隔离装置的透视图；
[0029]图10为图9中C处局部放大图；
[0030]图11为本专利技术实施例一中腔室隔离装置与清洗槽的位置关系图；以及
[0031]图12为本专利技术实施二中上托盘的截面示意图。
具体实施方式
[0032]为详细说明本专利技术的
技术实现思路
、构造特征、所达成目的及效果，下面将结合实施例并配合图式予以详细说明。
[0033]实施例一
[0034]图4示出了腔室隔离装置20中隔离门21完全升起的状态，当隔离门21完全升起时，其两侧工艺腔室(图未示出)的环境氛围被切断。腔室隔离装置20包括隔离门21和基座22。具体地，隔离门21包括隔离门主体211，隔离门主体211采用耐化学腐蚀材料(如PVC)，为中空的罩体；基座22为中空的壳体，隔离门主体211收容于基座22中并可沿基座22上下移动。
[0035]图5示出了腔室隔离装置20的内部结构。基座22内部设置有垂直驱动单元222，用于驱动隔离门21沿基座22竖直方向移动。垂直驱动单元222主要由垂直致动器2221和垂直导向组件2222两部分构成，在本实施例中，垂直致动器2221采用气缸，垂直导向组件2222采用直线导轨，垂直致动器2221和垂直导向组件2222均通过滑块(图未示出)与隔离门21相固定，为提高隔离门21移动的稳定性并降低对垂直致动器2221的扭力，垂直导向组件2222与滑块的间隙配合精度大于垂直致动器2221与滑块的间隙配合精度。
[0036]参见图8，当隔离门主体211向下移动缩回到基座22内时，隔离门主体211能够将基座22内部的垂直驱动单元222罩住，从而将垂直驱动单元222与外部环境隔离，避免溅射到隔离门21上的清洗液腐蚀垂直驱动单元222。此外，隔离门主体211侧面的下方设置有导流板214，且导流板214位于基座22内部，导流板214开设有第二导流槽2141。通过设置导流板214，当隔离门主体211收回至基座22内部时，残留在隔离门主体211表面的清洗液会沿本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种腔室隔离装置，设置于两个工艺腔室之间，用于切断或连通两个工艺腔室，其特征在于，包括：基座，基座的内部安装有垂直驱动单元，基座的底部设置有排液总管；隔离门，在垂直驱动单元驱动下沿基座竖向移动；所述隔离门包括：隔离门主体，为中空的罩体，当隔离门主体向下移动回缩至基座内部时，隔离门主体罩住垂直驱动单元；上托盘，设置在隔离门主体的顶部，上托盘的底部设有导流孔，导流孔连接导流管，导流管与基座底部的排液总管连通。2.根据权利要求1所述的腔室隔离装置，其特征在于，所述导流管包括：导流外管，固定在基座上；导流内管，固定在隔离门主体上，导流内管的下端嵌套在导流外管内部，导流内管的上端与导流孔连通。3.根据权利要求1所述的腔室隔离装置，其特征在于，还包括保护盖，保护盖的上表面开设有第一导流槽，保护盖设置在隔离门主体上，并位于上托盘下方，当隔离门主体向下移动回缩至基座内部时，保护盖遮挡住隔离门主体与基...

【专利技术属性】
技术研发人员：李亚洲，王鹤，王俊，李承熙，王晖，
申请(专利权)人：盛帷半导体设备上海有限公司盛美半导体设备韩国有限公司清芯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：