基于特征出现率的印章印文量化检验鉴定方法技术

基于特征出现率的印章印文量化检验鉴定方法属于法庭科学领域中印章印文量化检验鉴定方法，尤其涉及一种基于特征出现率的印章印文量化检验鉴定方法。本发明专利技术提供一种客观、标准的印章印文量化检验鉴定方法。本发明专利技术包括以下步骤：1）构建印章印文特征层次结构与价值评估分析模型；2）确定印章印文特征的权重值；3）建立印章印文特征出现率与符合度值对应关系；4）制作层次特征比对表，计算印章印文特征出现率与符合度值关联值；5）确立关联值与检验鉴定意见的对应关系。意见的对应关系。意见的对应关系。

【技术实现步骤摘要】
基于特征出现率的印章印文量化检验鉴定方法


[0001]本专利技术属于法庭科学领域中印章印文量化检验鉴定方法，尤其涉及一种基于特征出现率的印章印文量化检验鉴定方法。

技术介绍

[0002]印章在我国有着悠久的历史，从古至今印章一直被普遍使用，在人们社会经济活动中签订重要文件，特别是单位与单位之间、公司与公司之间，除了签名外，盖章仍是一种不可或缺的重要行为，往往代表一种法律行为，是对文件内容的一种确认方式。因此，印章印文鉴定仍是当前文书司法鉴定领域最常见的鉴定项目，在各类民事、经济等诉讼案件的审判、仲裁和公证、房地产、工商登记等有关公共事务的处理中都起着十分重要的证据作用。
[0003]在现代机制印章中，常见的印章包括机械雕刻印章、激光雕刻印章、原子印章(渗透印章)、光敏印章、钢印印章、回墨印章等，印章的制作材料常见的有木质、橡胶、塑料以及各类储墨垫、光敏材料等。传统的印章印文检验主要是依据印文的规格性特征与细节特征进行比对分析。但随着现代制章技术的快速发展，如激光雕刻制章技术、光敏印章制作技术等，仿制印章的水平也越来越高，高仿真印章基本可以做到与被仿制印章的大小规格相同，印文的细节特征反映基本一致，难以区分，给检验工作带来了极大困难。
[0004]目前，印章印文检验鉴定主要依据鉴定技术人员的专门知识和经验，由于印章印文检验鉴定过程主要是根据专家经验定性判断为主，缺少以客观统计数据为基础的量化评测与量化比较方法，从而使检验鉴定意见缺少令人信服的客观依据，或者在发生鉴定意见分歧时，没有一个客观的量化标准来统一认识，常常给侦查和审判工作造成困难。

技术实现思路

[0005]本专利技术就是针对上述问题，提供一种客观、标准的印章印文量化检验鉴定方法。
[0006]为实现上述目的，本专利技术采用如下技术方案，本专利技术包括以下步骤：
[0007]1)构建印章印文特征层次结构与价值评估分析模型；
[0008]2)确定印章印文特征的权重值；
[0009]3)建立印章印文特征出现率与符合度值对应关系；
[0010]4)制作层次特征比对表，计算印章印文特征出现率与符合度值关联值；
[0011]5)确立关联值与检验鉴定意见的对应关系。
[0012]作为一种优选方案，本专利技术所述步骤1)包括：设定目标层——印章印文特征层次结构与价值；确定中间层——宏观层次特征、中观层次特征和微观层次特征；细化方案层——宏观层次特征包括的特征、中观层次特征包括的特征、微观层次特征包括的特征。
[0013]作为另一种优选方案，本专利技术所述宏观层次特征为总体特征，中间层次特征为外形、内容、空间、时间特征，微观层次特征为二维、三维特征。
[0014]作为另一种优选方案，本专利技术所述方案层中的宏观层次特征包括：H1印文的整体
布局；H2印文的内容；H3印文的总体浓淡；
[0015]方案层中的中观层次特征包括：Z1印文单字的形体与尺寸；Z2印文单字的成分与结构；Z3印文单字的搭配与比例；Z4印文边框及附加图案；
[0016]方案层中的微观层次特征包括：W1印文单字基本笔画形态；W2印文单字连接部位形态；W3印文磕碰及磨损痕迹；W4印文异物附着痕迹。
[0017]作为另一种优选方案，本专利技术所述步骤2)采用1至9级标度法和根方法确定。
[0018]作为另一种优选方案，本专利技术所述步骤3)印章印文特征出现率值计算公式如下：
[0019][0020]P
i
代表：印章印文特征出现率值；
[0021]p
i
代表：特征的出现率(小于1的小数，小数点后面取四位)；
[0022]特征出现率：某一个具体印章印文特征出现的概率；
[0023]n代表：特征数量；
[0024]印章印文特征的符合度值计算公式如下：
[0025][0026]C
i
代表：印章印文特征符合度值；
[0027]c
i
代表：特征的符合度数值，为百分制；
[0028]特征的符合度：在检验鉴定过程中，检材印文中的某个特征与样本印文中该特征符合的程度。
[0029]n代表：特征数量。
[0030]作为一种优选方案，本专利技术步骤4)计算印章印文特征出现率与符合度值关联值采用以下公式：
[0031]V
i
＝(1
‑
P
i
)
×
C
i
[0032]V
i
代表：关联值。
[0033]其次，本专利技术计算印章印文特征出现率与符合度值关联值V
i
后，分别计算宏观V
H
、中观V
Z
、微观V
W
各层次特征关联值，最后计算特征量化关联总值V：
[0034]宏观层次特征关联值：V
H
＝(v
h1
×
h1+v
h2
×
h2+v
h3
×
h3+v
h4
×
h4)
×
H
[0035]中观层次特征关联值：V
z
＝(v
z1
×
z1+v
z2
×
z2+v
z3
×
z3+v
z4
×
z4)
×
Z
[0036]微观层次特征关联值：V
W
＝(v
w1
×
w1+v
w2
×
w2+v
w3
×
w3+v
w4
×
w4)
×
W
[0037]V的计算公式为：V＝V
H
+V
Z
+V
W
[0038]h1～h3，z1～z4，w1～w4分别代表相应特征的权重值；
[0039]vh1～vh3分别为h1～h3的特征价值量化值；
[0040]vz1～vz4分别为z1～z4的特征价值量化值；
[0041]vw1～vw4分别为w1～w4的特征价值量化值；
[0042]V
H
为宏观层次特征的权重；
[0043]V
z
为中观层次特征的权重；
[0044]V
W
为微观层次特征的权重
[0045]见后续表2。
[0046]另外，本专利技术特征量化关联总值V与检验鉴定意见的对应关系为：100＞v ≥90肯定同一；90≥v≥60无法作出鉴定结论或可能肯定同一；60≥v≥40无法作出鉴定结论；40≥v≥10无法作出鉴定结论或可能否定同一；10≥v＞0否定同一。
[0047]本专利技术有益效果。
[0048]本专利技术运用现代系统科学理论和相关数学方法，建立以印章印文特征本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.基于特征出现率的印章印文量化检验鉴定方法，其特征在于包括以下步骤：1)构建印章印文特征层次结构与价值评估分析模型；2)确定印章印文特征的权重值；3)建立印章印文特征出现率与符合度值对应关系；4)制作层次特征比对表，计算印章印文特征出现率与符合度值关联值；5)确立关联值与检验鉴定意见的对应关系。2.根据权利要求1所述基于特征出现率的印章印文量化检验鉴定方法，其特征在于所述步骤1)包括：设定目标层——印章印文特征层次结构与价值；确定中间层——宏观层次特征、中观层次特征和微观层次特征；细化方案层——宏观层次特征包括的特征、中观层次特征包括的特征、微观层次特征包括的特征。3.根据权利要求2所述基于特征出现率的印章印文量化检验鉴定方法，其特征在于所述宏观层次特征为总体特征，中间层次特征为外形、内容、空间、时间特征，微观层次特征为二维、三维特征。4.根据权利要求2所述基于特征出现率的印章印文量化检验鉴定方法，其特征在于所述方案层中的宏观层次特征包括：H1印文的整体布局；H2印文的内容；H3印文的总体浓淡；方案层中的中观层次特征包括：Z1印文单字的形体与尺寸；Z2印文单字的成分与结构；Z3印文单字的搭配与比例；Z4印文边框及附加图案；方案层中的微观层次特征包括：W1印文单字基本笔画形态；W2印文单字连接部位形态；W3印文磕碰及磨损痕迹；W4印文异物附着痕迹。5.根据权利要求1所述基于特征出现率的印章印文量化检验鉴定方法，其特征在于所述步骤2)采用1至9级标度法和根方法确定。6.根据权利要求1所述基于特征出现率的印章印文量化检验鉴定方法，其特征在于所述步骤3)印章印文特征出现率值计算公式如下：P
i
代表：印章印文特征出现率值；p
i
代表：特征的出现率(小于1的小数，小数点后面取四位)；特征出现率：某一个具体印章印文特征出现的概率；n代表：特征数量；印章印文特征的符合度值计算公式如下：C
i
代表：印章印文特征符合度值；c
i
代表：特征的符合度数值，为百分制；特征的符合度：在检验鉴定过程中，检材印文中的某个特征与样本印文中该特征符合的程度。n代表：特征数量。
7.根据权利要求1所述基于特征出现率的印章印文量化检验鉴定方法，其特征在于步骤4)计算印章印文特征出现率与符合度值关联值采用以下公式：V
i
＝(1
‑
P
i
)
...

【专利技术属性】
技术研发人员：于彬，
申请(专利权)人：中国刑事警察学院，
类型：发明
国别省市：