【技术实现步骤摘要】
一种混气装置、方法及半导体工艺系统
[0001]本专利技术涉及半导体生产
,尤其涉及一种混气装置、方法及半导体工艺系统。
技术介绍
[0002]在半导体生产工艺中,一般会用到混合气体,例如20PPM~200PPM的PH3/H2、B2H6/H2等、3%~5%的H2/N2等等不同比例的混合气体。对于外延设备而言,其会用到很多低浓度的PH3/H2、B2H6/H2。半导体工艺在使用这些气体时,对气体浓度的稳定性有很高的要求,一般气体的供应方式是40L或47L的成品混气钢瓶。
[0003]在每次钢瓶使用完后,都需要对管路重新进行吹扫置换,以清除管路内残存的混合气体,然后进行钢瓶更换。然而,一旦用气量增大,若无法使用大钢瓶进行供气,则更换钢瓶的频率就会增加,不仅增加工艺成本,还会影响到工艺的效率。
[0004]此外,由于部分混合气体有保质期。若长时间不使用混合气体,混合气体会分解,进而影响气体浓度,无法保证气体浓度的精确性,从而影响工艺效率。
[0005]为了解决上述问题,现有技术中采用现场混气的方式。一般 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种混气装置,其特征在于,包括:第一气体输送单元,用于向下游输送第一气源;第二气体输送单元,用于向下游输送第二气源;浓度监测单元,所述浓度监测单元与所述第二气体输送单元连通,用于监测所述第二气源的浓度;混合缓冲单元,所述混合缓冲单元分别与所述第一气体输送单元、所述第二气体输送单元连通,用于将所述第一气源和所述第二气源混合以得到混合气源,并将所述混合气源向工艺腔室输送;排气单元,所述排气单元分别与所述第一气体输送单元、所述第二气体输送单元、所述混合缓冲单元连通;泄压单元,所述泄压单元分别与所述第一气体输送单元、所述第二气体输送单元、所述混合缓冲单元、所述排气单元连通;吹扫单元,所述吹扫单元分别与所述第一气体输送单元、所述第二气体输送单元连通。2.根据权利要求1所述的混气装置,其特征在于,所述第一气体输送单元包括:第一气体输送元件,与所述混合缓冲单元连通,用于向所述混合缓冲单元输送第一气源;第一阀元件,所述第一阀元件设置于分别与所述第一气体输送元件、所述混合缓冲单元连通的管路,用于控制管路开闭;第二阀元件,所述第二阀元件设置于分别与所述第一气体输送元件、所述混合缓冲单元连通的管路,并位于所述第一阀元件的下游,用于控制管路开闭;第一压力监测元件,所述第一压力监测元件设置于分别与所述第一气体输送元件、所述混合缓冲单元连通的管路,用于监测管路压力;第一流量监测元件,所述第一流量监测元件设置于分别与所述第一气体输送元件、所述混合缓冲单元连通的管路,用于监测所述第一气源的流量。3.根据权利要求1所述的混气装置,其特征在于,所述第二气体输送单元包括:第二气体输送元件,与所述混合缓冲单元连通,用于向所述混合缓冲单元输送第二气源;第三阀元件,所述第三阀元件设置于分别与所述第二气体输送元件、所述混合缓冲单元连通的管路,用于控制管路开闭;第四阀元件,所述第四阀元件设置于分别与所述第二气体输送元件、所述混合缓冲单元连通的管路,并位于所述第三阀元件的下游,用于控制管路开闭;第二压力监测元件,所述第二压力监测元件设置于分别与所述第二气体输送元件、所述混合缓冲单元连通的管路,用于监测管路压力;第二流量监测元件,所述第二流量监测元件设置于分别与所述第二气体输送元件、所述混合缓冲单元连通的管路,用于监测所述第二气源的流量。4.根据权利要求1所述的混气装置,其特征在于,所述混合缓冲单元包括:混合缓冲元件,所述混合缓冲元件分别与所述第一气体输送单元、所述第二气体输送单元、所述排气单元、所述泄压...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈亮,范威威,纪雪峰,
申请(专利权)人:上海良薇机电工程有限公司,
类型:发明
国别省市:
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