基于能量法的材料辐射性能测量装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基于能量法的材料辐射性能测量装置，包括真空罩和制冷机，真空罩内设有铜屏，铜屏内设有测量组件；制冷机，与真空罩相连接，且制冷机的制冷端与测量组件相连接；测量组件包括黑体、至少一个样品台、反射机构以及测量机构，反射机构适于转至黑体或者样品台，接收黑体或者样品台发射的辐射能量并传输至测量机构。通过上述方式，真空罩内设有测量组件，且测量组件包括至少一个样品台和黑体，反射机构可以转至黑体或者样品台对黑体和样品台发射的辐射能量向测量机构进行传输，以实现对黑体和样品台上放置的材料样品辐射能量的测量，进而对比黑体与样品台上放置样品的辐射能量，实现低温下样品表面辐射性能的测量。实现低温下样品表面辐射性能的测量。实现低温下样品表面辐射性能的测量。

【技术实现步骤摘要】
基于能量法的材料辐射性能测量装置


[0001]本专利技术涉及材料辐射性能测量
，尤其涉及一种基于能量法的材料辐射性能测量装置。

技术介绍

[0002]对材料表面的辐射性能进行测试主要是对材料表面发射率进行测试。发射率可以分为光谱定向发射率、全波长定向发射率、光谱半球发射率与全波长半球发射率，其中，半球向发射率可认为与法向发射率近似相等。在实际中，材料的发射率受到多种因素影响，针对材料表面发射率的测量，目前主要有量热法、反射法和能量法。
[0003]量热法由于其简单易用、测温范围宽的特性，被广泛使用于材料表面全波长半球发射率测量，但量热法样品制作繁琐，测试时间长，且仅能测量全波长半球发射率，无法对光谱发射率或定向发射率进行测量，对其使用范围有一定的限制。
[0004]反射法是一种间接测量发射率的方法，通过将已知强度的辐射能量投射到待测样品表面，使用反射计对样品表面反射的能量进行测量，进而求得样品表面的反射率ρ，再利用基尔霍夫定律，即可求得样品表面的发射率ε。但由于反射法仅适用于不透明样品表面发射率测量，在对透明样品进行测试时本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于能量法的材料辐射性能测量装置，其特征在于，包括：真空罩，内设有铜屏，所述铜屏内设有测量组件；制冷机，与所述真空罩相连接，且所述制冷机的制冷端与所述测量组件相连接；所述测量组件包括黑体、至少一个样品台、反射机构以及测量机构，所述反射机构适于转至所述黑体或者所述样品台，接收所述黑体或者所述样品台发射的辐射能量并传输至测量机构。2.根据权利要求1所述的基于能量法的材料辐射性能测量装置，其特征在于，还包括架体，所述架体顶部设置有所述真空罩，所述架体远离所述真空罩的一侧设置所述制冷机；所述架体顶部设有支撑平台，所述支撑平台用于支撑所述铜屏，所述铜屏内还设有与所述支撑平台相连接的测量台，所述黑体、所述样品台以及所述反射机构放置于所述测量台，所述测量机构安装于所述真空罩且接收端延伸至所述铜屏内侧。3.根据权利要求2所述的基于能量法的材料辐射性能测量装置，其特征在于，所述支撑平台与所述架体之间以及所述支撑平台与所述测量台之间均通过环氧树脂杆连接。4.根据权利要求2所述的基于能量法的材料辐射性能测量装置，其特征在于，所述反射机构包括与所述测量台固定连接的第一反射金镜以及与所述测量台转动连接的第二反射金镜；所述第一反射金镜位于所述第二反射金镜正上方，所述第一反射金镜具备第一反射面，所述第二反射金镜具备朝向所述第一反射面且与所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵雨晨，李来风，张恒成，沈福至，黄荣进，
申请(专利权)人：中国科学院理化技术研究所，
类型：发明
国别省市：