干涉测量装置制造方法及图纸

干涉测量装置(1)以及测量方法，该干涉测量装置用于测量具有两个相对表面(20、30)的光学元件(10)的表面(20、30)或轮廓，该测量方法包括步骤：

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】干涉测量装置


[0001]本公开内容涉及干涉测量装置的领域，尤其涉及用于通过来自物体的表面的电磁辐射的反射来测量物体的表面、距离和/或轮廓的光纤实施的干涉测量装置。

技术介绍

[0002]对于诸如透镜的光学元件的光学表面的质量控制和精度测量越来越重要，尤其是对于大规模生产的光学元件。此可尤其适用于非常小尺寸的光学元件，这些光学元件可用于例如小型相机系统、成像系统和/或显示系统中。
[0003]例如，专利DE 10 2011 011 065 B4公开了用于测量安装在载具上的物体的至少一个表面区段的设备。该设备包括：基准物体，相对于载具可固定；以及，支架，在至少第一方向上相对于该基准物体可移动。
[0004]基准主体和距离传感器(相对于彼此以可旋转方式被安装)被布置在支架上。距离测量装置被配置以确定距物体的表面上的第一点的第一距离，以及确定基准主体上与物体上的第一点相对应的第二点的第二距离。为此，距离测量装置包括第一距离传感器和第二距离传感器，其中的一个面向物体，另一个面向基准主体。利用这样的设备，能够以高精度且以无接触的方式光学地本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种测量光学元件(10)的表面(20、30)或轮廓(P)的方法，其中所述光学元件(10)包括第一表面(20)以及与所述第一表面(20)相对的第二表面(30)，所述方法包括以下步骤：
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在所述光学元件(10)的测量表面(11)上限定至少第一测量点(21、31)、第二测量点(22、32)和第三测量点(23、33)，所述测量表面(20、30)是所述第一表面(20)和所述第二表面(30)中的一个，
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通过将来自测量头(60)的测量光束(61)引导至所述第一测量点(21、31)上且通过检测在所述第一测量点(21、31)处所反射的测量光束部分(62)来测量所述第一测量点(21、31)的第一位置，
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随后通过将所述测量光束(61)分别引导至所述第二测量点(22、32)和所述第三测量点(23、33)上且通过分别检测在所述第二测量点(22、32)和所述第三测量点(23、33)处所反射的测量光束部分(62)来测量至少所述第二测量点(22、32)的第二位置和所述第三测量点(23、33)的第三位置，
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基于至少所述第一位置、所述第二位置和所述第三位置，确定所述测量表面(11)相对于基准轴(51)的偏心(D)和倾斜(T)中的至少一个。2.根据权利要求1所述的方法，其中对所述第一位置、所述第二位置和所述第三位置中的至少一个的测量包括将所述测量光束(61)分别聚焦至所述第一测量点(21、31)、所述第二测量点(22、32)和所述第三测量点(23、33)中的至少一个上，且分别检测在所述第一测量点(21、31)、所述第二测量点(22、32)和所述第三测量点(23、33)中的至少一个处所逆向反射的对应的测量光束部分(62)。3.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述光学元件(10)的所述第一表面(20)和所述第二表面(30)中的一个面朝所述测量头(60)，且其中所述第一表面(20)和所述第二表面(30)中背对所述测量头(60)的另一个是所述测量表面(11)，且其中所述第一位置、所述第二位置和所述第三位置是通过将所述测量光束(61)引导至第一目标点(26、36)、第二目标点(27、37)、第三目标点(28、38)上来测量的，且其中所述第一目标点、第二目标点和第三目标点(26、27、28、36、37、38)位于所述第一表面(20)和所述第二表面(30)中面朝所述测量头(60)的一个上，且其中所述测量光束(61)穿过所述光学元件(10)的介质(63)传播。4.根据权利要求3所述的方法，其中位于所述第一表面(20)和所述第二表面(30)中面朝所述测量头(60)的一个上的所述第一目标点、第二目标点和第三目标点(26、27、28、36、37、38)的位置是基于以下确定的：
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所述光学元件(10)的介质(63)的折射率，
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所述测量光束(61)在所述第一目标点、第二目标点和第三目标点(26、27、28、36、37、38)上的入射角，以及
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所述第一表面(20)和所述第二表面(30)中的至少一个在所述第一测量点、第二测量点或第三测量点(21、22、23、31、32、33)和/或目标点(26、27、28、36、37、38)的区域中的局部表面轮廓。5.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中在所述测量表面(11)上限定了第一测量路径(25、35)和第二测量路径(29、39)，其中所述第一测量点、第二测量点或第三测量点(21、22、31、32)中的至少两个位于所述第一测量路径(25、35)上，且所述第一测量点、第二测量点或第三测量点(23、33)中的至少一个位于所述第二测量路径(29、39)上。
6.根据权利要求5所述的方法，其中所述第一测量路径(25、35)和所述第二测量路径(29、39)中的至少一个是闭合的测量路径。7.根据权利要求5或6所述的方法，其中所述第一测量路径(25、35)和所述第二测量路径(29、39)相对于所述光学元件(10)的光轴(c)或者相对于基准轴(51)是同心的。8.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中所述光学元件(10)被附接至支座(40)，所述支座(40)被布置在测量台(50)上，所述测量台(50)相对于旋转轴(53)可旋转，其中所述支座(40)相对于所述旋转轴(53)的径向位置(r)和取向(a,b)中的至少一个被调整，以最小化所述光学元件(10)的所述偏心(D)和所述倾斜(T)中的至少一个。9.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中在第一测量程序中，确定所述第一表面(20)和所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：T，
申请(专利权)人：泰勒，
类型：发明
国别省市：