一种合成孔径光电探测装置制造方法及图纸

本发明专利技术提出一种合成孔径光电探测装置，属于光电探测技术领域，包括大孔径光学系统、光电探测器和子孔径光学系统；子孔径光学系统包括第一反射光学元件和第二反射光学元件，子孔径光学系统的入射光轴和出射光轴平行，且与大孔径光学系统光轴平行；每组子孔径光学系统中第一反射光学元件的光轴彼此平行，探测同一目标；所有子孔径光学系统出口与大孔径光学系统入口对接，每组子孔径光学系统的出射光经大孔径光学系统收集后汇聚于同一光电探测器上。本发明专利技术解决了现有光电探测装置在有限的布置空间内布局光学系统时光学孔径小、对目标辐射能量捕获能力不足的问题。量捕获能力不足的问题。量捕获能力不足的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种合成孔径光电探测装置


[0001]本专利技术涉及光电探测
，具体涉及一种合成孔径光电探测装置。

技术介绍

[0002]以制导产品为代表的光电探测产品中，在产品的主体区域内已经配备了某种方式的探测装置(如微波雷达)，在产品外包络尺寸不得增加、该探测装置无法更改布置位置且前方不得遮挡的前提下，需要增加光电探测装置，因此光电探测功能模块只能布置在现有探测装置的周边区域。
[0003]光电探测装置对目标辐射能量的捕获能力与光学孔径大小直接相关，即光学系统孔径越大，光电探测装置对目标辐射能量的捕获能力越强，光电探测能力越强。由于现有探测装置周边区域尺寸有限，如果仅仅布置一个光电探测装置，其光学孔径太小，导致光电探测装置对目标辐射能量捕获能力严重不足，不能满足使用要求。如果在周边布置几个光电探测装置，每个光电探测装置独立获取来自目标辐射能量，并不能提高对目标辐射能量的光电探测能力。因此，光学系统孔径增大的需求和有限的布置空间成为待解决的矛盾。
[0004]公开于该
技术介绍
部分的信息仅仅旨在于加深对本专利技术总体
技术介绍
的理解，而不本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种合成孔径光电探测装置，其特征在于，包括大孔径光学系统(2)、光电探测器(3)和成组设置的子孔径光学系统(1)；每组子孔径光学系统(1)构成一个光学支路，包括第一反射光学元件(4)和第二反射光学元件(5)，用于折转入射光束，子孔径光学系统(1)的入射光轴和出射光轴平行，且与大孔径光学系统(2)光轴平行；每组子孔径光学系统(1)中第一反射光学元件(4)的光轴彼此平行，探测同一目标；所有子孔径光学系统(1)出口与大孔径光学系统(6)入口对接，每组子孔径光学系统(1)的出射光经大孔径光学系统(2)收集后汇聚于同一光电探测器(3)上。2.根据权利要求1所述的合成孔径光电探测装置，其特征在于，所述第一反射光学元件(4)和第二反射光学元件(5)均为平面反射镜。3.根据权利要求1所述的合成孔径光电探测装置，其特征在于，所述第一反射光学元件(4)和第二反射光学元件(5)均为反射棱镜。4.根据权利要求1所述的合成孔径光电探测装置，其特征在于，所述光电探测器(3)为单像元探测器。5.根据权利要求1所述的合成孔径光电探测装置，其特征在于，所述光电探测器(3)为线阵探测器。6.根据权利要求1所述的合成孔径光电探测装置，其特征在于，所述光电探测器(3)为面阵探测器。7.根据权利要求1～6其中任意一项权利要求所述的合成孔径光电探测装置，其特征在于，所述第一反射...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘怡轩，
申请(专利权)人：北京遥感设备研究所，
类型：发明
国别省市：