显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及显示装置。该显示装置包括：辅助布线、连接图案、发光层、上公共层以及上电极。该显示装置还包括子像素区域和接触区域。辅助布线布置在显示装置的基板上、接触区域中。连接图案布置在辅助布线上。发光层布置在基板上、子像素区域中。上公共层布置在发光层和连接图案上，并且包括暴露连接图案的开口。上电极布置在上公共层上，并且通过穿过开口来接触连接图案。接触连接图案。接触连接图案。

【技术实现步骤摘要】
显示装置


[0001]实施例总体上涉及一种显示装置和一种制造显示装置的方法。更具体地，本公开的实施例涉及一种包括辅助布线的显示装置和一种制造包括辅助布线的显示装置的方法。

技术介绍

[0002]平板显示装置由于其轻重量和薄的特性而被用作用于取代阴极射线管显示装置的显示装置。作为这类平板显示装置的代表性示例，存在液晶显示装置、有机发光二极管显示装置和量子点显示装置等。
[0003]近来，已经开发了具有大尺寸和高分辨率的显示装置。显示装置可以包括显示区域和焊盘区域等。在这种情况下，像素可以布置在显示区域中，并且图像可以通过像素显示。另外，电连接到像素的信号布线和电源布线可以布置在显示区域的最外围处。此外，焊盘电极可以布置在焊盘区域中。外部装置可以生成信号和电源电压等，并且通过焊盘电极和布线将信号和电源电压提供到像素。
[0004]随着显示区域的尺寸由于显示装置的扩大而增加，可能引起电压降。
[0005]将理解，在某种程度上，本
技术介绍
部分旨在为理解技术提供有用的背景。然而，本
技术介绍
部分还可以包括在本文所公开的主题的对应有效提交日期之前，不属于相关领域的技术人员已知或理解的部分的思想、构思或认识。

技术实现思路

[0006]实施例提供了一种能够防止电压降的显示装置。
[0007]实施例提供了一种制造具有降低的制造成本的显示装置的方法。
[0008]根据本公开的实施例，一种显示装置，包括：辅助布线、连接图案、发光层、上公共层以及上电极。该显示装置还包括子像素区域和接触区域。辅助布线布置在显示装置的基板上、接触区域中。连接图案布置在辅助布线上。发光层布置在基板上、子像素区域中。上公共层布置在发光层和连接图案上，并且包括暴露连接图案的开口。上电极布置在上公共层上，并且通过穿过开口来接触连接图案。
[0009]在实施例中，上公共层的开口可以与连接图案和上电极在平面图中彼此重叠的部分邻近。
[0010]在实施例中，显示装置可以进一步包括：像素限定层，布置在基板与上电极之间，并且可以具有形成在子像素区域中的第一开口以及形成在接触区域中的第二开口。
[0011]在实施例中，发光层可以仅布置在第一开口中，并且上公共层可以布置在第一开口和第二开口两者中。
[0012]在实施例中，像素限定层可以在平面图中与连接图案的侧部重叠。
[0013]在实施例中，显示装置可以进一步包括：下电极，布置在子像素区域中、基板与发光层之间。
[0014]在实施例中，下电极和连接图案可以位于同一层上。
[0015]在实施例中，显示装置可以进一步包括：下公共层，布置在子像素区域中、下电极与发光层之间。
[0016]在实施例中，上公共层和下公共层中的每一个可以包括有机材料。
[0017]在实施例中，显示装置可以进一步包括：平坦化层，布置在基板与发光层之间；以及像素限定层，布置在平坦化层上。像素限定层可以在平面图中与连接图案的第一侧部重叠，并且暴露连接图案的第二侧部。
[0018]在实施例中，上公共层可以在接触区域中接触平坦化层。
[0019]在实施例中，显示装置可以进一步包括：层间绝缘层，布置在基板上；平坦化层，布置在层间绝缘层上并且具有在接触区域中暴露层间绝缘层的第一开口；以及像素限定层，布置在平坦化层上。像素限定层可以在平面图中与连接图案的第一侧部重叠，并且具有暴露连接图案的第二侧部的第二开口。
[0020]在实施例中，上公共层可以在接触区域中接触层间绝缘层。
[0021]在实施例中，显示装置可以进一步包括：接触图案，布置在接触区域中、层间绝缘层上。
[0022]在实施例中，接触图案的一部分可以接触连接图案，并且接触图案的另一部分可以接触上公共层。
[0023]在实施例中，接触图案和辅助布线可以布置在同一层上。
[0024]根据本公开的实施例，一种制造显示装置的方法，包括：在基板上、显示装置的接触区域中形成辅助布线；在辅助布线上形成连接图案；在基板上、显示装置的子像素区域中形成发光层；在发光层和连接图案上形成上公共层；在上公共层上形成上电极；将电压施加到辅助布线和上电极以引起位于上电极与连接图案之间的上公共层的介电击穿，使得开口形成在上公共层中；以及通过允许上电极穿过开口来允许上电极接触连接图案。
[0025]在实施例中，通过允许上电极穿过开口来允许上电极接触连接图案可以包括：通过上电极与连接图案之间生成的热量来熔化上电极的位于接触区域中的一部分；用熔化后的上电极填充开口；以及允许熔化后的上电极穿过开口以接触连接图案。
[0026]在实施例中，该方法可以进一步包括：与在辅助布线上形成连接图案的同时，在子像素区域中、基板上形成下电极。
[0027]在实施例中，该方法可以进一步包括：在子像素区域中、基板上形成发光层之前，在下电极上形成下公共层。
[0028]在实施例中，下公共层和上公共层中的每一个可以包括有机材料，下公共层和发光层通过喷墨印刷方法来形成，并且上公共层通过真空沉积方法来形成。
[0029]在实施例中，该方法可以进一步包括：在形成下电极和连接图案之后，形成在平面图中与子像素区域中的下电极的侧部和接触区域中的连接图案的侧部重叠的像素限定层。
[0030]由于根据本公开的实施例的显示装置包括包含开口的上公共层，因此上电极和连接图案可以彼此容易地连接并且电连接。相应地，可以不在显示装置中引起电压降。开口可以防止显示装置中的电压降。
[0031]根据本公开的实施例的制造显示装置的方法，开口可以通过诸如将电压(例如，电压差)施加到辅助布线和上电极的工艺的简单工艺形成在上公共层中，并且上电极和连接图案可以彼此容易地连接并且电连接。相应地，可以不在显示装置中引起电压降。开口可以
防止显示装置中的电压降。
[0032]另外，上电极和连接图案可以彼此电连接而不需要诸如激光钻孔工艺的附加工艺。因此，可以降低显示装置的制造成本。
附图说明
[0033]通过参照附图详细地描述其实施例，根据本公开的实施例的附加理解将变得更加显而易见，在附图中：
[0034]图1是示出根据本公开的实施例的显示装置的示意性平面图；
[0035]图2是示意性地示出图1的区域A的局部放大平面图；
[0036]图3是用于描述电连接到图1的显示装置的外部装置的示意性框图；
[0037]图4是示出布置在图2的子像素区域中的子像素电路和有机发光二极管的等效电路的示意图；
[0038]图5是沿着图2的线I
‑
I
’
截取的示意性截面图；
[0039]图6是用于描述形成在图5的上公共层中的开口的示意性平面图；
[0040]图7是用于描述图5的发光层的示意性截面图；
[0041]图8至图19是示出制造根据本公开的实施例的显示装置的方法的示意图；
[0042]图20是示出根据本公本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示装置，包括：子像素区域和接触区域；辅助布线，布置在所述显示装置的基板上、所述接触区域中；连接图案，布置在所述辅助布线上；发光层，布置在所述基板上、所述子像素区域中；上公共层，布置在所述发光层和所述连接图案上，并且包括暴露所述连接图案的开口；以及上电极，布置在所述上公共层上，其中，所述上电极通过穿过所述开口来接触所述连接图案。2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述上公共层的所述开口与所述连接图案和所述上电极在平面图中彼此重叠的部分邻近。3.根据权利要求1所述的显示装置，进一步包括：像素限定层，布置在所述基板与所述上电极之间，其中，所述像素限定层具有：形成在所述子像素区域中的第一开口；以及形成在所述接触区域中的第二开口。4.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述发光层仅布置在所述第一开口中，并且所述上公共层布置在所述第一开口和所述第二开口中。5.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述像素限定层在平面图中与所述连接图案的侧部重叠。6.根据权利要求1至5中任一项所述的显示装置，进一步包括：下电极，布置在所述子像素区域中、所述基板与所述发光层之间。7.根据权利要求6所述的显示装置，其中，所述下电极和所述连接图案位于同一层上。8.根据权利要求6所述的显示装置，进一步包括：下公共层，布置在所述子像素区域中、所述下电极与所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴宰贤，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：