一种用于真空设备的进电机构及真空设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于真空设备的进电机构及真空设备，属于真空设备领域，能够解决现有真空设备的进电机构易导致进电失败，通过电流的均匀性易被影响的问题。进电机构包括：铜排，电缆，伸缩结构、铜棒和密封结构；电缆的一端与铜排连接，另一端与铜棒的末端的固定部连接；伸缩结构的伸缩端与铜棒的末端连接，以使铜棒的前端抵于或者远离真空设备的真空腔内放置的水冷铜坩埚；密封结构设置于铜棒的外壁与炉体接管的内壁之间；进电机构包括两组，两组进电机构设置于水冷铜坩埚的相对侧并保持两组进电机构的铜棒同轴。本申请的进电机构应用于大电流的真空设备上，不易损坏、熔坏，进电非常顺畅，导电电流均匀，其结构简单，成本较低，可靠性高。可靠性高。可靠性高。

【技术实现步骤摘要】
一种用于真空设备的进电机构及真空设备


[0001]本技术属于真空设备
，特别涉及一种用于真空设备的进电机构及真空设备。

技术介绍

[0002]目前，如稀有金属等的熔炼、焊接、热处理和烧结等均都需要在有真空条件的真空设备中进行。而进电机构是真空设备的重要机构。
[0003]现有真空设备的进电机构一般采用几百根的导电软线实现进电，或者将软铜薄板放在真空熔炼区域实现进电。在实际中，通过导电软线实现进电，当所需电流较大时，就需要设置更多的导电软线，导致进电设备结构复杂、成本较高，同时导电软线易折断，易导致进电失败。通过软铜薄板实现进电，由于软铜薄板距离熔区太近，软铜薄板易被真空设备中原材料的飞溅物熔坏，从而影响通过电流的均匀性。

技术实现思路

[0004]本技术的主要目的在于提供一种用于真空设备的进电机构及真空设备，解决了现有真空设备的进电机构易导致进电失败，通过电流的均匀性易被影响的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术采取的技术方案为：
[0006]第一方面，本专利技术实施例提供了一种用于真空设备的进电机构，包括：铜排，电缆，伸缩结构、铜棒和密封结构；所述电缆的一端与所述铜排连接，另一端与所述铜棒的末端的固定部连接；所述伸缩结构的伸缩端与所述铜棒的末端连接，以使所述铜棒的前端抵于或者远离真空设备的真空腔内放置的水冷铜坩埚；所述密封结构设置于所述铜棒的外壁与炉体接管的内壁之间；进电机构包括两组，两组所述进电机构设置于所述水冷铜坩埚的相对侧并保持两组所述进电机构的所述铜棒同轴。<br/>[0007]结合第一方面，在一种可能的实现方式中，用于真空设备的进电机构还包括：导向块；所述导向块的一端设置有导向孔，所述导向孔套设于所述铜棒上；所述导向块的另一端与所述真空腔的内壁连接。
[0008]结合第一方面，在一种可能的实现方式中，所述伸缩结构包括液压缸，所述液压缸的活塞杆与所述铜棒的末端连接。
[0009]结合第一方面，在一种可能的实现方式中，所述密封结构包括波纹管；所述波纹管设置于所述铜棒的外壁与所述炉体接管的内壁之间，一端与所述铜棒连接，另一端与所述炉体接管连接。
[0010]结合第一方面，在一种可能的实现方式中，所述电缆包括水冷电缆。
[0011]结合第一方面，在一种可能的实现方式中，所述铜棒包括水冷铜棒。
[0012]第二方面，本专利技术另一实施例提供了一种真空设备，包括上述所述的用于真空设备的进电机构。
[0013]与现有技术相比，本技术具有如下有益效果：
[0014]本申请实施例提供了一种用于真空设备的进电机构，包括：铜排，电缆，伸缩结构、铜棒和密封结构。电缆的一端与铜排连接，另一端与铜棒的末端的固定部连接。伸缩结构的伸缩端与铜棒的末端连接，以使铜棒的前端抵于或者远离真空设备的真空腔内放置的水冷铜坩埚。密封结构设置于铜棒的外壁与炉体接管的内壁之间。进电机构包括两组，两组进电机构设置于水冷铜坩埚的相对侧并保持两组进电机构的铜棒同轴。本申请实施例提供的用于真空设备的进电机构，伸缩结构的伸缩端与铜棒的末端连接，当需要给水冷铜坩埚供电时，伸缩结构伸出并推动铜棒向靠近水冷铜坩埚的方向运动，使铜棒的前端抵于水冷铜坩埚。由于铜排、电缆和铜棒依次连接，铜排将电能通过电缆和铜棒传输给水冷铜坩埚，铜棒末端与电缆无障碍连接，铜棒前端与水冷铜坩埚接触面积较大，使大电流顺畅地从铜排流向水冷铜坩埚。当不需要给水冷铜坩埚供电时，伸缩结构缩回并拉动铜棒向远离水冷铜坩埚的方向运动，使铜棒的前端远离水冷铜坩埚，水冷铜坩埚断电。本技术实施例提供的用于真空设备的进电机构应用于大电流的真空设备上，铜排、电缆、伸缩结构、铜棒和密封结构均不易损坏、熔坏，进电非常顺畅，导电电流均匀，其结构简单，成本较低，可靠性高。
附图说明
[0015]图1为本技术实施例提供的用于真空设备的进电机构的结构示意图。
[0016]图中：1
‑
铜排；2
‑
电缆；21
‑
水冷电缆；3
‑
伸缩结构；31
‑
液压缸；4
‑
铜棒；41
‑
固定部；42
‑
水冷铜棒；5
‑
密封结构；51
‑
波纹管；6
‑
导向块；7
‑
真空腔；8
‑
水冷铜坩埚。
具体实施方式
[0017]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0018]请参照图1所示，本技术实施例提供了一种用于真空设备的进电机构，包括：铜排1，电缆2，伸缩结构3、铜棒4和密封结构5。电缆2的一端与铜排1连接，另一端与铜棒4的末端的固定部41连接。伸缩结构3的伸缩端与铜棒4的末端连接，以使铜棒4的前端抵于或者远离真空设备的真空腔7内放置的水冷铜坩埚8。伸缩结构3使铜棒4的前端抵于水冷铜坩埚8，即将铜棒4的前端紧密地压在水冷铜坩埚8的法兰上，铜棒4的前端与法兰的接触面积较大，增加了单位面积的压力，有利于大电流顺畅流向水冷铜坩埚8，使进电机构的进电效果较好。铜棒4的末端与电缆2无障碍连接，从而能够使用电缆2导入大电流，使进电机构结构简单化的同时，故障率极大地降低。
[0019]密封结构5设置于铜棒4的外壁与炉体接管的内壁之间，从而实现铜棒4与炉体接管之间的间隙的密封。进电机构包括两组，两组进电机构设置于水冷铜坩埚8的相对侧并保持两组进电机构的铜棒4同轴。实际中，一般电流从水冷铜坩埚8的两侧导入，故进电机构包括两组，安装在水冷铜坩埚8的两侧，调整水冷铜坩埚8两侧的铜棒4同轴设置，就可以完成大电流的馈入。
[0020]本申请实施例提供的用于真空设备的进电机构，伸缩结构3的伸缩端与铜棒4的末端连接，当需要给水冷铜坩埚8供电时，伸缩结构3伸出并推动铜棒4向靠近水冷铜坩埚8的
方向运动，使铜棒4的前端抵于水冷铜坩埚8。由于铜排1、电缆2和铜棒4依次连接，铜排1将电能通过电缆2和铜棒4传输给水冷铜坩埚8，铜棒4末端与电缆2无障碍连接，铜棒4前端与水冷铜坩埚8接触面积较大，使大电流顺畅地从铜排1流向水冷铜坩埚8。当不需要给水冷铜坩埚8供电时，伸缩结构3缩回并拉动铜棒4向远离水冷铜坩埚8的方向运动，使铜棒4的前端远离水冷铜坩埚8，水冷铜坩埚8断电。本技术实施例提供的用于真空设备的进电机构应用于大电流的真空设备上，铜排1、电缆2、伸缩结构3、铜棒4和密封结构5均不易损坏、熔坏，进电非常顺畅，导电电流均匀，其结构简单，成本较低，可靠性高。
[0021]本技术实施例提供的用于真空设备的进电机构，还包括导向块6。如图1所示，导向本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于真空设备的进电机构，其特征在于，包括：铜排，电缆，伸缩结构、铜棒和密封结构；所述电缆的一端与所述铜排连接，另一端与所述铜棒的末端的固定部连接；所述伸缩结构的伸缩端与所述铜棒的末端连接，以使所述铜棒的前端抵于或者远离真空设备的真空腔内放置的水冷铜坩埚；所述密封结构设置于所述铜棒的外壁与炉体接管的内壁之间；进电机构包括两组，两组所述进电机构设置于所述水冷铜坩埚的相对侧并保持两组所述进电机构的所述铜棒同轴。2.根据权利要求1所述的用于真空设备的进电机构，其特征在于，还包括：导向块；所述导向块的一端设置有导向孔，所述导向孔套设于所述铜棒上；所述导向块的另一端与所述真空腔的内...

【专利技术属性】
技术研发人员：武建文，张龙，
申请(专利权)人：宝鸡宝钛装备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：