本发明专利技术实施例提供了一种可定制的防伪元件和防伪产品。所述防伪元件包括：图文层和遮挡层，所述遮挡层包括微掩膜和采样系统；所述微掩膜用于遮挡所述图文层，所述采样系统能够对所述被遮挡的图文层进行采样合成形成再现图像，在不同观察位置呈现的所述再现图像不同。本发明专利技术的防伪元件巧妙地利用微结构实现定向遮挡，使可定制图文具有光学可变的防伪特征，显著提升了防伪能力。显著提升了防伪能力。显著提升了防伪能力。
【技术实现步骤摘要】
一种可定制的防伪元件和防伪产品
[0001]本专利技术属于防伪识别及防伪溯源标识领域，具体地涉及一种可定制的防伪元件和防伪产品。
技术介绍
[0002]假冒、仿制产品严重损害了产品生产者和使用者的合法权益，随着经济的快速发展，市场上的产品更加丰富多样，对辨别真伪和生产环节追溯的需求更加强烈。
[0003]目前在产品的生产、运输、仓储、销售、使用、追溯、防伪等环节，包含产品信息或编号的文本、条形码、二维码被广泛使用，具有能够被肉眼或机器识读、易于集成等优势，但是文本、条形码、二维码等容易被直接复制，仿制门槛低，其防伪能力有待增强。
技术实现思路
[0004]本专利技术实施例的目的是一种可定制的防伪元件和防伪产品。本专利技术人发现：在各种光学防伪技术中，微结构所形成的防伪效果包括衍射、干涉、反射、折射、采样等效果因为亮度高、动感效果明显而得到广泛应用，无需借助仪器直接人眼观察即可辨别真伪。但是微结构的制版成本很高，需要大量复制摊低成品，难以定制化。
[0005]如专利文献CN103279731A，其利用印刷二维码时产生的随机图像细节作为防伪特征部分，通过将所获得的待验证数据信息与数据库中对应的防伪数据信息进行比较进行防伪。
[0006]如专利文献CN103465606A，利用温变材料加入到二维码的印刷中,可以用温度变化来对应二维码标签的颜色变化来进行防伪,并且在常温下,二维码是无色的，加热后才能对二维码进行扫描解密,进一步提高了防伪标签的防伪效果。
[0007]如专利文献CN106157055A，所述防伪溯源标识将使用手机扫描防伪溯源标签上的条码或二维码信息与使用手机感应防伪溯源标签的磁性功能层的磁性信息匹配，用以验证结果及反馈产品溯源信息。
[0008]本专利技术的防伪元件巧妙地利用微结构实现定向遮挡，同一批防伪元件使用相同的微结构模板，其制作的微结构定向遮挡可定制图文，使可定制图文具有光学可变的防伪特征，具有可定制、防伪能力强、低成本、防变造的优势。
[0009]本专利技术的防伪元件具有可定制的优势，图文层可以通过喷码印刷等可变印刷方式实现，每一个防伪元件都可以具有不同的图文层，例如以二维码作为可识读元素，每一个防伪元件的图文都有一个唯一的二维码，扫描二维码即可获取该防伪元件及其相应产品的追溯信息，实现“一物一码”的功能。
[0010]本专利技术的防伪元件具有防伪能力强的优势，防伪元件的外观是随观察位置变化而变化的，不同观察位置下呈现的再现图像不同，只有部分观察位置下才能观察到不被遮挡的图文层，人眼直接观察即可辨别防伪元件和二维码等可识读元素的真伪。
[0011]本专利技术的防伪元件具有防伪能力强的优势，还体现在强制使用者辨别防伪特征。
很多防伪元件具有很好的防伪能力，由于使用者不去辨别防伪特征，防伪元件的防伪效果大打折扣。本专利技术的防伪元件具有光学可变的防伪特征，只有部分观察位置下才能观察到不被遮挡的图文层和图文层中的可识读元素，使用者识别可识读元素时，需要先找到可识读元素不被遮挡的观察位置，才能在该观察位置识别可识读元素，因此使用者识别可识读元素的过程，就是辨别是否具有光学可变的防伪特征的过程。
[0012]本专利技术的防伪元件具有低成本的优势，图文层的定制不涉及微结构的制版，具有不同图文层的防伪元件使用相同的微结构原版，一次制版能够复制大量防伪元件，摊低了制版成本。微掩模和遮挡图文要求的分辨率极高，无法使用常规印刷工艺实现，本专利技术中使用微结构实现，通过一次微结构复制和后期的简单处理，不同微结构即可形成透明、白、黑、彩色等不同的外观，与激光刻蚀等方法相比工艺简单、成本低。
[0013]本专利技术的防伪元件具有防变造的优势，图文层在遮挡层下方，不直接暴露在外部，图文层和遮挡层是防止分离的，造假者无法在不破坏遮挡层的情况下篡改图文层。篡改图文层势必会破坏遮挡层和相应的光学防伪效果，使用者通过人眼观察能够轻易识别本专利技术的防伪元件是否被变造。
[0014]为了实现上述目的，本专利技术实施例提供了一种可定制的防伪元件和防伪产品，该元件包括：图文层和遮挡层，所述遮挡层包括微掩膜和采样系统；所述图文层是可定制的；所述微掩膜包括透光区和不透光区；所述微掩膜用于遮挡所述图文层，所述采样系统能够对所述被遮挡的图文层进行采样合成形成再现图像，在不同观察位置呈现的所述再现图像不同。
[0015]可选的，所述再现图像包括以下中的一者：图文层被完全遮挡、图文层被部分遮挡、图文层没有被遮挡。
[0016]可选的，所述图文层被部分遮挡，包括以下一者或多者：不同遮挡面积、不同遮挡位置和不同遮挡透明度。
[0017]可选的，所述不透光区包括遮挡图文，该遮挡图文为可识读元素，包括图案、文字、条形码、二维码中至少一种。
[0018]可选的，所述微掩膜为镂空金属镀层。
[0019]可选的，所述采样系统包括微透镜阵列、柱透镜阵列、球透镜阵列、小孔阵列、狭缝阵列和/或菲涅尔透镜阵列。
[0020]可选的，所述遮挡层还包括间隔层，该间隔层位于所述采样系统和所述微掩膜之间。
[0021]可选的，所述图文层的内容为可识读元素，包括图案、文字、条形码、二维码中至少一种。
[0022]可选的，所述可识读元素用于人工直接识读和/或借助机器间接识读产品信息，所述产品信息包括编号、冠字号码、追溯信息和/或防伪特征。
[0023]可选的，至少存在第一观察位置和第二观察位置，第一观察位置和第二观察位置具有不同的再现图像，在第一观察位置图文层的可识读元素能够用于人工直接识读和/或借助机器间接识读产品信息，在第二观察位置图文层的可识读元素无法用于人工直接识读和/或借助机器间接识读产品信息。
[0024]可选的，所述观察位置包括观察角度和观察距离；不同观察位置包括观察距离和/
或观察角度不同。
[0025]可选的，防伪元件的厚度为不超过5mm，优选不超过200um，进一步优选不超过100um。
[0026]可选的，所述微掩膜叠加有起伏结构，该起伏结构包括至少两种微结构，其中至少一种微结构使微掩模产生透光的外观，其中至少一种微结构使微掩模产生不透光的外观，微掩模的透光区与不透光区的分布取决于微结构的分布。
[0027]可选的，制作所述微掩膜的方法包括：制作起伏结构层，所述起伏结构层至少包括由第一微结构组成的第一区域、由第二微结构组成的第二区域，所述第一微结构的深度、深宽比、比面积和/或比体积大于所述第二微结构的深度、深宽比、比面积和/或比体积；制作遮挡层；将上述结构置于能够与遮挡层反应的氛围中，遮挡层受起伏结构影响，第一区域的遮挡层的反应过程快于第二区域的反应过程；第一区域的遮挡层部分或完全被去除，为透光区；第二区域的遮挡层部分或完全不被去除，为不透光区。
[0028]可选的，制作所述微掩膜的方法包括：制作起伏结构层，所述起伏结构层至少包括由第一微结构组成的第一区域、由第二微结构组成的第二区域，所述第一微结构为平坦结构，所述第二微本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种可定制的防伪元件，其特征在于，包括：图文层和遮挡层，所述遮挡层包括微掩膜和采样系统；所述图文层是可定制的；所述微掩膜包括透光区和不透光区；所述微掩膜用于遮挡所述图文层，所述采样系统能够对所述被遮挡的图文层进行采样合成形成再现图像，在不同观察位置呈现的所述再现图像不同。2.根据权利要求1所述的元件，其特征在于，所述再现图像包括以下中的一者：图文层被完全遮挡、图文层被部分遮挡、图文层没有被遮挡。3.根据权利要求2所述的元件，其特征在于，所述图文层被部分遮挡，包括以下一者或多者：不同遮挡面积、不同遮挡位置和不同遮挡透明度。4.根据权利要求1所述的元件，其特征在于，所述不透光区包括遮挡图文，该遮挡图文为可识读元素，包括图案、文字、条形码、二维码中至少一种。5.根据权利要求1所述的元件，其特征在于，所述微掩膜为镂空金属镀层。6.根据权利要求1所述的元件，其特征在于，所述采样系统包括微透镜阵列、柱透镜阵列、球透镜阵列、小孔阵列、狭缝阵列和/或菲涅尔透镜阵列。7.根据权利要求1所述的元件，其特征在于，所述遮挡层还包括间隔层，该间隔层位于所述采样系统和所述微掩膜之间。8.根据权利要求1所述的元件，其特征在于，所述图文层的内容为可识读元素，包括图案、文字、条形码、二维码中至少一种。9.根据权利要求4和/或8所述的元件，其特征在于，所述可识读元素用于人工直接识读和/或借助机器间接识读产品信息，所述产品信息包括编号、冠字号码、追溯信息和/或防伪特征。10.根据权利要求9所述的元件，至少存在第一观察位置和第二观察位置，第一观察位置和第二观察位置具有不同的再现图像，在第一观察位置图文层的可识读元素能够用于人工直接识读和/或借助机器间接识读产品信息，在第二观察位置图文层的可识读元素无法用于人工直接识读和/或借助机器间接识读产品信息。11.根据权利要求1所述的元件，其特征在于，所述观察位置包括观察角度和观察距离；不同观察位置包括观察距离和/或观察角度不同。12.根据权利要求1所述的元件，其特征在于，防伪元件的厚度不超过5mm，优选不超过200um，进一步优选不超过100um。13.根据权利要求1所述的元件，其特征在于，所述微掩膜叠加有起伏结构，该起伏结构包括至少两种微结构，其中至少一种微结构使微掩模产生透光的外观，其中至少一种微结构使微掩模产生不透光的外观，微掩模的透光区与不透光区的分布取决于微结构的分布。14.根据权利要求13所述的元件，其特征在于，制作所述微掩膜的方法包括：
制作起伏结构层，所述起伏结构层至少包括由第一微结构组成的第一区域、由第二微结构组成的第二区域，所述第一微结构的深度、深宽比、比面积和/或比体积...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨栋，孙凯，
申请(专利权)人：中国印钞造币集团有限公司，
类型：发明
国别省市：
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