本实用新型专利技术提供了一种碳电极生产用浸渍装置，属于电极浸渍技术领域，该碳电极生产用浸渍装置包括浸渍钵和浸渍机构，所述浸渍钵顶部一侧设置有加液管，所述浸渍钵顶部活动安装有密封盖，所述密封盖上设置有观察窗，所述放置架放置于所述浸渍钵内部，所述放置架底部与所述浸渍钵内底部之间留有空隙，所述放置架包括竖杆、隔料盘与底盘，所述竖杆设置有若干个且关于所述隔料盘呈环形阵列分布，所述隔料盘与所述底盘均固定于若干个所述竖杆之间，所述底盘位于所述隔料盘下方，所述隔料盘上设置有通孔，所述底盘上开设有贯穿孔，该碳电极生产用浸渍装置以便在碳电极加入后观察浸渍液的加入量，同时以便对碳电极的底部进行浸渍。同时以便对碳电极的底部进行浸渍。同时以便对碳电极的底部进行浸渍。
【技术实现步骤摘要】
一种碳电极生产用浸渍装置
[0001]本申请涉及电极浸渍
，具体而言，涉及一种碳电极生产用浸渍装置。
技术介绍
[0002]浸渍是将碳材料置于压力容器中，在一定的温度和压力条件下将液态浸渍剂沥青浸入渗透到制品电极孔隙中的工艺过程。目的是降低制品气孔率，增加制品体积密度和机械强度，改善制品的导电和导热性能。
[0003]现有的碳电极浸渍用浸渍钵在对电极进行浸渍时，需要电极插入浸渍钵内部的槽中，而由于碳电极向下插入的速度和力量无法控制，容易使碳电极与浸渍钵底板相触碰，从而造成碳电极端部受损；而且在碳电极插入浸渍钵内部后，一旦浸渍钵内部的浸渍液不够用，需要将碳电极取出，加入浸渍液，这样反复的对碳电极放入取出也容易对碳电极造成损伤。
[0004]引证申请号为201921836151.5、名称为一种石墨电极浸渍装置的一件中国专利申请，一种石墨电极浸渍装置，包括浸渍钵，浸渍钵钵体设有夹套，夹套内设有循环水冷却装置，浸渍钵上设置有进液管和溢流管，浸渍钵内腔放置有支撑架，支撑架包括连接支架、隔料层和底盘，底盘固定设置在连接支架的底部，隔料层设在底盘的上方并与连接支架固定连接；隔料层上设置有多个通孔，底盘的上表面设置有若干柔性凸起结构；本技术通过进液口、溢流口、支撑架以及冷却装置的设置，从多方面避免了石墨电极在浸渍操作中收到的损伤，提高了石墨电极的产品质量。
[0005]上述专利申请将石墨电极插入支撑架上，并通过进液口向浸渍钵内部添加浸渍液直到浸渍液从溢流管排出，以使得浸渍液达到合适的高度，但由于溢流管位于浸渍钵上较高的位置，此种方式难以适应较短长度的电极，即较短长度的电极插入支撑架后，此时电极顶部位于溢流管下方，当仍然通过进液口向浸渍钵内部添加浸渍液直到浸渍液从溢流管排出，会存在浸渍液完全漫过电极且浸渍液水面高度位于电极顶部较高位置，造成部分浸渍液的浪费(即浸渍液刚好漫过电极，此时浸渍液的加入量为正好)，另外在电极穿过隔料层的通孔立在底盘上，此时电极的底部并未能较好与浸渍钵内的浸渍液进行接触，从而影响电极底部的浸渍效果，因此具有一定的局限性。
技术实现思路
[0006]为了弥补以上不足，本技术提供了一种碳电极生产用浸渍装置，旨在改善上述所提出的问题。
[0007]本技术是这样实现的：
[0008]一种碳电极生产用浸渍装置，包括浸渍钵和浸渍机构，所述浸渍钵顶部一侧设置有加液管，所述浸渍钵顶部活动安装有密封盖，所述密封盖上设置有观察窗，所述浸渍机构包括放置架，所述放置架放置于所述浸渍钵内部，所述放置架底部与所述浸渍钵内底部之间留有空隙，所述放置架包括竖杆、隔料盘与底盘，所述竖杆设置有若干个且关于所述隔料
盘呈环形阵列分布，所述隔料盘与所述底盘均固定于若干个所述竖杆之间，所述底盘位于所述隔料盘下方，所述隔料盘上设置有通孔，所述底盘上开设有贯穿孔。
[0009]在本技术的一种实施例中，所述隔料盘设置有两个，所述通孔在每个所述隔料盘上均设置有四个，四个所述通孔关于所述隔料盘中心呈环形阵列分布。
[0010]在本技术的一种实施例中，所述贯穿孔呈上大下小的斗状，所述贯穿孔内壁设置有橡胶垫。
[0011]在本技术的一种实施例中，所述贯穿孔设置有若干个，若干个所述贯穿孔在所述底盘上呈均匀分布。
[0012]在本技术的一种实施例中，所述放置架底部两侧均设置有定位块，所述浸渍钵内底部且对应所述定位块的位置设置有固定块，所述固定块顶部设置有与所述定位块相适配的定位槽。
[0013]在本技术的一种实施例中，所述密封盖内壁与所述浸渍钵外壁螺纹连接，所述密封盖顶部设置有把手。
[0014]在本技术的一种实施例中，加液管外壁顶部螺纹连接有管盖。
[0015]在本技术的一种实施例中，所述浸渍钵一侧底部设置有排液管，所述排液管上设置有控制阀。
[0016]本技术的有益效果是：本技术通过上述设计得到的一种一种碳电极生产用浸渍装置，使用时，在浸渍前，将少部分浸渍液通过加液管灌入浸渍钵内部，将待浸渍的碳电极插入放置架上，使得碳电极穿过隔料盘上的通孔，并使得碳电极底部插接于贯穿孔内，将放置架放置在浸渍钵内部，盖上密封盖，再次通过加液管向浸渍钵内部加入浸渍液，通过观察窗以观察浸渍液的加入量，直至浸渍液刚好漫过碳电极顶部从而停止加入浸渍液，以避免加入浸渍液过多而造成浸渍液的浪费，因为在放置架放置在浸渍钵内部后，放置架底部与浸渍钵内底部之间留有空隙，所以浸渍液可通过此空隙和贯穿孔而浸入碳电极底部，以避免碳电极插接后其底部难以受到浸渍，通过上述设计，以便在碳电极加入后观察浸渍液的加入量，同时以便对碳电极的底部进行浸渍。
附图说明
[0017]为了更清楚地说明本技术实施方式的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0018]图1是本技术实施方式提供的一种碳电极生产用浸渍装置的结构示意图；
[0019]图2为本技术实施方式提供的浸渍钵的正面剖视图；
[0020]图3为本技术实施方式提供的放置架的立体图；
[0021]图4为本技术实施方式提供的图2中A处的放大图。
[0022]图中：100
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浸渍钵；110
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加液管；111
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管盖；120
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密封盖；121
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观察窗；122
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把手；130
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固定块；131
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定位槽；140
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排液管；200
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浸渍机构；210
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放置架；211
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竖杆；212
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隔料盘；2121
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通孔；213
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底盘；2131
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贯穿孔；214
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定位块。
具体实施方式
[0023]为使本技术实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施方式中的附图，对本技术实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式是本技术一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本技术中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本技术保护的范围。
[0024]实施例
[0025]请参阅图1
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4，本技术提供一种技术方案：一种碳电极生产用浸渍装置，包括浸渍钵100与浸渍机构200，浸渍钵100顶部一侧设置有加液管110，浸渍钵100顶部活动安装有密封盖120，密封盖120上设置有观察窗121，浸渍机构200包括放置架210本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种碳电极生产用浸渍装置，其特征在于，包括浸渍钵(100)，所述浸渍钵(100)顶部一侧设置有加液管(110)，所述浸渍钵(100)顶部活动安装有密封盖(120)，所述密封盖(120)上设置有观察窗(121)；浸渍机构(200)，所述浸渍机构(200)包括放置架(210)，所述放置架(210)放置于所述浸渍钵(100)内部，所述放置架(210)底部与所述浸渍钵(100)内底部之间留有空隙，所述放置架(210)包括竖杆(211)、隔料盘(212)与底盘(213)，所述竖杆(211)设置有若干个且关于所述隔料盘(212)呈环形阵列分布，所述隔料盘(212)与所述底盘(213)均固定于若干个所述竖杆(211)之间，所述底盘(213)位于所述隔料盘(212)下方，所述隔料盘(212)上设置有通孔(2121)，所述底盘(213)上开设有贯穿孔(2131)。2.根据权利要求1所述的一种碳电极生产用浸渍装置，其特征在于，所述隔料盘(212)设置有两个，所述通孔(2121)在每个所述隔料盘(212)上均设置有四个，四个所述通孔(2121)关于所述隔料盘(212)中心呈环形阵列分布。3.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈连云，
申请(专利权)人：天津云海裕森科工贸有限公司，
类型：新型
国别省市：
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