本公开提供一种表面清洁装置，其包括：转动部，所述转动部形成有轴向限位部；以及环形带部，所述环形带部包裹所述转动部，并由所述转动部支撑并驱动所述环形带部，当所述表面清洁装置处于工作状态，所述环形带部与待清洁表面滑动接触，以实现待清洁表面的清洁；其中，所述环形带部包括基材和清洁体，其中，所述清洁体固定于所述基材，并且所述清洁体的端部和所述基材的端部接合；其中，所述轴向限位部用于限定所述环形带部在所述转动部的轴向位置。本公开还提供一种清洁基部。公开还提供一种清洁基部。公开还提供一种清洁基部。
【技术实现步骤摘要】
表面清洁装置及清洁基部
[0001]本公开涉及一种表面清洁装置及清洁基部。
技术介绍
[0002]湿式表面清洁设备适用于清洁硬地板表面，如瓷砖、硬木地板和柔软的地毯表面等。
[0003]在湿式表面清洁设备清洁待清洁表面时，先将清洁液体输送至清洁模块，并通过清洁模块将清洁液体施加至待清洁表面，当清洁模块与待清洁表面产生相对运动时，实现待清洁表面的清洁。
[0004]履带式表面清洁装置能够有效地提高清洁模块与待清洁表面的接触面积，从而使得湿式表面清洁设备具有较好的清洁效果，但清洁面控制不稳定，易出现接触面脱离和偏移等问题。
[0005]但是，履带式表面清洁装置均包括有环形带，如果环形带发生打滑，会影响表面清洁装置的清洁效率；而且，当所述环形带在转动轴上发生轴向位移时，会导致环形带的跑偏、脱落、卡死、甚至损坏，也可能造成表面清洁装置的损坏。
技术实现思路
[0006]为了解决上述技术问题之一，本公开提供了一种表面清洁装置及清洁基部。
[0007]根据本公开的一个方面，提供一种表面清洁装置，其包括：
[0008]转动部，所述转动部形成有轴向限位部；以及
[0009]环形带部，所述环形带部包裹所述转动部，并由所述转动部支撑并驱动所述环形带部，当所述表面清洁装置处于工作状态，所述环形带部与待清洁表面滑动接触，以实现待清洁表面的清洁；其中，所述环形带部包括基材和清洁体，其中，所述清洁体固定于所述基材，并且所述清洁体的端部和所述基材的端部接合；
[0010]其中，所述轴向限位部用于限定所述环形带部在所述转动部的轴向位置。
[0011]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁装置，其所述轴向限位部包括形成于所述转动部两端的至少一端位置处的外法兰；
[0012]优选地，通过缝合线将清洁体的端部和基材的端部接合。
[0013]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁装置，所述环形带部的厚度大于所述外法兰的径向尺寸，当所述表面清洁装置处于工作状态时，所述环形带部与待清洁表面接触，而转动部的外法兰不与待清洁表面接触。
[0014]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁装置，所述轴向限位部还包括沿所述转动部的周向形成于所述转动部的外周面的环形凹槽，其中，所述环形带部的内表面形成于所述环形凹槽对应的环形凸起，以通过所述转动部的环形凹槽与所述环形带部的环形凸起的配合，限制所述环形带部在所述转动部的轴向位置。
[0015]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁装置，所述轴向限位部还包括沿所述
转动部的周向形成于所述转动部的外周面的环形凸起，其中，所述环形带部的内表面形成于所述转动部的环形凸起对应的环形凹槽，以通过所述转动部的环形凸起与所述环形带部的环形凹槽的配合，限制所述环形带部在所述转动部的轴向位置。
[0016]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁装置，所述轴向限位部的环形凸起邻近所述轴向限位部的环形凹槽设置。
[0017]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁装置，所述转动部的环形凹槽的两侧均设置有环形凸起，并且两个相邻的转动部的环形凹槽之间具有两个转动部的环形凸起。
[0018]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁装置，所述转动部的环形凹槽的两侧的转动部的环形凸起与该环形凹槽之间的区域形成为V形；
[0019]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁装置，所述转动部的至少部分的外表面上设置有摩擦力增加部；
[0020]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁装置，所述摩擦力增加部包括在所述转动部的外表面上所固定的软胶层；
[0021]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁装置，所述软胶层的表面设置有外齿部；
[0022]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁装置，所述摩擦力增加部包括形成于所述转动部的圆周面上的外齿部，其中，所述环形带部的内周面上形成有内齿部，以通过所述外齿部和所述内齿部的配合，限制所述转动部与环形带部之间的相对滑动；
[0023]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁装置，所述摩擦力增加部设置于两个相邻的环形带部的环形凹槽之间；
[0024]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁装置，当所述环形带部通过缝合线缝合时，所述转动部的外周面形成有环形安装凹槽，以通过所述环形安装凹槽收纳所述缝合线；
[0025]根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁装置，所述转动部包括第一转动部和第二转动部，其中，所述第一转动部被驱动以进行转动，所述第二转动部由所述第一转动部驱动转动。
[0026]根据本公开的另一方面，提供一种清洁基部，其包括：
[0027]壳体模块，所述壳体模块形成容纳部；以及
[0028]如上述的表面清洁装置，其中，所述表面清洁装置可拆卸地设置于所述壳体模块，并位于所述壳体模块的容纳部，以通过所述表面清洁装置对待清洁表面进行清洁。
[0029]根据本公开的至少一个实施方式的清洁基部，所述壳体模块形成有安装部，所述表面清洁装置的转动部的一端可转动地设置于所述安装部；
[0030]根据本公开的至少一个实施方式的清洁基部，还包括：
[0031]支架部，所述支架部可拆卸地设置于所述壳体模块，并且，当所述支架部安装于所述壳体模块时，所述转动部的另一端可转动地设置于所述支架部，当所述支架部从壳体模块拆卸时，将所述表面清洁装置从所述壳体模块拆卸。
附图说明
[0032]附图示出了本公开的示例性实施方式，并与其说明一起用于解释本公开的原理，
其中包括了这些附图以提供对本公开的进一步理解，并且附图包括在本说明书中并构成本说明书的一部分。
[0033]图1至图10示出了根据本公开的各个实施方式的表面清洁设备的示意图。
[0034]图11示出了根据本公开的一个实施方式的连接部的示意图。
[0035]图12至图14示出了根据本公开的一个实施方式的清洁液体存储部的示意图。
[0036]图15至图24示出了根据本公开的一个实施方式的回收存储部整体或部件的示意图。
[0037]图25示出了根据本公开的一个实施方式的电线路容纳部的示意图。
[0038]图26至图64示出了根据本公开的各实施方式的清洁基部的整体或者部分部件的示意图。
具体实施方式
[0039]下面结合附图和实施方式对本公开作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于解释相关内容，而非对本公开的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本公开相关的部分。
[0040]图1示出了该表面清洁设备的一个角度观察的示意图。图2示出了该表面清洁设备的另一角度观察的示意图。图3示出了该表面清洁设备的分解图。
[0041]如图1至图3所示，表面清洁设备可以包括手柄部100、主体部200、清洁液体存储部300、回收存储部400、连接部500、和清洁基部600。...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种表面清洁装置，其特征在于，包括：转动部，所述转动部形成有轴向限位部；以及环形带部，所述环形带部包裹所述转动部，并由所述转动部支撑并驱动所述环形带部，当所述表面清洁装置处于工作状态，所述环形带部与待清洁表面滑动接触，以实现待清洁表面的清洁；其中，所述环形带部包括基材和清洁体，其中，所述清洁体固定于所述基材，并且所述清洁体的端部和所述基材的端部接合；其中，所述轴向限位部用于限定所述环形带部在所述转动部的轴向位置。2.如权利要求1所述的表面清洁装置，其特征在于，所述轴向限位部包括形成于所述转动部两端的至少一端位置处的外法兰。3.如权利要求2所述的表面清洁装置，其特征在于，所述环形带部的厚度大于所述外法兰的径向尺寸，当所述表面清洁装置处于工作状态时，所述环形带部与待清洁表面接触，而转动部的外法兰不与待清洁表面接触。4.如权利要求1所述的表面清洁装置，其特征在于，所述轴向限位部还包括沿所述转动部的周向形成于所述转动部的外周面的环形凹槽，其中，所述环形带部的内表面形成于所述环形凹槽对应的环形凸起，以通过所述转动部的环形凹槽与所述环形带部的环形凸起的配合，限制所述环形带部在所述转动部的轴向位置。5.如权利要求4所述的表面清洁装置，其特征在于，所述轴向限位部还包括沿所述转动部的周向形成于所述转动部的外周面的环形凸起，其中，所述环形带部的内表面形成于所述转动部的环形凸起对应的环形凹槽，以通过所述转动部的环形凸起与所述环形带部的环形凹槽的配合，限制所述环形带部在所述转动部的轴向位置。6.如权利要求5所述的表面清洁装置，其特征在于，所述轴向限位部的环形凸起邻近所述轴向限位部的环形凹槽设置。7.如权利要求5所述的表面清洁装置，其特征在于，所述转动部的环形凹槽的两侧均设置有环形凸起，并且两个相邻的转动部的环形凹槽之间具有两个转动部的环形凸起。8.如权利要求1
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7之一所述的表面清洁装置，其特征在于，所述转动部的环形凹槽的两侧的转动部的环形凸起与该环形凹槽之间的区域形成为V形。9.如权...
【专利技术属性】
技术研发人员：唐成，段飞，钟亮，
申请(专利权)人：北京顺造科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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