基站及表面清洁系统技术方案

技术编号:41156684 阅读:7 留言:0更新日期:2024-04-30 18:20
本公开提供一种基站,其包括:直立主体;横向托盘,所述横向托盘与直立主体连接,并且所述横向托盘被配置为当表面清洁设备停靠于基站时,所述横向托盘的至少部分位于表面清洁设备的下方;以及消毒耦合结构,所述消毒耦合结构配置为当表面清洁设备停靠于基站时,可操作地连接表面清洁设备的回收液体存储部,并向该回收液体存储部的内部提供消毒介质;其中,所述消毒耦合结构包括至少位于直立主体上的消毒介质出口,当表面清洁设备停靠于基站时,所述消毒介质出口与所述表面清洁设备的回收液体存储部上的消毒介质入口密封地连通。本公开还提供一种表面清洁系统。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及一种基站及表面清洁系统


技术介绍

1、表面清洁设备适用于清洁硬地板表面,如瓷砖、硬木地板和柔软的地毯表面等。

2、现有技术中的表面清洁设备均包括电池和清水箱等部件,相应地,需要设置用于表面清洁设备停靠的基站,以通过该基站向表面清洁设备的电池充电,以及对清水箱内添加清洁液体。

3、而且,考虑到表面清洁设备亦设置有污水箱,所述污水箱用于存储清洁待清洁表面后的污水和垃圾。当用户在清洁作业结束后,如果未及时清理污水箱,污水箱内的污水和垃圾将会产生异味,并且在下一次使用该表面清洁设备时,会使得房间内充斥着难闻的味道,影响了用户的使用体验。


技术实现思路

1、为了解决上述技术问题之一,本公开提供了一种基站及表面清洁系统。

2、根据本公开的一个方面,提供了一种基站,其包括:

3、直立主体;

4、横向托盘,所述横向托盘与直立主体连接,并且所述横向托盘被配置为当表面清洁设备停靠于基站时,所述横向托盘的至少部分位于表面清洁设备的下方;以及

5、消毒耦合结构,所述消毒耦合结构配置为当表面清洁设备停靠于基站时,可操作地连接表面清洁设备的回收液体存储部,并向该回收液体存储部的内部提供消毒介质;

6、其中,所述消毒耦合结构包括至少位于直立主体上的消毒介质出口,当表面清洁设备停靠于基站时,所述消毒介质出口与所述表面清洁设备的回收液体存储部上的消毒介质入口密封地连通。

7、根据本公开的至少一个实施方式的基站,所述直立主体上设置有可移动的防护盖,该防护盖可操作地耦合到直立主体,并配置为在覆盖消毒介质出口位置和打开消毒介质出口位置之间移动。

8、根据本公开的至少一个实施方式的基站,当向所述防护盖施加外力时,所述防护盖从覆盖消毒介质出口位置至打开消毒介质出口位置,并且当外力消失时,所述防护盖从打开消毒介质出口位置运动至覆盖消毒介质出口位置。

9、根据本公开的至少一个实施方式的基站,当所述表面清洁设备从上至下放置于所述基站时,所述表面清洁设备向所述防护盖施加所述外力。

10、根据本公开的至少一个实施方式的基站,所述消毒介质为气态消毒介质。

11、根据本公开的至少一个实施方式的基站,所述气态消毒介质为臭氧。

12、根据本公开的至少一个实施方式的基站,所述消毒耦合结构包括臭氧发生器和泵,所述臭氧发生器用于产生臭氧,所述泵用于将臭氧发生器所产生的臭氧向外输送,其中,所述臭氧发生器连接于所述消毒介质出口,并通过该消毒介质出口向外提供臭氧。

13、根据本公开的至少一个实施方式的基站,所述消毒介质出口包括:

14、主体部,所述主体部具有向上的开口,并且所述主体部的下壁面与进气口连通,所述进气口连接于臭氧发生器;以及

15、杆部件,所述杆部件的一端设置于所述主体部的底壁,另一端终止于所述主体部的开口附近。

16、根据本公开的至少一个实施方式的基站,所述杆部件的横截面为十字型。

17、根据本公开的另一方面,提供一种表面清洁系统,其包括上述的基站。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基站,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的基站,其特征在于,所述直立主体上设置有可移动的防护盖,该防护盖可操作地耦合到直立主体,并配置为在覆盖消毒介质出口位置和打开消毒介质出口位置之间移动。

3.根据权利要求2所述的基站,其特征在于,当向所述防护盖施加外力时,所述防护盖从覆盖消毒介质出口位置至打开消毒介质出口位置,并且当外力消失时,所述防护盖从打开消毒介质出口位置运动至覆盖消毒介质出口位置。

4.根据权利要求3所述的基站,其特征在于,当所述表面清洁设备从上至下放置于所述基站时,所述表面清洁设备向所述防护盖施加所述外力。

5.根据权利要求1所述的基站,其特征在于,所述消毒介质为气态消毒介质。

6.根据权利要求5所述的基站,其特征在于,所述气态消毒介质为臭氧。

7.根据权利要求6所述的基站,其特征在于,所述消毒耦合结构包括臭氧发生器和泵,所述臭氧发生器用于产生臭氧,所述泵用于将臭氧发生器所产生的臭氧向外输送,其中,所述臭氧发生器连接于所述消毒介质出口,并通过该消毒介质出口向外提供臭氧。

>8.根据权利要求1所述的基站,其特征在于,所述消毒介质出口包括:

9.根据权利要求8所述的基站,其特征在于,所述杆部件的横截面为十字型。

10.一种表面清洁系统,其特征在于,包括权利要求1-9中任一项所述的基站。

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【技术特征摘要】

1.一种基站,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的基站,其特征在于,所述直立主体上设置有可移动的防护盖,该防护盖可操作地耦合到直立主体,并配置为在覆盖消毒介质出口位置和打开消毒介质出口位置之间移动。

3.根据权利要求2所述的基站,其特征在于,当向所述防护盖施加外力时,所述防护盖从覆盖消毒介质出口位置至打开消毒介质出口位置,并且当外力消失时,所述防护盖从打开消毒介质出口位置运动至覆盖消毒介质出口位置。

4.根据权利要求3所述的基站,其特征在于,当所述表面清洁设备从上至下放置于所述基站时,所述表面清洁设备向所述防护盖施加所述外力。

5.根据权利要求1所述的基...

【专利技术属性】
技术研发人员:李鹏程戚一舟谢明健唐成
申请(专利权)人:北京顺造科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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