一种气相沉积镀膜设备用中心支撑杆加工方法技术

本发明专利技术公开的属于面板制造技术领域，具体为一种气相沉积镀膜设备用中心支撑杆加工方法，包括具体步骤如下：步骤一：将陶瓷材料制作成杆体，并通过打孔机在杆体的内壁形成定位孔；步骤二：将陶瓷材料制作成支撑帽，并通过焊接在支撑帽上安装定位杆；步骤三：将陶瓷材料制作成支撑板，本发明专利技术通过接触层与玻璃基板进行接触，由于接触层具有导热性和导电性，从而会避免对产品性能造成影响，与此同时，由于接触层具有低粘结力和耐温性，从而会减少接触层在与玻璃基板接触时出现杂质粒子的问题，避免对产品的品质造成影响。对产品的品质造成影响。对产品的品质造成影响。

【技术实现步骤摘要】
一种气相沉积镀膜设备用中心支撑杆加工方法


[0001]本专利技术涉及面板制造
，具体为一种气相沉积镀膜设备用中心支撑杆加工方法。

技术介绍

[0002]在液晶面板、薄膜太阳能的生产工艺中，通常会采用PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，等离子体增强化学气相沉积法)设备来进行镀膜工艺。在液晶面板制造工艺中，采用PECVD镀膜设备进行镀膜工艺时，玻璃基板由机器人手臂送入到基台上，在基台上分布有若干的通孔，在通孔内设置有支撑杆。玻璃基板与基台接触之前，支撑杆伸出基台表面，由支撑杆来托起玻璃基板；支撑杆保持不动，基台上升，玻璃基板即与基台接触。目前支撑杆一般是由支撑帽和杆体组成，且支撑帽的导热性和导电性需要较好。
[0003]但是目前在玻璃基板的装载和卸载过程中，支撑杆会与玻璃基板接触和分离，在玻璃基板与支撑杆接触的瞬间，受玻璃基板的自重影响，由于现有支撑杆的支撑帽采用氧化铝材质，在高温条件下，支撑帽容易粘附到玻璃基板背面而形成杂质粒子，从而会最终影响产品品质，目前为了解决这一问题本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种气相沉积镀膜设备用中心支撑杆加工方法，其特征在于，包括具体步骤如下：步骤一：将陶瓷材料制作成杆体(100)，并通过打孔机在杆体(100)的内壁形成定位孔(310)；步骤二：将陶瓷材料制作成支撑帽(200)，并通过焊接在支撑帽(200)上安装定位杆(320)；步骤三：将陶瓷材料制作成支撑板(500)；步骤四：将石墨烯、玻璃镀银、铝镀银、银、钛、钛合金、氮化硅、磷化硼、碳化硅混合成隔离液体，备用；步骤五：将聚乙烯醇、白乳胶、硬脂酸钠、滑石粉、尿素、乙二醇、蔗糖、香精、水混合成胶水(400)，备用；步骤六：将支撑板(500)浸泡在隔离液体中，待浸泡完全，取出支撑板(500)，并进行冷却，从而使包裹在支撑板(500)上的隔离液体固化成接触层(600)，以实现在支撑板(500)的外表面形成接触层(600)；步骤七：在支撑帽(200)远离定位杆(320)的一端表面均匀涂上胶水(400)，并使支撑帽(200)涂上胶水(400)的一端与支撑板(500)相接触，与此同时，使支撑帽(200)与支撑板(500)进行相互挤压，直至胶水(400)固化，从而实现将支撑板(500)安装在支撑帽(200)上；步骤八：将定位杆(320)插入到定位孔(310)中，从而得到支撑杆。2.根据权利要求1所述的一种气相沉积镀膜设备用中心支撑杆加工方法，其特征在于，所述步骤四中，制备隔离液体的各材料组份按重量计分别为：石墨烯10g
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12g、玻璃镀银8g
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10g、铝镀银6g
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8g、银4g
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6g、钛8g
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12g、钛合金2g
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6g、氮化硅4g
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8g、磷化硼4g
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6g、碳化硅2g
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4g。3.根据权利要求1所述的一种气相沉积镀膜设备用中心支撑杆加工方法，其特征在于，所述隔离液体的制备流程具体如下：流程一：对石墨烯、玻璃镀银、铝镀银、银、钛、钛合金、氮化硅、磷化硼、碳化硅进行加热，直至石墨烯、玻璃镀银、铝镀银、银、钛、钛合金、氮化硅、磷化硼、碳化硅呈液状；流程二：将液状的钛、钛合金、氮化硅、磷化硼、碳化硅放入到搅拌机中进行搅拌混合，从而得到混合物A；流程三，将液状的石墨烯、玻璃镀银、铝镀银、银、混合物A放入到搅拌机中进行搅拌混合，从而得到隔离液体。...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘炜，
申请(专利权)人：上海拓赛半导体材料有限公司，
类型：发明
国别省市：