【技术实现步骤摘要】
一种遮阳型低辐射低透过镀膜玻璃的制备方法
[0001]本专利技术涉及玻璃
,具体为一种遮阳型低辐射低透过镀膜玻璃的制备方法。
技术介绍
[0002]镀膜玻璃也称反射玻璃。镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜,以改变玻璃的光学性能,满足某种特定要求。镀膜玻璃按产品的不同特性,可分为以下几类:热反射玻璃、低辐射玻璃(Low
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E)、导电膜玻璃等,热反射玻璃一般是在玻璃表面镀一层或多层诸如铬、钛或不锈钢等金属或其化合物组成的薄膜,使产品呈丰富的色彩,对于可见光有适当的透射率,对红外线有较高的反射率,对紫外线有较高吸收率,因此,也称为阳光控制玻璃,主要用于建筑和玻璃幕墙;低辐射玻璃是在玻璃表面镀由多层银、铜或锡等金属或其化合物组成的薄膜系,产品对可见光有较高的透射率,对红外线有很高的反射率,具有良好的隔热性能,主要用于建筑和汽车、船舶等交通工具,由于膜层强度较差,一般都制成中空玻璃使用;导电膜玻璃是在玻璃表面涂敷氧化铟锡等导电薄膜,可用于玻璃的加热、除霜、除雾以及用作液晶显示屏等。r/>[0003]市本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种遮阳型低辐射低透过镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,制备方法包括以下步骤:S1、配料,按照设计好的料方单,将各种原料称量后在一混料机内混合均匀;S2、熔制,将配好的原料在熔窑中经过高温加热,形成均匀的无气泡的玻璃液;S3、成形,将熔制好的玻璃液在一定温度范围内转变成具有固定形状的固体制品;S4、退火,将玻璃形成的固定形状的固体制品在一温度范围内保温或缓慢降温一段时间以清理或减少玻璃中热应力,使其完全成形;S5、边角打磨,在通过人工或者机械设备来对成形的玻璃进行边角的精打磨;S6、真空磁控溅射工艺,通过真空磁控溅射工艺在成形的玻璃的表面上镀一层纳米金属氧化物材料,使玻璃形成镀膜玻璃,另外可以使玻璃的辐射率从从0.837ε大幅降低至0.29ε。2.根据权利要求1所述的一种遮阳型低辐射低透过镀膜玻璃的制备方法,其特征在于:所述S1步骤中,原料包括石英砂、石灰石、长石、纯碱和硼酸一种或多种组成。3.根据权利要求1所述的一种遮阳型低辐射低透过镀膜玻璃的制备方法,其特征在于:所述S2步骤中,熔制的温度为1200
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1700
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C包括两种类型,第一种是坩埚窑,玻璃料盛在坩埚内,在坩埚外面加热,坩埚窑是间隙式生产的,第二种是池窑,玻璃料在窑池内...
【专利技术属性】
技术研发人员:田力,范少峰,冯岱,邵帅,伊洋洋,
申请(专利权)人:天津耀皮玻璃有限公司,
类型:发明
国别省市:
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