一种设于基底被动区限制变形的暗撑结构制造技术

本实用新型专利技术提供了一种设于基底被动区限制变形的暗撑结构，涉及建筑施工技术领域，以解决现有的软土地区的基坑工程在开挖过程中，常常因为时空效应产生围护结构变形过大的技术问题，该结构包括基坑支护组件和设置于基坑内的支撑结构，基坑支护组件包括基坑围护结构和设置于基坑围护结构顶部的冠梁，紧贴基坑围护结构设置第一沟槽，第一沟槽内设置围檩；紧贴支撑结构的周侧设置第二沟槽，第二沟槽内设置圈梁，圈梁的纵向受力筋包裹所述支撑结构；围檩与圈梁之间设置支顶梁，本实用新型专利技术的有益效果是通过暗梁支撑限制围护结构早期位移变形，提高基坑的围护结构的稳定性，为地下结构的施工提供了安全可靠的作业环境和和谐的周边环境。边环境。边环境。

【技术实现步骤摘要】
一种设于基底被动区限制变形的暗撑结构


[0001]本技术涉及建筑施工
，尤其是涉及一种设于基底被动区限制变形的暗撑结构。

技术介绍

[0002]软土地区的基坑工程在开挖过程中，常常因为时空效应产生围护结构变形过大的现象。
[0003]产生这种现象的主要原因是软土地区基坑底部为淤泥质软弱土体，存在强度低、压缩变形大，造成基坑被动区的侧向抵抗力严重不足，况且基础底板的施工和养护工期较长，基坑围护结构变形过大，往往对基坑塌陷或者周边环境设施损坏产生巨大的影响。并且在基坑开挖完成初期阶段基底未能及时形成支撑体，单纯依靠被动区软弱土无法抵抗围护结构的侧向位移变形，在基础底板浇筑完成之前，围护结构已经造成很大变形。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种设于基底被动区限制变形的暗撑结构，以解决现有技术中存在的软土地区的基坑工程在开挖过程中，常常因为时空效应产生围护结构变形过大的技术问题。本技术提供的诸多技术方案中的优选技术方案所能产生的诸多技术效果详见下文阐述。
[0005]为实现上述目的，本技术提供了以下技术方案：
[0006]本技术提供的一种设于基底被动区限制变形的暗撑结构，包括基坑支护组件和设置于基坑内的支撑结构，其中：
[0007]所述基坑支护组件包括基坑围护结构和设置于所述基坑围护结构顶部的冠梁，紧贴所述基坑围护结构设置第一沟槽，所述第一沟槽内设置围檩；
[0008]紧贴所述支撑结构的周侧设置第二沟槽，所述第二沟槽内设置圈梁，所述圈梁的纵向受力筋包裹所述支撑结构；
[0009]所述围檩与所述圈梁之间设置支顶梁。
[0010]优选地，所述支撑结构采用中空结构，所述支撑结构的顶端设置注浆孔，所述支撑结构的周侧设置多个出浆孔，多个所述出浆孔在距离所述支撑结构的顶端500mm以下沿所述支撑结构的周侧呈梅花形布置。
[0011]优选地，还包括抗力板，所述抗力板设置于所述支撑结构的一侧，位于所述出浆孔的上部，厚度不小于20mm。
[0012]优选地，所述支撑结构的顶标高低于基底200mm以上，设置于一排的多个所述支撑结构均倾斜布置，所述支撑结构与竖直方向的倾斜角度为10
°‑
20
°
。
[0013]优选地，所述支撑结构的顶标高低于基底200mm以上，设置于一排的多个所述支撑结构采用倾斜、竖直间隔排布，所述支撑结构与竖直方向的倾斜角度为10
°‑
20
°
。
[0014]优选地，所述支撑结构采用不低于DN150的钢管制成，所述出浆孔布置于所述钢管
的侧壁上，所述出浆孔的直径为3mm
‑
5mm。
[0015]优选地，还包括包封结构，所述支顶梁设置于所述包封结构内，所述包封结构的包裹厚度不小于100mm。
[0016]优选地，还包括基础垫层，其中，所述基础垫层设置于所述圈梁、所述围檩以及所述支顶梁的顶部，所述基础垫层与所述圈梁、所述围檩以及所述支顶梁之间设置级配砂石层。
[0017]本技术提供的设于基底被动区限制变形的暗撑结构，包括基坑支护组件和设置于基坑内的支撑结构，通过在基坑被动区设置支撑结构、围檩、圈梁和支顶梁形成一道有力支撑结构体系。由于软土地区深基坑开挖阶段，基底以上土体快速开挖，坑内土体荷载被卸除，基坑两侧压力失去平衡，坑内被动区土体受到压缩，但坑内被动区软土土体弹性模量低，压缩量大，难以抵抗坑外强大的侧压力，造成基坑围护结构变形持续快速增长，给基坑和周边环境带来危害。通过此暗撑结构平衡坑外侧压力，降低基坑变形量，提高基坑和周边环境的安全。可采用分段跳仓与土方开挖同时施工，不影响地下室结构施工周期，且施工工艺操作简单、成熟稳定，安全可靠，能够限制基坑变形，提高基坑结构和周边环境的安全性。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1是本技术设于基底被动区限制变形的暗撑结构一实施例的结构示意图；
[0020]图2是图1的剖视结构示意图；
[0021]图3是本技术设于基底被动区限制变形的暗撑结构中支撑结构的结构示意图；
[0022]图4是本技术设于基底被动区限制变形的暗撑结构中支撑结构的俯视结构示意图。
[0023]图中：1、基坑支护组件；2、支撑结构；3、围檩；4、圈梁；5、支顶梁；6、抗力板；7、水泥浆体；8、包封结构；9、基础垫层；10、级配砂石层；11、基坑围护结构；12、冠梁；13、基础；21、注浆孔；22、出浆孔。
具体实施方式
[0024]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本技术的技术方案进行详细的描述。显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所得到的所有其它实施方式，都属于本技术所保护的范围。
[0025]本技术提供了一种设于基底被动区限制变形的暗撑结构，特别适用于软土基坑内支撑加固。图1是本实施例的平面图，图2是本实施例的剖视结构示意图，如图1和图2所示，包括基坑支护组件1和设置于基坑内的支撑结构2。
[0026]其中，基坑支护组件1包括基坑围护结构11和设置于基坑围护结构11顶部的冠梁
12，紧贴基坑围护结构11设置第一沟槽，第一沟槽内设置围檩3，提高了围护结构的稳定性,使基坑支护的安全性得到可靠保证。
[0027]紧贴支撑结构2的周侧设置第二沟槽，第二沟槽内设置圈梁4，圈梁4的纵向受力筋包裹支撑结构2；围檩3与圈梁4之间设置支顶梁5。根据基坑变形后特点和规律，基坑开挖过程中，在基坑被动区设置支撑结构2、围檩3、圈梁4和支顶梁5形成一道有力支撑结构体系，通过早期在基坑内底板下部增设暗撑结构，在基坑变形突增初期形成一道暗梁支撑结构，有效降低基坑变形速率，可有效地解决基于软土地区基底无支撑结构，早期基坑变形大的问题。
[0028]此设于基底被动区限制变形的暗撑结构，包括基坑支护组件1和设置于基坑内的支撑结构2，通过在基坑被动区设置支撑结构2、围檩3、圈梁4和支顶梁5形成一道有力支撑结构体系。由于软土地区深基坑开挖阶段，基底以上土体快速开挖，坑内土体荷载被卸除，基坑两侧压力失去平衡，坑内被动区土体受到压缩，但坑内被动区软土土体弹性模量低，压缩量大，难以抵抗坑外强大的侧压力，造成基坑围护结构变形持续快速增长，给基坑和周边环境带来危害。通过此暗撑结构平衡坑外侧压力，降低基坑变形量，提高基坑和周边环境的安全。可采用分段跳仓与土方开挖同时施工，不影响地下室结构施工周期，且施工工艺操本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种设于基底被动区限制变形的暗撑结构，其特征在于：包括基坑支护组件和设置于基坑内的支撑结构，其中：所述基坑支护组件包括基坑围护结构和设置于所述基坑围护结构顶部的冠梁，紧贴所述基坑围护结构设置第一沟槽，所述第一沟槽内设置围檩；紧贴所述支撑结构的周侧设置第二沟槽，所述第二沟槽内设置圈梁，所述圈梁的纵向受力筋包裹所述支撑结构；所述围檩与所述圈梁之间设置支顶梁。2.根据权利要求1所述的设于基底被动区限制变形的暗撑结构，其特征在于：所述支撑结构采用中空结构，所述支撑结构的顶端设置注浆孔，所述支撑结构的周侧设置多个出浆孔，多个所述出浆孔在距离所述支撑结构的顶端500mm以下沿所述支撑结构的周侧呈梅花形布置。3.根据权利要求2所述的设于基底被动区限制变形的暗撑结构，其特征在于：还包括抗力板，所述抗力板设置于所述支撑结构的一侧，位于所述出浆孔的上部，厚度不小于20mm。4.根据权利要求1
‑
3任一所述的设于基底被动区限制变形的暗撑结构，其特征在于：所述支撑结构的顶标高低于基底200mm以上，设置于一排的多个所述支撑结构均倾斜布置，所述支撑结构与竖直方向的倾斜角度为10
°‑

【专利技术属性】
技术研发人员：邱太岗，付成，郑国，邢杰，
申请(专利权)人：中冶天工集团有限公司，
类型：新型
国别省市：