一种去污能力强的化学清洗设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种去污能力强的化学清洗设备，循环模块用于将清洗框内的溶液进行循环，并保持溶液浓度的稳定性，包括安装在主体模块内底壁上的储存组件、安装在储存组件顶端的连接管、设置在储存组件一侧且伸入储存组件的添加组件、安装在主体模块内壁上且伸出主体模块的循环组件以及设置在连接管内腔的过滤组件，储存组件包括对称固定在箱体内壁上的固定架以及固定在固定架内壁上的储存罐，固定架底端固定在箱体的内底壁上，用于安装储存罐，保持储存罐的稳定性，储存罐用于储存溶液，方便添加组件调节溶液的酸碱浓度，该去污能力强的化学清洗设备，具有去污效果好以及清洗完成后方便清理的优点。成后方便清理的优点。成后方便清理的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种去污能力强的化学清洗设备


[0001]本技术涉及化学清洗设备
，具体为一种去污能力强的化学清洗设备。

技术介绍

[0002]化学清洗是指利用酸、碱、有机螯合剂，分散剂等化学药剂，溶解、清除附在金属表面的污垢、水垢等的方法。有酸洗、碱洗、氨洗、污泥剥离，溶剂清洗等，适用于金属表面处理要求高的设备清洗，在进行化学清洗时需要使用到化学清洗设备。
[0003]现有的化学清洗设备在使用过程中主要存在以下弊端：去污能力较弱，对对金属进行浸泡清洗时，溶剂与金属表面的污垢进行反应，随着反应时间的增加，溶剂的浓度逐渐降低，导致后续的清洗效果较差，不能够较为彻底的对金属表面进行清洗，另外在清洗时，清洗下来的污垢堆积在清洗设备内部，较难进行清洗，存在改进的空间。

技术实现思路

[0004]本技术旨在解决现有技术或相关技术中存在的技术问题之一。
[0005]为此，本技术所采用的技术方案为：一种去污能力强的化学清洗设备，包括：主体模块以及循环模块，所述循环模块包括安装在主体模块内底壁上的储存组件、安装在储存组件顶端的连接管、设置在储本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种去污能力强的化学清洗设备，包括：主体模块(100)以及循环模块(200)，其特征在于，所述循环模块(200)包括安装在主体模块(100)内底壁上的储存组件(210)、安装在储存组件(210)顶端的连接管(220)、设置在储存组件(210)一侧且伸入储存组件(210)的添加组件(230)、安装在主体模块(100)内壁上且伸出主体模块(100)的循环组件(240)以及设置在连接管(220)内腔的过滤组件(250)。2.根据权利要求1所述的一种去污能力强的化学清洗设备，其特征在于，所述主体模块(100)包括箱体(110)、安装在箱体(110)顶端且伸入箱体(110)的清洗框(120)以及设置在清洗框(120)内的置物架(130)。3.根据权利要求1所述的一种去污能力强的化学清洗设备，其特征在于，所述储存组件(210)包括对称固定在箱体(110)内壁上的固定架(212)以及固定在固定架(212)内壁上的储存罐(211)。4.根据权利要求1所述的一种去污能力强的化学清洗设备，其特征在于，所述添加组件(230)包括安装在储存罐(211)外...

【专利技术属性】
技术研发人员：张晓渊，江莉萍，聂澳，杨玲，
申请(专利权)人：重庆三峡学院，
类型：新型
国别省市：