【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种改善副屏阴影的方法，其特征在于，其包括以下步骤：首先，按照单屏网点调试的方法将副屏区域网点调大，在主、副屏亮度相差１０００ｃｄ／ｍ２以下，副屏区域的网点在单屏网点调试的基础上每个点都放大１．０８倍，使此区域的亮度与其周围主屏亮度 相近。然后，在副屏区域周围四边取５排网点，在第１排与第５排画一条切线，然后让２、３、４排也与此线相切，实现５排网点平滑过度。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：涂天恩，
申请(专利权)人：上海晨兴电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]
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