偏振光栅的制备系统技术方案

本实用新型专利技术涉及光学元器件技术领域，公开一种偏振光栅的制备系统，以提高制备精度。本实用新型专利技术系统包括：激光光源；偏振分束器，用于将入射的偏振光分束成P光和S光；用于将P光转换成圆偏振光并偏转后入射至样品干涉区域的第一转换组件；用于将S光转换成圆偏振光并偏转后入射至样品干涉区域的第二转换组件；其中，所述第一转换组件中的偏转件采用第一偏振光栅或第一空间光调制器，所述第二转换组件中的偏转件采用第二偏振光栅或第二空间光调制器；且当所述第一转换组件出射的是左旋圆偏振光时，所述第二转换组件出射的是右旋圆偏振光，或者，当所述第一转换组件出射的是右旋圆偏振光时，所述第二转换组件出射的是左旋圆偏振光。振光。振光。

【技术实现步骤摘要】
偏振光栅的制备系统


[0001]本技术涉及光学元器件
，尤其涉及一种偏振光栅的制备系统。

技术介绍

[0002]偏振光栅是广泛应用于各领域的光学元器件。
[0003]现有偏振光栅的制备系统通常通过分别偏转左旋圆偏振光分束光路中第一反射镜和右旋圆偏振光分束光路中的第二反射镜的角度来进行偏振光栅的周期控制，存在精度欠佳等问题。

技术实现思路

[0004]本技术目的在于公开一种偏振光栅的制备系统，以提高制备精度。
[0005]为达上述目的，本技术公开的偏振光栅的制备系统，包括：
[0006]激光光源；
[0007]偏振分束器，用于将入射的偏振光分束成P光和S光；
[0008]用于将P光转换成圆偏振光并偏转后入射至样品干涉区域的第一转换组件；
[0009]用于将S光转换成圆偏振光并偏转后入射至样品干涉区域的第二转换组件；
[0010]其中，所述第一转换组件中的偏转件采用第一偏振光栅或第一空间光调制器，所述第二转换组件中的偏转件采用第二偏振光栅或第二空间光调制器；且当所述第一转换组件出射的是左旋圆偏振光时，所述第二转换组件出射的是右旋圆偏振光，或者，当所述第一转换组件出射的是右旋圆偏振光时，所述第二转换组件出射的是左旋圆偏振光。
[0011]优选地，当所述第一转换组件采用所述第一空间光调制器时，在所述偏振分束器与所述第一空间光调制器之间还设置有第一1/4波片。同理，当所述第二转换组件采用所述第二空间光调制器时，在所述偏振分束器与所述第二空间光调制器之间还设置有第二1/4波片。
[0012]优选地，所述第一转换组件与所述第二转换组件中各设有用于偏转前进行扩束处理的扩束镜。
[0013]本技术具有以下有益效果：
[0014]当P光和S光都通过偏振光栅来进行偏转时，容易得到两束正交圆偏光，可制备出高质量的偏振光栅。当其中一个偏振光栅或两个偏振光栅都被替换成以空间光调制器来进行偏转时，由于空间光调制器可以通过外施电压的改变来精确改变偏转的角度，可以便捷地改变两曝光光束的夹角，进而实现干涉条纹周期的连续变化，获得任意周期的偏振光栅。换言之，本技术可通过偏振光栅的替换或空间光调制器的外施电压变化来精确调控两干涉光束的夹角，从而提高了制备精度。
[0015]进一步地，本技术在所述激光光源与所述偏振分束器之间设置有调整P光与S光能量分束比的能绕光轴旋转的1/2波片。藉此，旋转改变1/2波片的快轴方向，入射波片的线偏方向与快轴的夹角为θ，那么经过1/2波片后的线偏方向旋转2θ；基于平面内的线偏光
都可以分解成P光和S光的矢量和，从而使得改变线偏方向就可以调节P光和S光的能量比；从而实现便捷地控制P光和S光进行能量均分，确保所制备样品为液晶分子是线性变化的理想偏振光栅。
[0016]下面将参照附图，对本技术作进一步详细的说明。
附图说明
[0017]构成本申请的一部分的附图用来提供对本技术的进一步理解，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：
[0018]图1是本技术实施例公开的偏振光栅制备系统的结构框图。
具体实施方式
[0019]以下结合附图对本技术的实施例进行详细说明，但是本技术可以由权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。
[0020]实施例1
[0021]本实施例公开一种偏振光栅的制备系统，如图1所示，至少包括：激光光源、偏振分束器、第一转换组件、第二转换组件。
[0022]其中，偏振分束器用于将入射的偏振光分束成P光和S光，第一转换组件用于将P光转换成圆偏振光并偏转后入射至样品干涉区域，第二转换组件用于将S光转换成圆偏振光并偏转后入射至样品干涉区域。本实施例中，第一转换组件中的偏转件采用第一偏振光栅或第一空间光调制器，第二转换组件中的偏转件采用第二偏振光栅或第二空间光调制器；且当第一转换组件出射的是左旋圆偏振光时，第二转换组件出射的是右旋圆偏振光；或者，当第一转换组件出射的是右旋圆偏振光时，第二转换组件出射的是左旋圆偏振光。
[0023]优选地，当第一转换组件采用第一空间光调制器时，在偏振分束器与第一空间光调制器之间还设置有第一1/4波片。同理，当第二转换组件采用第二空间光调制器时，在偏振分束器与第二空间光调制器之间还设置有第二1/4波片。其中，第一和第二1/4波片分别用于将P光和S光分别转换成左旋和右旋圆偏振光。而偏振光栅自身通常具备有能将P光和S光分别转换成右旋和左旋圆偏振光的属性，故省略1/4波片。
[0024]优选地，第一转换组件与第二转换组件中各设有用于偏转前进行扩束处理的扩束镜。
[0025]本实施例中，两分束光路中的偏振光栅或空间光调制器本质即通过矢量叠加构成光栅模板。其组合情况共分为三种情况，A、两个偏振光栅的矢量叠加；B、一个偏振光栅与一个空间光调制器的矢量叠加；C、两个空间光调制器的矢量叠加。
[0026]如图1所示，本实施例一种具体的偏振光栅制备系统包括：1、激光光源，2、能旋转的1/2波片，3、偏振分束器PBS，4、反射镜，5、第一1/4波片，6、第一扩束镜，7、第一空间光调制器，8、样品台，9、第二1/4波片，10、第二扩束镜，11、第二空间光调制器。值得说明的是：本技术在器件名称前所限定的“第一”和“第二”仅为对功能相同的同类元器件在不同位置所作的以示区别的描述性定义，不影响功能器件自身固有的光学属性。
[0027]综上，本技术具有以下有益效果：
[0028]当P光和S光都通过偏振光栅来进行偏转时，容易得到两束正交圆偏光，可制备出高质量的偏振光栅。当其中一个偏振光栅或两个偏振光栅都被替换成以空间光调制器来进行偏转时，由于空间光调制器可以通过外施电压的改变来精确改变偏转的角度，可以便捷地改变两曝光光束的夹角，进而实现干涉条纹周期的连续变化，获得任意周期的偏振光栅。换言之，本技术可通过偏振光栅的替换或空间光调制器的外施电压变化来精确调控两干涉光束的夹角，从而提高了制备精度。
[0029]进一步地，本技术在激光光源与偏振分束器之间设置有调整P光与S光能量分束比的能绕光轴旋转的1/2波片。藉此，旋转改变1/2波片的快轴方向，入射波片的线偏方向与快轴的夹角为θ，那么经过1/2波片后的线偏方向旋转2θ；基于平面内的线偏光都可以分解成P光和S光的矢量和，从而使得改变线偏方向就可以调节P光和S光的能量比；从而实现便捷地控制P光和S光进行能量均分，确保所制备样品为液晶分子是线性变化的理想偏振光栅。
[0030]以上所述仅为本技术的优选实施例而已，并不用于限制本技术，对于本领域的技术人员来说，本技术可以有各种更改和变化。凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种偏振光栅的制备系统，其特征在于，包括：激光光源；偏振分束器，用于将入射的偏振光分束成P光和S光；用于将P光转换成圆偏振光并偏转后入射至样品干涉区域的第一转换组件；用于将S光转换成圆偏振光并偏转后入射至样品干涉区域的第二转换组件；其中，所述第一转换组件中的偏转件采用第一偏振光栅或第一空间光调制器，所述第二转换组件中的偏转件采用第二偏振光栅或第二空间光调制器；且当所述第一转换组件出射的是左旋圆偏振光时，所述第二转换组件出射的是右旋圆偏振光，或者，当所述第一转换组件出射的是右旋圆偏振光时，所述第二转换组件出射的是左旋圆偏振光。2.根据权利要求1所述的偏振光栅的制备系统，其特征在于，在所述激光光源与所述偏振分束器之间设置有调整P光与S光能量分束比的能绕光轴旋转的...

【专利技术属性】
技术研发人员：毛博，李晓春，
申请(专利权)人：长沙麓邦光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：