一种碳化硅纤维、碳纤维增强聚酰亚胺石墨膜的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种碳化硅纤维、碳纤维增强聚酰亚胺石墨膜的制备方法，涉及聚酰亚胺石墨膜技术领域，包括以下步骤：利用低温等离子体技术对碳化硅纤维和碳纤维进行表面修饰改性；将经表面修饰改性后的碳化硅纤维和碳纤维加入到有机溶剂中，超声分散，然后加入芳香族二胺，搅拌，得到纤维

【技术实现步骤摘要】
一种碳化硅纤维、碳纤维增强聚酰亚胺石墨膜的制备方法


[0001]本专利技术涉及聚酰亚胺石墨膜
，尤其涉及一种碳化硅纤维、碳纤维增强聚酰亚胺石墨膜的制备方法。

技术介绍

[0002]随着现代科技的不断发展，电子元器件逐渐向高频率、高集成和高能量密度发展，导致器件表面产生的热量集中，聚集的热量会影响电子元器件的寿命和系统的稳定性。传统导热系数较高的金属基散热材料，如铜、铝、金、银等已经难以满足现代电子器件高散热需求。与传统散热材料相比，金刚石、石墨和石墨烯等碳基材料，拥有更高的理论热导率，特别是石墨材料是解决上述散热难题的优选材料。人工石墨膜具有高度有序的石墨片层结构，聚酰亚胺由于其独特分子结构，被认为是制备石墨薄膜优良的碳源，是采用聚酰亚胺为前驱体，通过高温碳化和石墨化热处理获得，此方法制备工艺简单、成本较低。
[0003]然而，利用聚酰亚胺薄膜制备的石墨膜存在韧性差、石墨化程度低、导热率有待提高等问题，造成聚酰亚胺薄膜在制备石墨膜领域的局限性。因此对于提高聚酰亚胺石墨膜韧性和提高导热率的研究具有现实社会价值，受到了越来越多的科研工本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种碳化硅纤维、碳纤维增强聚酰亚胺石墨膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、利用低温等离子体技术对碳化硅纤维和碳纤维进行表面修饰改性；S2、将经表面修饰改性后的碳化硅纤维和碳纤维加入到有机溶剂中，超声分散，然后加入芳香族二胺，搅拌，得到纤维
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二胺溶液；S3、在氮气保护下，将芳香族二酐分批加入到纤维
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二胺溶液中进行缩聚反应，得到纤维/聚酰胺酸树脂溶液；S4、将纤维/聚酰胺酸树脂溶液凝胶化成膜，再经热亚胺化处理，得到纤维/聚酰亚胺薄膜；S5、将纤维/聚酰亚胺薄膜依次进行碳化处理、石墨化处理，即得碳化硅纤维、碳纤维增强聚酰亚胺石墨膜。2.根据权利要求1所述的碳化硅纤维、碳纤维增强聚酰亚胺石墨膜的制备方法，其特征在于，碳化硅纤维和碳纤维的总量占芳香族二胺和芳香族二酐总质量的0.1～1％，碳化硅纤维和碳纤维的质量比为1～3：1～3。3.根据权利要求1或2所述的碳化硅纤维、碳纤维增强聚酰亚胺石墨膜的制备方法，其特征在于，S1中，在氧气气氛下对碳化硅纤维和碳纤维进行低温等离子体处理，处理功率100～300W、处理时间6～10min。4.根据权利要求1
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3任一项所述的碳化硅纤维、碳纤维增强聚酰亚胺石墨膜的制备方法，其特征在于，S2中，芳香族二胺为对苯二胺或4,4'
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二氨基二苯醚中的一种或其组合，有机溶剂为N,N'
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二甲基乙酰胺或N,N'
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二甲基甲酰胺。5.根据权利要求1
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4任一项所述的碳化硅纤维、碳纤维增强聚酰亚胺石墨膜的制备方法，其特征在于，S3中，芳香族二酐为均苯四甲酸二酐或3,3',4,4'
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联苯四甲酸二酐。6.根据权利要求1
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【专利技术属性】
技术研发人员：孙善卫，杨景红，潘成，梅亚平，
申请(专利权)人：安徽国风新材料技术有限公司，
类型：发明
国别省市：