涂胶设备制造技术

本申请公开了一种涂胶设备；其中，涂胶设备包括等离子清洗装置和涂布装置；所述等离子清洗装置包括第一载置台及等离子清洗头，所述第一载置台用于载置待涂胶产品，所述等离子清洗头面向所述待涂胶产品，用于清洗产品并使等离子体附着于产品表面；所述涂布装置用于对清洗后的待涂胶产品进行涂敷胶水。本申请通过在涂布装置对待涂胶产品进行涂敷胶水之前，使用等离子清洗头对待涂胶产品进行清洗，增强了待涂胶产品表面的粗糙度，增强了胶水在产品表面的摩擦力。使该摩擦力大于胶水本身的表面张力，从而减少胶水移动，降低胶水表面产生凹坑和气泡的数量。和气泡的数量。和气泡的数量。

【技术实现步骤摘要】
涂胶设备


[0001]本申请涉及涂胶
，特别是涉及一种涂胶设备。

技术介绍

[0002]现有的新型显示屏幕行业，在Mini
‑
LED(半导体显示器件)直显、背光等显示面板基板的表面整体封胶采用的模压成型技术或者点胶工艺。基板上安装有多个发光晶粒，然后将胶水涂敷于基板的表面，将多个发光晶粒固定。
[0003]然而，由于胶水里面有气泡、粉尘等杂质，因此，在胶水固化的过程中，在胶水表面张力作用下极易收缩形成的胶面点状凹凸的缺陷，这些缺陷会造成光线反射和折射现象，影响显示效果。

技术实现思路

[0004]本申请主要解决的技术问题是提供一种涂胶设备，以解决现有技术中涂胶装置无法可靠解决凹坑和气泡的问题。
[0005]为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种涂胶设备，其包括：等离子清洗装置，所述等离子清洗装置包括第一载置台及等离子清洗头，所述第一载置台用于载置待涂胶产品，所述等离子清洗头面向所述待涂胶产品，用于清洗产品并使等离子体附着于产品表面；涂布装置，所述涂布装置用于对清洗后的待涂本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种涂胶设备，其特征在于，包括：等离子清洗装置，所述等离子清洗装置包括第一载置台及等离子清洗头，所述第一载置台用于载置待涂胶产品，所述等离子清洗头面向所述待涂胶产品，用于清洗产品并使等离子体附着于产品表面；涂布装置，所述涂布装置用于对清洗后的待涂胶产品进行涂敷胶水。2.如权利要求1所述的涂胶设备，其特征在于，所述等离子清洗装置还包括：第一驱动件，所述第一驱动件的移动端连接所述第一载置台或所述等离子清洗头，驱动所述第一载置台或所述等离子清洗头沿第一方向运动。3.如权利要求1所述的涂胶设备，其特征在于，所述等离子清洗装置还包括：第一驱动件，所述第一驱动件用于驱动第二驱动件沿第一方向运动；第二驱动件，所述第二驱动件设置于所述第一驱动件的移动端，所述第二驱动件的移动端连接所述第一载置台，所述第二驱动件驱动所述第一载置台沿第二方向或者第三方向运动。4.如权利要求1
‑
3任一所述的涂胶设备，其特征在于，还包括第一空气过滤腔室，所述等离子清洗装置设置在所述第一空气过滤腔室内。5.如权利要求4所述的涂胶设备，其特征在于，所述第一空气过滤腔室内还包括第一过滤网及第一排气孔；所述第一过滤网和所述第一排气孔均设置在所述第一空气过滤腔室的底部。6.如权利要求1所述的涂胶设备，其特征在于，所述涂布装置包括：第二载置台，所述第二载置台用于载置待涂胶产品；涂布模头，所述涂布模头面向所述第二载置台；加热装置，所述加热装置面向所述第二载置台，用于对涂布模头喷出的...

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：江苏立导科技有限公司，
类型：新型
国别省市：