【技术实现步骤摘要】
一种多晶硅异常监测方法、装置及相关设备
[0001]本申请涉及多晶硅生产
,具体涉及一种多晶硅异常监测方法、装置及相关设备。
技术介绍
[0002]多晶硅还原工序是生产过程中的关键环节,还原车间内包括多个还原炉,为了对多个还原炉中每一还原炉内反应状况进行及时监测,需要现场人员定期巡检还原炉,观测炉内硅棒生长形态、炉内清晰度、表面颜色、倒棒情况等,并结合观测情况和过往经验判断还原炉内的硅棒生长是否存在异常。
[0003]其中,硅棒亮点问题是巡检过程中需重点关注的问题,硅棒亮点可理解为硅棒下端位置(也即硅棒在反应炉内的插设位置)因生产故障问题而产生的异常高温点,此异常高温点会在视界中以明亮光点的形式呈现,若不及时识别该异常高温点并加以处置,硅棒下端部会出现高温熔断情况,这将造成硅棒倾倒的事故,并带来较为严重的经济损失。
[0004]应用中发现,采用上述人工巡检的方式对还原炉内反应状况进行监测,受人为因素的干扰较大,易出现漏检硅棒亮点的情况,也就是说,相关技术对硅棒亮点的监测效果较差。
技术实现思路
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种多晶硅异常监测方法,其特征在于,所述方法包括:获取第一监控图像,其中,所述第一监控图像包括第一位置的图像,所述第一位置为反应炉内用于放置硅棒的位置;对所述第一监控图像进行图像分析,获得多个候选点,其中,所述候选点为所述第一监控图像中像素值大于或等于像素阈值的像素点;将所述多个候选点中对应的像素坐标位于预设区间内的像素点确定为异常点,其中,所述预设区间用于表征所述第一位置在所述第一监控图像内对应的像素区间,所述异常点用于表征对应硅棒亮点的像素点;在所述第一监控图像上标记所述异常点。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将所述多个候选点中对应的像素坐标位于预设区间内的像素点确定为异常点之后,所述方法还包括:将所述异常点的像素值与多个参考点的像素值分别进行相似度比较,获得多个相似参数,所述多个相似参数和所述多个参考点一一对应,所述多个参考点中的每一参考点对应一个温度区间的硅棒亮点;将参数值最大的所述相似参数对应的参考点确定为目标点;根据所述目标点的亮点信息,确定所述异常点的亮点信息,其中,所述亮点信息包括对应的硅棒亮点的温度信息、以及对应的硅棒亮点的处理流程信息。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,根据所述目标点的亮点信息,确定所述异常点的亮点信息之后,所述方法还包括:在所述多个相似参数均小于或等于相似阈值的情况下,将所述异常点作为新的参考点进行存储。4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述获取第一监控图像,包括:获取红外图像;对所述红外图像进行图像分析,获得分析结果;在所述分析结果指示所述第一位置的温度与所述硅棒的平均温度之差大于或等于温度差值的情况下,获取所述第一监控图像。5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一监控图像的采集时刻与初始时刻之间的时间间隔小于或等于40小时,所述初始时刻为所述反应炉的启动...
【专利技术属性】
技术研发人员:任永敬,侯雨,刘丹丹,银波,董越杰,王倩,辛俊伟,
申请(专利权)人:内蒙古新特硅材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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