一种无溶剂制备非线性光学微单晶阵列的方法技术

本发明专利技术提供一种无溶剂制备非线性光学微单晶阵列的方法，将基底放置在硅柱模板上部，硅柱模板的上部一侧设置原料槽，基底的一侧设置通孔，原料槽与通孔的位置对应；将有机小分子的粉末通过通孔加入原料槽中；升高温度，当温度高于有机小分子的熔点时，基底、有机小分子的熔体和硅柱的上表面组成三明治结构，熔体在毛细作用力驱动下沿着硅柱顶端流动直至铺满整个硅柱模板的表面；降低温度，当温度低于有机小分子的凝固点后，再降温至室温，打开三明治结构，在基底上得到非线性光学微单晶阵列。本发明专利技术微单晶阵列的加工精度通过硅柱的尺寸控制，精度可达1um。为阵列化制备非线性有机微晶体并将其用于非线性光学及微电子电路中提供了新思路。提供了新思路。提供了新思路。

【技术实现步骤摘要】
一种无溶剂制备非线性光学微单晶阵列的方法


[0001]本专利技术涉及化学
，具体涉及一种无溶剂制备非线性光学微单晶阵列的方法。

技术介绍

[0002]制备规则排列、单晶性优异的有机小分子微米结构是制造电子学和光电子学元器件等领域不可或缺的技术之一。
[0003]近年来已经有多种溶液加工方法用来实现有机小分子材料的阵列化制备，如喷墨打印法、微米压印法、毛细液桥诱导法、蘸笔印刷法和剪切刮涂法等。这些方法通过将微液体阵列化来实现有机小分子的定域生长过程，以此精确控制有机小分子的位置和形貌。
[0004]然而，这些方法使用的有机溶剂对环境有害，小分子的溶解度在不同溶剂中存在很大差异，由于溶剂挥发的咖啡环效应制备的阵列单晶性也不能保证，以上这些传统的液相制备小分子单晶阵列的方法具有很大局限性，特别地，对于不溶解的材料，液相法则无法加工。
[0005]因此，需要提供一种新的普适、简单、高效的有机微单晶阵列的制备方法。

技术实现思路

[0006]本专利技术是为了解决有机小分子微米结构的制备问题，提供一种无溶剂制备本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种无溶剂制备非线性光学微单晶阵列的方法，其特征在于：包括以下步骤：S1、将硅柱模板放置在实验台上，基底放置在所述硅柱模板上部，所述硅柱模板由光刻的方法制备且表面设置周期性重复的结构，所述硅柱模板的上部一侧设置原料槽，所述基底的一侧设置通孔，所述原料槽与所述通孔的位置对应；S2、将有机小分子的粉末通过所述通孔加入所述原料槽中；S3、升高温度，当温度高于有机小分子的熔点且低于分解温度时，所述基底、所述有机小分子的熔体和硅柱的上表面组成三明治结构，熔体在毛细作用力驱动下沿着所述硅柱模板的顶端流动直至铺满整个硅柱模板的表面；S4、降低温度，当温度低于所述有机小分子的凝固点后，再降温至室温，打开所述三明治结构，在所述基底上得到非线性光学微单晶阵列。2.根据权利要求1所述的一种无溶剂制备非线性光学微单晶阵列的方法，其特征在于：步骤S1中，所述硅柱模板的两端设置平台，所述平台位于所述硅柱的顶部两侧，所述原料槽设置在所述平台的中部，所述原料槽的直径为1～3mm。3.根据权利要求1所述的一种无溶剂制备非线性光学微单晶阵列的方法，其特征在于：步骤S1中，所述硅柱为以下任意一种形状：直线形、曲线形、圆形、三角形、方形和Y形；所述硅柱顶端亲液、侧部疏液。4.根据权利要求1所述的一种无溶剂制备...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵金金，吴雨辰，江雷，
申请(专利权)人：北京仿生界面科学未来技术研究院，
类型：发明
国别省市：