软磁性合金薄带和磁芯制造技术

提供软磁性合金薄带和磁芯，能制造激光划刻处理后的面内应力分布实现了最佳化的、铁损低的磁芯。软磁性合金薄带是由Fe基软磁性合金构成的薄带，其特征在于，具有由在第一方向上形成列的多个激光喷丸痕迹构成并具有在第二方向上相互相邻排列的第一激光喷丸痕迹列和第二激光喷丸痕迹列，当将位于离第一激光喷丸痕迹列和第二激光喷丸痕迹列为相互相等的分离距离的直线设为中间线，将位于构成第一激光喷丸痕迹列的激光喷丸痕迹的中心的周围、且半径为比分离距离短的第一半径的圆设为第一基准圆，将经过中心并与第二方向平行的直线设为基准线，将基准线与中间线的交点处的面内应力设为σ0，将第一基准圆的圆周上的面内应力设为σ1时，满足σ0＜σ1的关系。满足σ0＜σ1的关系。满足σ0＜σ1的关系。

【技术实现步骤摘要】
软磁性合金薄带和磁芯


[0001]本专利技术涉及软磁性合金薄带和磁芯。

技术介绍

[0002]在专利文献1中，公开了通过快速冷却凝固法制造并在表面具有照射激光而形成的凹部和形成于凹部周围的突状部的软磁性合金薄带。另外，公开了以凹部成为外侧的方式卷绕软磁性合金薄带而成的卷绕磁芯。
[0003]当对软磁性合金薄带在长边方向上施加磁场并且进行热处理时，形成夹着180
°
磁畴反向平行地沿着长边方向生成的磁畴。
[0004]在此，当预先对软磁性合金薄带照射激光时，与不照射激光的情况相比，能形成更细微的磁畴。也就是说，通过照射激光，由热处理导致的磁畴的细分化变得显著。通过这样实现磁畴的细分化，能够实现涡流损耗的降低，能够得到铁损低的磁芯。
[0005]另外，在专利文献1中公开了如下主旨：通过将突状部的高度、以及凹部的深度与薄带的厚度之比分别最佳化而能特别实现低铁损化。
[0006]专利文献1：日本特开2012
‑
199506号公报
[0007]在专利文献1中，关于通过激光的照射、即激光划刻处理形成的凹部的深度或突状部的高度公开了最佳条件。但是，磁畴的细分化受薄带的合金组成或其所伴有的薄带的机械特性等的较大影响。因此，仅通过将激光划刻处理的条件最佳化，有时无法将磁畴充分地细分化。因而，要求与薄带的合金组成等无关地实现磁畴的细分化。

技术实现思路

[0008]本专利技术的应用例所涉及的软磁性合金薄带的特征在于，是由Fe基软磁性合金构成的薄带，具有：
[0009]由在第一方向上形成列的多个激光喷丸痕迹构成并具有在与所述第一方向交叉的第二方向上相互相邻排列的第一激光喷丸痕迹列和第二激光喷丸痕迹列，
[0010]当将位于离所述第一激光喷丸痕迹列和所述第二激光喷丸痕迹列为相互相等的分离距离的直线设为中间线，
[0011]将位于构成所述第一激光喷丸痕迹列的所述激光喷丸痕迹的中心的周围、且半径为比所述分离距离短的第一半径的圆设为第一基准圆，
[0012]将经过所述中心并与所述第二方向平行的直线设为基准线，
[0013]将所述基准线与所述中间线的交点处的面内应力设为σ0，
[0014]将所述第一基准圆的圆周上的面内应力设为σ1时，
[0015]满足σ0＜σ1的关系。
[0016]本专利技术的应用例所涉及的磁芯的特征在于，
[0017]具备本专利技术的应用例所涉及的软磁性合金薄带。
附图说明
[0018]图1是概要地示出实施方式所涉及的软磁性合金薄带的立体图。
[0019]图2是图1的A部放大图。
[0020]图3是图2所示的激光喷丸痕迹的剖视图。
[0021]图4是将图1所示的软磁性合金薄带的第一面放大后示出的俯视图，是示意性地示出软磁性合金薄带所具有的磁畴和磁畴的图。
[0022]图5是将第一变形例所涉及的软磁性合金薄带的第一面放大后示出的俯视图，是示意性地示出软磁性合金薄带所具有的磁畴和磁畴的图。
[0023]图6是将第二变形例所涉及的软磁性合金薄带的第一面放大后示出的俯视图，是示意性地示出软磁性合金薄带所具有的磁畴和磁畴的图。
[0024]图7是用于说明软磁性合金薄带的制造方法的一个例子的流程图。
[0025]图8是示出实施方式所涉及的磁芯的概要图。
[0026]图9是在以面内应力σ1a为横轴、以面内应力σ0为纵轴的正交坐标系中绘制表1所示的各样品编号的软磁性合金薄带中的面内应力σ0、σ1a的数据后创建的坐标图。
[0027]图10是在以面内应力σ1b为横轴、以面内应力σ0为纵轴的正交坐标系中绘制表3所示的各样品编号的软磁性合金薄带中的面内应力σ0、σ1b的数据后创建的坐标图。
[0028]附图标记说明：
[0029]1…
软磁性合金薄带，1A
…
软磁性合金薄带，1B
…
软磁性合金薄带，2
…
磁畴，3
…
磁畴，10
…
磁芯，11
…
第一面，12
…
第二面，15
…
激光喷丸痕迹，16
…
激光喷丸痕迹列，17
…
层叠体，161
…
第一激光喷丸痕迹列，162
…
第二激光喷丸痕迹列，CL
…
中间线，DC1
…
第一基准圆，DC2
…
第二基准圆，DL
…
基准线，MP
…
中间位置，NP1
…
接近位置，NP1a
…
接近位置，NP1b
…
接近位置，NP2
…
接近位置，NP2a
…
接近位置，NP2b
…
接近位置，S102
…
原材料准备工序，S104
…
激光加工工序，L
…
长度，W
…
宽度，X
…
宽度方向，Y
…
长度方向，Z
…
厚度方向，d1
…
线间隔，d2
…
光斑间隔，d3
…
光斑直径，d4
…
光斑深度，r1
…
第一半径，r2
…
第二半径，t
…
厚度，α
…
第一方向，α0
…
分离距离，β
…
第二方向，γ
…
第三方向。
具体实施方式
[0030]以下，基于附图所示的优选实施方式详细地说明本专利技术的软磁性合金薄带和磁芯。
[0031]1.软磁性合金薄带
[0032]实施方式所涉及的软磁性合金薄带是由软磁性合金构成的薄带。软磁性合金是指示出软磁性的合金。软磁性合金薄带例如重叠多个而成为层叠体。这种层叠体例如用于变压器等的磁芯。
[0033]图1是概要地示出实施方式所涉及的软磁性合金薄带的立体图。图2是图1的A部放大图。需要说明的是，在图1中，将软磁性合金薄带1的宽度方向设为X，将长度方向设为Y，将厚度方向设为Z。在图1中，将这三个方向分别用箭头示出。后述的各方向包含该箭头的从基端到前端的朝向和从前端到基端的朝向这两者。
[0034]在图1中，将软磁性合金薄带1的长度设为L，将宽度设为W，将厚度设为t。
[0035]薄带是指具备具有相互为正背关系的第一面11和第二面12、第一面11与第二面12
的距离即软磁性合金薄带1的厚度t与软磁性合金薄带1的长度L或宽度W相比足够短的形状。
[0036]软磁性合金薄带1的厚度t虽然没有特别限定，但是优选为1μm以上且40μm以下，更优选为5μm以上且30μm以下。具有这种厚度t的软磁性合金薄带1兼顾足够的机械强度和本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种软磁性合金薄带，其特征在于，是由Fe基软磁性合金构成的薄带，具有：由在第一方向上形成列的多个激光喷丸痕迹构成并具有在与所述第一方向交叉的第二方向上相互相邻排列的第一激光喷丸痕迹列和第二激光喷丸痕迹列，当将位于离所述第一激光喷丸痕迹列和所述第二激光喷丸痕迹列为相互相等的分离距离的直线设为中间线，将位于构成所述第一激光喷丸痕迹列的所述激光喷丸痕迹的中心的周围、且半径为比所述分离距离短的第一半径的圆设为第一基准圆，将经过所述中心并与所述第二方向平行的直线设为基准线，将所述基准线与所述中间线的交点处的面内应力设为σ0，将所述第一基准圆的圆周上的面内应力设为σ1时，满足σ0＜σ1的关系。2.根据权利要求1所述的软磁性合金薄带，其特征在于，当将位于构成所述第二激光喷丸痕迹列的所述激光喷丸痕迹的中心的周围、...

【专利技术属性】
技术研发人员：宫泽弘，小泽欣也，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：