用于控制粒径分布的拓扑研磨系统技术方案

技术编号:36351201 阅读:40 留言:0更新日期:2023-01-14 18:06
本实用新型专利技术公开了一种用于控制粒径分布的拓扑研磨系统,该系统包括至少两级研磨单元,每级所述研磨单元包括至少两个研磨机,下级研磨单元中的至少一个所述研磨机的进料口分别与上级研磨单元中的至少两个所述研磨机的出料口相连,所述上级研磨单元与所述下级研磨单元相邻。该系统实现了将不同粒径的物料在研磨过程中混合,通过控制研磨时间和研磨量,从而获得多种不同粒径分布的产品,出料后不需要再进行混合,简化了程序同时还提高了产品一致性,同时还节省了设备投资费用,另外还可实现大规模连续化生产。现大规模连续化生产。现大规模连续化生产。

【技术实现步骤摘要】
用于控制粒径分布的拓扑研磨系统


[0001]本技术涉及研磨
,具体而言,本技术涉及用于控制粒径分布的拓扑研磨系统。

技术介绍

[0002]在锂离子电池的制备过程中,正极活性材料(例如磷酸铁锂)的研磨是至关重要的步骤。当前的主流工艺仍然是间歇操作,即分批操作,将单批原料置放于单罐或AB罐或ABC罐内,然后采用研磨机反复对该批物料进行研磨,过程分为粗磨和细磨,主要存在如下缺点:(1)间歇操作效率较低,能耗较大,所需备用机较多;(2)对不同的来料适应性较差,产品的一致性较差;(3)很难对磷酸铁锂的粒径进行操控。针对此,目前已有厂家采用串联砂磨机系统进行连续化生产(CN202120926895.7),但是上述技术仍然存在如下缺点:(1)将原料液导入联砂磨机系统中进行研磨,原料液的入口端只有一个,不能适配不同来料;(2)砂磨机系统的出口也只有一个,不能同时得到不同粒度的产品;(3)目前的研磨机系统很难实现不同粒径的磷酸铁锂的操控或复配;(4)目前的研磨机系统无反馈操作,即将下级的物料引入上级进行混合,无法实现在线批混操作。/>
技术实现思路

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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于控制粒径分布的拓扑研磨系统,其特征在于,包括:至少两级研磨单元,每级所述研磨单元包括至少两个研磨机,下级研磨单元中的至少一个所述研磨机的进料口分别与上级研磨单元中的至少两个所述研磨机的出料口相连,所述上级研磨单元与所述下级研磨单元相邻。2.根据权利要求1所述的用于控制粒径分布的拓扑研磨系统,其特征在于,包括:至少三级研磨单元,第二级以下的研磨单元中的至少一个所述研磨机包括至少两个进料口。3.根据权利要求2所述的用于控制粒径分布的拓扑研磨系统,其特征在于,第N级以上的研磨单元中的至少一个研磨机包括至少两个出料口,第N+1级研磨单元为最下级研磨单元,N为不小于2的整数。4.根据权利要求1所述的用于控制粒径分布的拓扑研磨系统,其特征在于,所述下级研磨单元中的任一个所述研磨机的进料口分别与所述上级研磨单元中的每个所述研磨机的出料口相连。5.根据权利要求3所述的用于控制粒径分布的拓扑研磨系统,其特征在于,至少一级第M级研磨单元中的至少一个所述研磨机的出料口分别通过回流管与所述第M级研磨单元...

【专利技术属性】
技术研发人员:范云龙
申请(专利权)人:厦门海辰新材料科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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