542.5nm激光器制造技术

本实用新型专利技术公开了一种542.5nm激光器，其技术方案要点是包括依次从左到右依次同轴布置的泵浦源、Nd3+:YVO4晶体、倍频晶体和输出腔镜；泵浦源为808nm激光二极管；Nd3+:YVO4晶体朝向泵浦源的一端面上镀有808nm增透膜、1085nm全反膜、1064的高透膜和1342nm的高透膜；Nd3+:YVO4晶体朝向倍频晶体一端面上镀有542.5nm全反膜、1085nm增透膜、1064nm增透膜和1342nm增透膜；倍频晶体的两端面均镀有1085nm和542.5nm双点增透膜；输出腔镜朝向倍频晶体的一端面镀有1085nm全反膜、1342nm高透膜、1064nm高透膜和542.5nm增透膜；输出腔镜背离倍频晶体一端面镀有542.5nm增透膜，达到有效产生542.5nm的激光的目的。产生542.5nm的激光的目的。产生542.5nm的激光的目的。

【技术实现步骤摘要】
542.5nm激光器


[0001]本技术涉及一种激光领域,更具体地说，它涉及一种542.5nm激光器。

技术介绍

[0002]在分子诊断应用上的橙色修饰基团需要540~560nm的激发光源，在生物医疗应用例如核酸检测仪和流式细胞仪也是需要上述波长的激光。
[0003]特别对于流式细胞仪：经荧光染色的细胞受540~560nm的光激发后所产生的荧光是通过光电转换器转变成电信号而进行测量的。
[0004]因此，需要研发一款发射波长在540
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560nm之间的绿色段的激光发射器以用于医疗仪器实用。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是提供一种542.5nm激光器，达到有效产生542.5nm激光的目的。
[0006]本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：
[0007]一种542.5nm激光器，包括依次从左到右依次同轴布置的泵浦源、Nd3+:YVO4晶体、倍频晶体和输出腔镜；泵浦源为808nm激光二极管；Nd3+:YVO4晶体朝向泵浦源的一端面上镀有808nm增透膜、1085nm全反膜、1064的高透膜和1342nm的高透膜；Nd3+:YVO4晶体朝向倍频晶体一端面上镀有542.5nm全反膜、1085nm增透膜、1064nm增透膜和1342nm增透膜；倍频晶体的两端面均镀有1085nm和542.5nm双点增透膜；输出腔镜朝向倍频晶体的一端面镀有1085nm全反膜、1342nm高透膜、1064nm高透膜和542.5nm增透膜；输出腔镜背离倍频晶体一端面镀有542.5nm增透膜。
[0008]综上所述，本技术具有以下有益效果： （1）在Nd3+:YVO4晶体朝向泵浦源的一端面上镀有808nm增透膜、1085nm全反膜、1064的高透膜和1342nm的高透膜；以及在输出腔镜朝向倍频晶体的一端面镀有1085nm全反膜、1342nm高透膜、1064nm高透膜；
[0009]采用以上镀膜方式抑制了1064nm、1342nm波长的谐振，促进了1085nm的谐振，1085nm的波长的激光在通过倍频晶体的作用就形成了542.5nm激光。
[0010]（2）本设计结构简单且能高效产生稳定的绿色激光，有利于产业化发展。并且由于结构简单因此体积小巧，效率高，能够为生物医疗诊断仪器提供优异的542.5nm激光光源。
附图说明
[0011]图1是实施例的激光发射的原理示意图。
[0012]图中：
[0013]1、泵浦源；
[0014]2、Nd3+:YVO4晶体；
[0015]3、倍频晶体；
[0016]4、输出腔镜。
具体实施方式
[0017]以下结合附图对本技术作进一步详细说明。
[0018]实施例，一种542.5nm激光器，参照图1，包括依次从左到右依次同轴布置的泵浦源1、Nd3+:YVO4晶体、倍频晶体3和输出腔镜4；
[0019]泵浦源1为808nm激光二极管，理论基础：Nd3+:YVO4晶体2是一种常见的激光晶体，它的激发谱线很丰富，有1064、1342nm等激发截面大的波长，也有1112nm,1122nm等激发截面小的波长。对这些红外波长倍频能获得一系列可见光波长，因此有效率高的532nm和671nm激光器，以及前述效率低的556nm、561nm激光器。本专利技术在这些波长之外采用1085nm谱线，本谱线的激发截面介于之间的，能产生效率较高并且稳定的1085nm激光发射。在此基础上倍频产生效率较高并且稳定的542.5nm激光，为医疗分子诊断应用提供优异的激光光源。
[0020]Nd3+:YVO4晶体2朝向泵浦源1一面为面S1；
[0021]Nd3+:YVO4晶体2背离泵浦源1一面，也就是朝向倍频晶体3的一面为面S2；
[0022]倍频晶体3朝向Nd3+:YVO4晶体2的一面为面C1；
[0023]倍频晶体3朝向输出腔镜4的一面为面C2；
[0024]输出腔镜4朝向倍频晶体3的一面为面D1;
[0025]输出腔镜4的输出面为面D2。
[0026]输出腔镜4的为凹面晶，输出腔镜4朝向倍频晶体3的一面为弧形凹面，输出腔镜4的输出面为平面。
[0027]以下对激光器上的各个光学膜进行说明：
[0028]Nd3+:YVO4晶体2朝向泵浦源1的一端面S1上镀有808nm增透膜、1085nm全反膜、1064的高透膜和1342nm的高透膜；
[0029]Nd3+:YVO4晶体2朝向倍频晶体3一端面S2上镀有542.5nm全反膜、1085nm增透膜、1064nm增透膜和1342nm增透膜；
[0030]倍频晶体3的两端面C1和C2上均镀有1085nm和542.5nm双点增透膜；
[0031]输出腔镜4朝向倍频晶体3的一端面D1镀有1085nm全反膜、1342nm高透膜、1064nm高透膜和542.5nm增透膜；
[0032]输出腔镜4背离倍频晶体3一端面D2镀有542.5nm增透膜。
[0033]工作原理：泵浦源1808nm激励Nd3+:YVO4晶体2，然后Nd3+:YVO4晶体2的S1和输出腔镜4的D1端面之间构成的谐振腔能够使1064nm和1342nm这两个发射截面大的谱线不产生谐振，让1085nm谱线形成受激辐射放大产生1085nm激光，1085nm激光通过倍频晶体3产生542.5nm激光。
[0034]以上所述仅是本技术的优选实施方式，本技术的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本技术思路下的技术方案均属于本技术的保护范围。应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本技术的保护范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种542.5nm激光器，其特征是：包括依次从左到右依次同轴布置的泵浦源(1)、Nd3+:YVO4晶体（2）、倍频晶体(3)和输出腔镜(4)；泵浦源(1)为808nm激光二极管；Nd3+:YVO4晶体（2）朝向泵浦源(1)的一端面上镀有808nm增透膜、1085nm全反膜、1064的高透膜和1342nm的高透膜；Nd3+:YVO4晶体（2）朝向倍频晶体(3)...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴俊刚，吴红胜，
申请(专利权)人：宁波明湖激光科技有限公司，
类型：新型
国别省市：