用于抗微生物制品的组合物和方法技术

微生物可以污染许多表面，例如消费品的表面。本公开描述了组合物、其制造方法和使用其在此类表面上提供杀生物活性的方法。本发明专利技术的复合物可以包括聚合物样品。聚合物可以包括具有侧链的重复单元，该侧链包含含氮杂环。含氮杂环可以形成N

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于抗微生物制品的组合物和方法
交叉引用
[0001]本申请要求2020年5月14日提交的美国临时申请号63/025,028的权益，该申请的全部内容通过引用并入本文。

技术介绍

[0002]微生物(例如，真菌、细菌、病毒等)可以在许多表面上生长，例如食品包装或加工装置、纺织品、医疗器械和水处理系统的表面。例如，细菌(如假单胞菌(Pseudomonas)、单核细胞增生性李斯特氏菌(Listeria monocytogenes)、沙门氏菌(Salmonella)等)可以粘附和定植在食品加工装置的固体表面，导致食品产品受到有害污染和交叉污染。如果不及时处理，细菌会形成生物膜，进而对各种常见的清洁和消毒剂，如氯漂白剂、季铵盐、过氧化氢等具有抵抗力。援引并入
[0003]本申请中引用的每项专利、出版物和非专利文献均以其全部内容通过引用并入本申请，如同每项专利、出版物和非专利文献通过引用单独地并入本申请一样。

技术实现思路

[0004]在一些实施方案中，本专利技术提供了聚合物样品，其中所述聚合物包含具有侧链的重复单元，所述侧链包含含氮杂环，其中：(i)含氮杂环当暴露于亲电卤素源时形成N
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卤胺，并且(ii)样品中聚合物的数均摩尔质量为至少约52千道尔顿(kDa)。
[0005]在一些实施方案中，本专利技术提供了聚合物样品，其中聚合物包括具有包含含氮杂环的侧链的重复单元，其中(i)含氮杂环当暴露于亲电卤素源时形成N
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卤胺，(ii)样品中聚合物的数均摩尔质量为至少约18千道尔顿(kDa)，以及(iii)该聚合物基本上是均聚物。
[0006]在一些实施方案中，本专利技术提供了共聚物样品，其中共聚物包括第一重复单元和第二重复单元，其中：(i)第一重复单元包括含氮杂环，其中含氮杂环当暴露于亲电卤素源时形成N
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卤胺，(ii)第二重复单元包括不污部分，以及(iii)样品中共聚物的数均摩尔质量为至少约21千道尔顿(kDa)。
[0007]在一些实施方案中，本专利技术提供了共聚物样品，其中共聚物包括第一重复单元和第二重复单元，其中：(i)第一重复单元包括含氮杂环，其中含氮杂环当暴露于亲电卤素源时形成N
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卤胺，(ii)第二重复单元包括不污部分，以及(iii)该共聚物不包含含有邻苯二酚基团的重复单元。
[0008]在一些实施方案中，本专利技术提供了一种组合物，该组合物包含：包含重复单元的第一聚合物，其中重复单元包含侧链，其中侧链包含含氮杂环，并且其中含氮杂环当暴露于亲电卤素源时形成N
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卤胺；以及不包含含有乙内酰脲基团的侧链的第二聚合物，其中第一聚合物的部分和第二聚合物的部分基本上在单相中。
[0009]在一些实施方案中，本专利技术提供了一种制造制品，所述制造制品包括：包含具有侧链的重复单元的第一聚合物，其中侧链包含含氮杂环，其中含氮杂环当暴露于亲电卤素源
时形成N
‑
卤胺；以及不包含含有乙内酰脲基团的侧链的第二聚合物，其中第一聚合物的部分和第二聚合物的部分基本上在单相中。
[0010]在一些实施方案中，本专利技术提供了一种制造聚合物组合物的方法，所述方法包括：(a)使第一聚合物和第二聚合物接触，其中：(i)第一聚合物包括重复单元，其中重复单元包括含氮杂环，其中含氮杂环当暴露于亲电卤素源时形成N
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卤胺，并且(ii)第二聚合物不包含含有乙内酰脲基团的侧链；以及(b)通过施加应力源软化第一聚合物的部分和第二聚合物的部分，以共混第一聚合物的部分和第二聚合物的部分。
[0011]在一些实施方案中，本专利技术提供了一种方法，所述方法包括：使物品的表面与包含亲电卤素源的介质接触，其中该物品物品至少部分从聚合物模制，其中聚合物包括重复单元，其中重复单元包括含氮杂环，其中含氮杂环在暴露于亲电卤素源时形成N
‑
卤胺。
[0012]在一些实施方案中，本专利技术提供了通过一种方法制备的聚合物样品，其中该方法包括：使多个可聚合单体经受聚合以生成聚合物样品，其中多个可聚合单体的单体包括侧链，其中侧链包括含氮杂环，其中：(i)含氮杂环当暴露于亲电卤素源时形成N
‑
卤胺，(ii)多个可聚合单体在溶剂中经受聚合，其中溶剂包括体积比(MeOH:H2O)为约15:1至约1:1的甲醇(MeOH)和水(H2O)；以及(iii)聚合发生在至少约50℃的温度下。
[0013]在一些实施方案中，本专利技术提供了通过一种方法制备的制造制品，其中该方法包括：(a)使第一聚合物和第二聚合物接触，其中：(i)第一聚合物包括重复单元，其中重复单元包括含氮杂环，其中含氮杂环当暴露于亲电卤素源时形成N
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卤胺，并且(ii)第二聚合物不包含含有乙内酰脲基团的侧链；以及(b)通过施加应力源软化第一聚合物的部分和第二聚合物的部分，以生成包含第一聚合物的部分和第二聚合物的部分的制造制品。
[0014]在一些实施方案中，本专利技术提供了一种组合物，该组合物包括：包含多个活性区的第一聚合物，其中多个活性区的每个活性区都表现出抗微生物活性；以及不包括多个活性区的第二聚合物，其中在对测试组合物的活性区进行放电和再充电的研究中，其中测试组合物包括作为第一聚合物的第一部分和作为第二聚合物的第二部分，其中该研究包括两阶段实验的多次迭代，其中两阶段实验的第一阶段是通过将测试组合物浸入0.6N次氯酸钠溶液中至少约1小时来对测试组合物进行放电，其中两阶段实验的第二阶段是通过使用60mM碘化钾、15％乙酸和0.001N硫代硫酸钠溶液的碘量滴定来对测试组合物进行放电，并且迭代次数为至少三次，然后如通过碘量滴定测定的，测试组合物表现出测试组合物的活性区的至少约10％的再充电。
[0015]在一些实施方案中，本专利技术提供了通过一种方法制备的制造制品，其中所述方法包括混合第一聚合物和第二聚合物，其中：(i)第一聚合物包含多个活性区，其中多个活性区的每个活性区都表现出抗微生物活性；(ii)第二聚合物不包括多个活性区；以及(iii)在对测试制造制品的活性区进行放电和再充电的研究中，其中测试制造制品包括作为第一聚合物的第一部分和作为第二聚合物的第二部分，其中该研究包括两阶段实验的多次迭代，其中两阶段实验的第一阶段是通过将测试制造制品浸入0.6N次氯酸钠溶液中至少约1小时来对测试制造制品进行放电，其中两阶段实验的第二阶段是通过使用60mM碘化钾、15％乙酸和0.001N硫代硫酸钠溶液的碘量滴定来对测试制造制品进行放电，并且迭代次数为至少三次，然后如通过碘量滴定测定的，测试制造制品表现出测试制造制品的活性区的至少约10％的再充电。
[0016]在一些实施方案中，本专利技术提供了一种组合物，该组合物包含：包含重复单元的聚合物，其中重复单元包含侧链，其中侧链包含含氮杂环，并且其中含氮杂环当暴露于亲电卤素源时形成N
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卤胺，其中N
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卤胺表现出抗病毒活性，其中，在对测试组合物的抗病毒活性的研究中，其中测试组本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种聚合物样品，其中所述聚合物包含具有侧链的重复单元，所述侧链包含含氮杂环，其中：(i)当暴露于亲电卤素源时，所述含氮杂环形成N
‑
卤胺，并且(ii)所述样品中所述聚合物的数均摩尔质量为至少约52千道尔顿(kDa)。2.根据权利要求1所述的样品，其中所述数均摩尔质量为约80kDa至约500kDa。3.根据权利要求2所述的样品，其中所述数均摩尔质量为约100kDa至约120kDa。4.根据权利要求1所述的样品，其中所述数均摩尔质量由凝胶渗透色谱法测定。5.根据权利要求1所述的样品，其中所述聚合物样品的多分散性如由凝胶渗透色谱法测定的为约1至约4。6.根据权利要求5所述的样品，其中所述聚合物样品的多分散性为约2.5至约3.0。7.根据权利要求1所述的样品，其中所述含氮杂环包含乙内酰脲基团。8.根据权利要求7所述的样品，其中所述乙内酰脲基团具有以下结构：其中：X1为H或卤素，X2为H或卤素，R1为H或C1‑
C4烷基；且R2为H或C1‑
C4烷基。9.根据权利要求7所述的样品，其中所述乙内酰脲基团具有以下结构：其中：X1为H或卤素，且X2为H或卤素。10.根据权利要求1所述的样品，其中所述重复单元具有以下结构：
其中：L1是酰胺、酯或亚芳基基团，Q1为亚烷基或不存在，X1为H或卤素，且X2为H或卤素。11.根据权利要求10所述的样品，其中所述重复单元具有以下结构：其中：X1为H或卤素，且X2为H或卤素。12.根据权利要求11所述的样品，其中X1为H且X2为H。13.根据权利要求11所述的样品，其中X1为Cl且X2为Cl。14.根据权利要求11所述的样品，其中X1和X2中的一个为Cl且X1和X2中的一个为H。15.根据权利要求1所述的样品，其中所述聚合物还包括附加重复单元，其中所述附加重复单元包括不污部分。16.根据权利要求15所述的样品，其中所述重复单元(RU1)和所述附加重复单元(RU2)以摩尔比为约4:1至约1:2(RU1:RU2)存在于所述聚合物中。17.根据权利要求16所述的样品，其中RU1:RU2的所述摩尔比为约2:1。18.根据权利要求15所述的样品，其中所述不污部分包含两性离子。19.根据权利要求18所述的样品，其中所述两性离子包括磺基甜菜碱基团。20.根据权利要求15所述的样品，其中所述附加重复单元具有以下结构：
其中：L2为酰胺或酯基团，Q2为亚烷基或不存在，Q3为亚烷基，R3为C1‑
C4烷基，且R4为C1‑
C4烷基。21.根据权利要求20所述的样品，其中所述附加重复单元具有以下结构：22.根据权利要求15所述的样品，其中所述不污部分包括聚醚。23.根据权利要求22所述的样品，其中所述聚醚包括聚乙二醇部分。24.根据权利要求22所述的样品，其中所述聚醚包括聚丙二醇部分。25.根据权利要求15所述的样品，其中所述附加重复单元具有以下结构：
其中：L2为酰胺或酯基团，R5为氢或烷基，且m为1至500。26.根据权利要求25所述的样品，其中所述附加重复单元具有以下结构：其中：R5为氢或烷基，且m为1至500。27.根据权利要求1所述的样品，其中所述聚合物是均聚物。28.根据权利要求1所述的样品，其中所述聚合物不包含含有邻苯二酚基团的侧链。29.一种聚合物样品，其中所述聚合物包含具有侧链的重复单元，所述侧链包含含氮杂环，其中：(i)当暴露于亲电卤素源时，所述含氮杂环形成N
‑
卤胺，(ii)所述样品中所述聚合物的数均摩尔质量为至少约18千道尔顿(kDa)，且(iii)所述聚合物基本上是均聚物。30.根据权利要求29所述的样品，其中所述数均摩尔质量为至少约20kDa。31.根据权利要求29所述的样品，其中所述数均摩尔质量为约18kDa至约100kDa。32.根据权利要求29所述的样品，其中所述数均摩尔质量由凝胶渗透色谱法测定。33.根据权利要求29所述的样品，其中所述聚合物样品的多分散性如由凝胶渗透色谱法测定的为约1至约4。34.根据权利要求29所述的样品，其中所述含氮杂环包含乙内酰脲基团。
35.根据权利要求34所述的样品，其中所述乙内酰脲基团具有以下结构：其中：X1为H或卤素，X2为H或卤素，R1为H或C1‑
C4烷基；且R2为H或C1‑
C4烷基。36.根据权利要求34所述的样品，其中所述乙内酰脲基团具有以下结构：其中：X1为H或卤素，且X2为H或卤素。37.根据权利要求29所述的样品，其中所述重复单元具有以下结构：其中：L1是酰胺、酯或亚芳基基团，Q1为亚烷基或不存在，X1为H或卤素，且X2为H或卤素。38.根据权利要求37所述的样品，其中所述重复单元具有以下结构：
其中：X1为H或卤素，且X2为H或卤素。39.根据权利要求38所述的样品，其中X1为H且X2为H。40.根据权利要求38所述的样品，其中X1为Cl且X2为Cl。41.根据权利要求38所述的样品，其中X1和X2中的一个为Cl且X1和X2中的一个为H。42.一种共聚物样品，其中所述共聚物包括第一重复单元和第二重复单元，其中：(i)所述第一重复单元包括含氮杂环，其中当暴露于亲电卤素源时，所述含氮杂环形成N
‑
卤胺，(ii)所述第二重复单元包括不污部分，且(iii)所述样品中所述共聚物的数均摩尔质量为至少约21千道尔顿(kDa)。43.根据权利要求42所述的样品，其中所述含氮杂环在所述第一重复单元的侧链上。44.根据权利要求42所述的样品，其中所述数均摩尔质量为约21kDa至约500kDa。45.根据权利要求42所述的样品，其中所述数均摩尔质量为约21kDa至约50kDa。46.根据权利要求42所述的样品，其中所述数均摩尔质量为约100kDa至约120kDa。47.根据权利要求42所述的样品，其中所述数均摩尔质量由凝胶渗透色谱法测定。48.根据权利要求42所述的样品，其中所述样品具有如由凝胶渗透色谱法测定的在约1至约4范围内的多分散性。49.根据权利要求42所述的样品，其中所述样品具有小于约2.9的多分散性。50.根据权利要求42所述的样品，其中所述含氮杂环包含乙内酰脲基团。51.根据权利要求50所述的样品，其中所述乙内酰脲基团具有以下结构：其中：X1为H或卤素，X2为H或卤素，R1为H或C1‑
C4烷基；且
R2为H或C1‑
C4烷基。52.根据权利要求42所述的样品，其中所述第一重复单元具有以下结构：其中：L1是酰胺、酯或亚芳基基团，Q1为亚烷基或不存在，X1为H或卤素，且X2为H或卤素。53.根据权利要求52所述的样品，其中X1为H且X2为H。54.根据权利要求52所述的样品，其中X1为Cl且X2为Cl。55.根据权利要求52所述的样品，其中X1和X2中的一个为Cl且X1和X2中的一个为H。56.根据权利要求42所述的样品，其中所述第一重复单元(RU1)和所述第二重复单元(RU2)以摩尔比为约4:1至约1:2(RU1:RU2)存在于所述共聚物中。57.根据权利要求56所述的样品，其中RU1:RU2的所述摩尔比为约2:1。58.根据权利要求42所述的样品，其中所述不污部分包含两性离子。59.根据权利要求58所述的样品，其中所述两性离子包括磺基甜菜碱基团。60.根据权利要求42所述的样品，其中所述第二重复单元具有以下结构：其中：L2为酰胺或酯基团，Q2为亚烷基或不存在，Q3为亚烷基，R3为C1‑
C4烷基，且R4为C1‑
C4烷基。61.根据权利要求60所述的样品，其中所述第二重复单元具有以下结构：
62.根据权利要求42所述的样品，其中所述不污部分包括聚醚。63.根据权利要求62所述的样品，其中所述聚醚包括聚乙二醇部分。64.根据权利要求42所述的样品，其中所述第二重复单元具有以下结构：其中：L2为酰胺或酯基团，R5为氢或烷基，且m为1至500。65.根据权利要求64所述的样品，其中所述第二重复单元具有以下结构：其中：R5为氢或烷基，且m为1至500。66.根据权利要求42所述的样品，其中所述聚合物不包含含有邻苯二酚基团的侧链。
67.一种共聚物样品，其中所述共聚物包括第一重复单元和第二重复单元，其中：(i)所述第一重复单元包括含氮杂环，其中当暴露于亲电卤素源时，所述含氮杂环形成N
‑
卤胺，(ii)所述第二重复单元包括不污部分，且(iii)所述共聚物不包含含有邻苯二酚基团的重复单元。68.根据权利要求67所述的样品，其中所述样品中所述共聚物的数均摩尔质量为至少约21千道尔顿(kDa)。69.根据权利要求68所述的样品，其中所述数均摩尔质量为约21kDa至约500kDa。70.根据权利要求68所述的样品，其中所述数均摩尔质量为约21kDa至约50kDa。71.根据权利要求68所述的样品，其中所述数均摩尔质量为约100kDa至约120kDa。72.根据权利要求68所述的样品，其中所述数均摩尔质量由凝胶渗透色谱法测定。73.根据权利要求67所述的样品，其中所述含氮杂环在所述第一重复单元的侧链上。74.根据权利要求67所述的样品，其中所述样品具有如由凝胶渗透色谱法测定的在约1至约4范围内的多分散性。75.根据权利要求67所述的样品，其中所述样品具有小于约2.9的多分散性。76.根据权利要求67所述的样品，其中所述含氮杂环包含乙内酰脲基团。77.根据权利要求76所述的样品，其中所述乙内酰脲基团具有以下结构：其中：X1为H或卤素，X2为H或卤素，R1为H或C1‑
C4烷基；且R2为H或C1‑
C4烷基。78.根据权利要求67所述的样品，其中所述第一重复单元具有以下结构：其中：L1是酰胺、酯或亚芳基基团，Q1为亚烷基或不存在，
X1为H或卤素，且X2为H或卤素。79.根据权利要求78所述的样品，其中X1为H且X2为H。80.根据权利要求78所述的样品，其中X1为Cl且X2为Cl。81.根据权利要求78所述的样品，其中X1和X2中的一个为Cl且X1和X2中的一个为H。82.根据权利要求67所述的样品，其中所述第一重复单元(RU1)和所述第二重复单元(RU2)以摩尔比为约4:1至约1:2(RU1:RU2)存在于所述共聚物中。83.根据权利要求82所述的样品，其中RU1:RU2的所述摩尔比为约2:1。84.根据权利要求67所述的样品，其中所述不污部分包含两性离子。85.根据权利要求84所述的样品，其中所述两性离子包括磺基甜菜碱基团。86.根据权利要求67所述的样品，其中所述第二重复单元具有以下结构：其中：L2为酰胺或酯基团，Q2为亚烷基或不存在，Q3为亚烷基，R3为C1‑
C4烷基，且R4为C1‑
C4烷基。87.根据权利要求86所述的样品，其中所述第二重复单元具有以下结构：
88.根据权利要求67所述的样品，其中所述不污部分包括聚醚。89.根据权利要求88所述的样品，其中所述聚醚包括聚乙二醇部分。90.根据权利要求67所述的样品，其中所述第二重复单元具有以下结构：其中：L2为酰胺或酯基团，R5为氢或烷基，且m为1至500。91.根据权利要求90所述的样品，其中所述第二重复单元具有以下结构：其中：R5为氢或烷基，且m为1至500。92.一种组合物，包含：包括重复单元的第一聚合物，其中所述重复单元包括侧链，其中所述侧链包括含氮杂环，并且其中所述含氮杂环当暴露于亲电卤素源时形成N
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卤胺；以及不包含含有乙内酰脲基团的侧链的第二聚合物，其中所述第一聚合物的部分和所述第二聚合物的部分基本上在单相中。93.根据权利要求92所述的组合物，其中所述单相为固体。94.根据权利要求92所述的组合物，其中所述单相在整个所述单相的体积内具有基本均匀的结构。95.根据权利要求92所述的组合物，其中所述含氮杂环以按所述组合物的质量计为约0.1％至约20％的量存在于所述组合物中。96.根据权利要求92所述的组合物，其中所述含氮杂环以按所述组合物的质量计为约
0.5％至约10％的量存在于所述组合物中。97.根据权利要求92所述的组合物，其中所述组合物具有氧化氯的含量。98.根据权利要求97所述的组合物，其中所述氧化氯的含量存在于所述组合物的表面上。99.根据权利要求98所述的组合物，其中存在于所述组合物的表面上的氧化氯含量为至少约10
10
个原子/cm2。100.根据权利要求98所述的组合物，其中存在于所述组合物的表面上的氧化氯含量为约10
12
至约10
18
个原子/cm2。101.根据权利要求92所述的组合物，其中所述含氮杂环包含乙内酰脲基团。102.根据权利要求101所述的组合物，其中所述乙内酰脲基团具有以下结构：其中：X1为H或卤素，X2为H或卤素，R1为H或C1‑
C4烷基，且R2为H或C1‑
C4烷基。103.根据权利要求92所述的组合物，其中所述重复单元具有以下结构：其中：L1是酰胺、酯或亚芳基基团，Q1为亚烷基或不存在X1为H或卤素，且X2为H或卤素。104.根据权利要求103所述的组合物，其中X1为H且X2为H。105.根据权利要求103所述的组合物，其中X1为Cl且X2为Cl。106.根据权利要求103所述的组合物，其中X1和X2中的一个为Cl且X1和X2中的一个为H。107.根据权利要求92所述的组合物，其中所述第一聚合物还包括附加重复单元，所述附加重复单元包括不污部分。108.根据权利要求107所述的组合物，其中所述不污部分包含两性离子。
109.根据权利要求108所述的组合物，其中所述两性离子包括磺基甜菜碱基团。110.根据权利要求107所述的组合物，其中所述附加重复单元具有以下结构：其中：L2为酰胺或酯基团，Q2为亚烷基或不存在，Q3为亚烷基，R3为C1‑
C4烷基，且R4为C1‑
C4烷基。111.根据权利要求107所述的组合物，其中所述不污部分包含聚醚。112.根据权利要求111所述的组合物，其中所述聚醚包括聚乙二醇部分。113.根据权利要求107所述的组合物，其中所述附加重复单元具有以下结构：其中：L2为酰胺或酯基团，R5为氢或烷基，且m为1至500。114.根据权利要求92所述的组合物，其中所述第二聚合物包括热塑性塑料。115.根据权利要求92所述的组合物，其中所述第二聚合物包括热固性塑料。116.根据权利要求92所述的组合物，其中所述第一聚合物(P1)和所述第二聚合物(P2)以质量比为约1:100至约100:1(P1:P2)存在于所述组合物中。117.根据权利要求116所述的组合物，其中P1:P2的所述质量比约19:1。118.根据权利要求116所述的组合物，其中P1:P2的所述质量比约1:19。119.根据权利要求97所述的组合物，其中所述组合物对人体无毒。
120.根据权利要求97所述的组合物，其中所述组合物表现出对微生物的杀生物活性。121.根据权利要求120所述的组合物，其中所述微生物包括真菌。122.根据权利要求120所述的组合物，其中所述微生物包括细菌。123.根据权利要求120所述的组合物，其中所述微生物包括病毒。124.根据权利要求120所述的组合物，其中所述制品表现出杀生物活性至少3天。125.根据权利要求120所述的组合物，其中所述组合物表现出杀生物活性至少1周。126.根据权利要求120所述的组合物，其中所述组合物表现出杀生物活性至少1个月。127.一种制造制品，所述制造制品包括：包括重复单元的第一聚合物，所述重复单元具有侧链，其中所述侧链包括含氮杂环，其中所述含氮杂环当暴露于亲电卤素源时形成N
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卤胺；以及不包含含有乙内酰脲基团的侧链的第二聚合物，其中所述第一聚合物的部分和所述第二聚合物的部分基本上在单相中。128.根据权利要求127所述的制造制品，其中所述制造制品是消费品。129.根据权利要求127所述的制造制品，其中所述单相在整个所述单相的体积内具有基本均匀的结构。130.根据权利要求127所述的制造制品，其中所述含氮杂环以按所述制造制品的质量计为约0.1％至约10％的量存在于所述制造制品中。131.根据权利要求127所述的制造制品，其中所述制品具有氧化氯的含量。132.根据权利要求131所述的制造制品，其中所述氧化氯的含量存在于所述制品的表面上。133.根据权利要求132所述的制造制品，其中存在于所述制品表面上的氧化氯含量为至少约10
10
个原子/cm2。134.根据权利要求127所述的制造制品，其中所述含氮杂环包含乙内酰脲基团。135.根据权利要求132所述的制造制品，其中所述乙内酰脲基团具有以下结构：其中：X1为H或卤素，X2为H或卤素，R1为H或C1‑
C4烷基，且R2为H或C1‑
C4烷基。136.根据权利要求127所述的制造制品，其中所述重复单元具有以下结构：
其中：L1是酰胺、酯或亚芳基基团，Q1为亚烷基或不存在X1为H或卤素，且X2为H或卤素。137.根据权利要求136所述的制造制品，其中X1为H且X2为H。138.根据权利要求136所述的制造制品，其中X1为Cl且X2为Cl。139.根据权利要求136所述的制造制品，其中X1和X2中的一个为Cl且X1和X2中的一个为H。140.根据权利要求127所述的制造制品，其中所述第一聚合物还包括附加重复单元，所述附加重复单元包括不污部分。141.根据权利要求140所述的制造制品，其中所述不污部分包含两性离子。142.根据权利要求141所述的制造制品，其中所述两性离子包括磺基甜菜碱基团。143.根据权利要求140所述的制造制品，其中所述附加重复单元具有以下结构：其中：L2为酰胺或酯基团，Q2为亚烷基或不存在，Q3为亚烷基，R3为C1‑
C4烷基，且R4为C1‑
C4烷基。144.根据权利要求140所述的制造制品，其中所述不污部分包含聚醚。145.根据权利要求144所述的制造制品，其中所述聚醚包括聚乙二醇部分。146.根据权利要求140所述的制造制品，其中所述附加重复单元具有以下结构：
其中：L2为酰胺或酯基团，R5为氢或烷基，且m为1至500。147.根据权利要求127所述的制造制品，其中所述第二聚合物包括热塑性塑料。148.根据权利要求127所述的制造制品，其中所述第二聚合物包括热固性塑料。149.根据权利要求127所述的制造制品，其中所述第一聚合物(P1)和所述第二聚合物(P2)以质量比为约1:100至约10:1(P1:P2)存在于所述制造制品中。150.根据权利要求149所述的制造制品，其中P1:P2的所述质量比约19:1。151.根据权利要求149所述的制造制品，其中P1:P2的所述质量比约1:19。152.根据权利要求131所述的制造制品，其中所述制造制品对人体无毒。153.根据权利要求131所述的制造制品，其中所述制造制品表现出对微生物的杀生物活性。154.根据权利要求153所述的制造制品，其中所述微生物包括真菌。155.根据权利要求153所述的制造制品，其中所述微生物包括细菌。156.根据权利要求153所述的制造制品，其中所述微生物包括病毒。157.根据权利要求153所述的制造制品，其中所述制品表现出杀生物活性至少3天。158.根据权利要求153所述的制造制品，其中所述制品表现出杀生物活性至少1周。159.根据权利要求153所述的制造制品，其中所述制品表现出杀生物活性至少1个月。160.一种制造聚合物组合物的方法，所述方法包括：(a)使第一聚合物和第二聚合物接触，其中：所述第一聚合物包括重复单元，其中所述重复单元包括含氮杂环，其中当暴露于亲电卤素源时，所述含氮杂环形成N
‑
卤胺；并且所述第二聚合物不包含含有乙内酰脲基团的侧链；以及(b)通过施加应力源软化所述第一聚合物的部分和所述第二聚合物的部分，以共混所述第一聚合物的所述部分和所述第二聚合物的所述部分。161.根据权利要求160所述的方法，其中所述含氮杂环在所述重复单元的侧链上。162.根据权利要求160所述的方法，还包括去除所述应力源。163.根据权利要求160所述的方法，其中所述应力源包括压力源。164.根据权利要求160所述的方法，其中所述应力源包括热源。165.根据权利要求164所述的方法，其中所述热源使所述第一聚合物的所述部分和所
述第二聚合物的所述部分经受至少约100℃的温度。166.根据权利要求165所述的方法，其中所述热源使所述第一聚合物的所述部分和所述第二聚合物的所述部分经受约140℃至约220℃的温度。167.根据权利要求160所述的方法，其中，在(b)中，所述施加应力源使所述第一聚合物的所述部分熔化。168.根据权利要求167所述的方法，其中所述施加应力源使所述第二聚合物的所述部分熔化。169.根据权利要求168所述的方法，其中所述第一聚合物的第一熔化温度和所述第二聚合物的第二熔化温度相差不超过约20℃。170.根据权利要求169所述的方法，其中所述第一熔化温度和所述第二熔化温度相差不超过约10℃。171.根据权利要求160所述的方法，其中所述第二聚合物包括热塑性塑料。172.根据权利要求160所述的方法，其中所述第二聚合物包括热固性塑料。173.根据权利要求160所述的方法，还包括混合所述第一聚合物的所述部分和所述第二聚合物的所述部分。174.根据权利要求173所述的方法，其中所述混合包括将所述第一聚合物的所述部分和所述第二聚合物的所述部分共挤出以形成聚合物混合物，其中所述聚合物混合物包括均匀结构中的所述第一聚合物的所述部分和所述第二聚合物的所述部分。175.根据权利要求160所述的方法，还包括，在(b)之后，将所述第一聚合物的所述部分和所述第二聚合物的所述部分模制成一定形状。176.根据权利要求160所述的方法，其中所述含氮杂环包含乙内酰脲基团。177.根据权利要求176所述的方法，其中所述乙内酰脲基团具有以下结构：其中：X1为H或卤素，X2为H或卤素，R1为H或C1‑
C4烷基；且R2为H或C1‑
C4烷基。178.根据权利要求160所述的制造制品，其中所述重复单元具有以下结构：
其中：L1是酰胺、酯或亚芳基基团，Q1为亚烷基或不存在，X1为H或卤素，且X2为H或卤素。179.根据权利要求178所述的制造制品，其中X1为H且X2为H。180.根据权利要求178所述的制造制品，其中X1为Cl且X2为Cl。181.根据权利要求178所述的制造制品，其中X1和X2中的一个为Cl且X1和X2中的一个为H。182.一种方法，所述方法包括：使物品表面与包含亲电卤素源的介质接触，其中所述物品至少部分从聚合物模制，其中所述聚合物包括重复单元，其中所述重复单元包括含氮杂环，其中当暴露于所述亲电卤素源时，所述含氮杂环形成N
‑
卤胺。183.根据权利要求182所述的方法，其中所述介质包括亲电氯源。184.根据权利要求183所述的方法，其中所述介质包括次氯酸钠。185.根据权利要求183所述的方法，其中所述介质包括二氯异氰尿酸钠。186.根据权利要求183所述的方法，其中所述物品表面具有氧化氯含量。187.根据权利要求186所述的方法，其中存在于所述物品表面上的氧化氯含量为至少约10
10
个原子/cm2。188.根据权利要求186所述的方法，其中存在于所述物品表面上的氧化氯含量为约10
13
至约10
18
个原子/cm2。189.根据权利要求182所述的方法，其中所述接触包括将所述物品的部分浸入所述介质中。190.根据权利要求182所述的方法，其中所述接触进行至少约1分钟。191.根据权利要求190所述的方法，其中所述接触进行至少约30分钟。192.根据权利要求182所述的方法，其中所述物品表面的杀生物活性通过所述接触增加至少2倍。193.根据权利要求192所述的方法，其中所述物品表面的杀生物活性与无所述接触的所述物品相比增加至少5倍。194.根据权利要求182所述的方法，其中所述物品表面在所述接触后保持杀生物活性
至少约24小时。195.根据权利要求194所述的方法，其中所述物品表面在所述接触后保持杀生物活性至少约1周。196.根据权利要求186所述的方法，还包括使所述物品表面与微生物接触。197.根据权利要求196所述的方法，其中所述微生物被所固定的氧化氯杀死。198.根据权利要求196所述的方法，其中所述微生物包括真菌。199.根据权利要求196所述的方法，其中所述微生物包括细菌。200.根据权利要求182所述的方法，其中所述聚合物是包含所述重复单元和附加重复单元的共聚物。201.根据权利要求200所述的方法，其中所述附加重复单元包括不污部分。202.根据权利要求200所述的方法，其中所述共聚物的数均摩尔质量为至少约21千道尔顿(kDa)。203.通过一种方法制备的制造制品，其中所述方法包括：(a)使第一聚合物和第二聚合物接触，其中：(i)所述第一聚合物包括重复单元，其中所述重复单元包括含氮杂环，其中当暴露于亲电卤素源时，所述含氮杂环形成N
‑
卤胺；并且(ii)所述第二聚合物不包含含有乙内酰脲基团的侧链；以及(b)通过施加应力源软化所述第一聚合物的部分和所述第二聚合物的部分，以生成包含所述第一聚合物的所述部分和所述第二聚合物的所述部分的所述制造制品。204.根据权利要求203所述的制造制品，其中所述含氮杂环在所述重复单元的侧链上。205.根据权利要求203所述的制造制品，其中所述方法还包括去除所述应力源。206.根据权利要求203所述的制造制品，其中所述应力源包括压力源。207.根据权利要求203所述的制造制品，其中所述应力源包括热源。208.根据权利要求207所述的制造制品，其中所述热源在约150℃至约25...

【专利技术属性】
技术研发人员：乔明宇，
申请(专利权)人：海拉明股份有限公司，
类型：发明
国别省市：