一种浸入式上釉机制造技术

技术编号:36329089 阅读:8 留言:0更新日期:2023-01-14 17:38
本实用新型专利技术公开了一种浸入式上釉机,涉及陶瓷生产技术领域,该浸入式上釉机,包括上料支架、下料支架、釉池、支座、上料吸盘和第一下料吸盘,所述上料支架的上端设置有上料输送带,所述下料支架的上端设置有下料输送带,所述支座的上端设置有变频电机;一种浸入式上釉机,通过检测结构的设置,在碗坯浸釉完成后,将其进行检测,避免残次品进入后续工序,进而提高浸釉合格率,通过清洗结构的设置,在碗坯浸釉完成后,通过第一下料吸盘将其移动至下料输送带的上端外表面时,会粘有一定的液体,通过清洗结构对下料支架的外表面进行清洗,从而避免后续碗坯粘有多余的液体,造成次品的产生,从而提高生产效率。从而提高生产效率。从而提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】
一种浸入式上釉机


[0001]本技术涉及陶瓷生产
,具体为一种浸入式上釉机。

技术介绍

[0002]陶瓷装饰制作过程中需要在坯体表面上一层釉料,在坯体进行上釉过程中需要使用到上釉装置;但是现有专利公开立式转盘自动浸釉装置(公开号:CN104086229B)在使用过程中存在一些不足,碗坯在浸釉完成后,不能对其进行全方位的检测,无法保证每个碗坯都是合格成品,为此,本领域的工作人员提出了一种浸入式上釉机。

技术实现思路

[0003]针对现有技术的不足,本技术提供了一种浸入式上釉机,解决了上述
技术介绍
中的问题。
[0004]为实现以上目的,本技术通过以下技术方案予以实现:一种浸入式上釉机,包括上料支架、下料支架、釉池、支座、上料吸盘和第一下料吸盘,所述上料支架的上端设置有上料输送带,所述下料支架的上端设置有下料输送带,所述支座的上端设置有变频电机,所述变频电机的输出端设置有主动轮,所述主动轮的上端设置有传动轮,所述传动轮的外侧设置有立式转盘,所述主动轮和传动轮的连接处设置有皮带,所述立式转盘的外侧设置有悬架,所述悬架的外侧设置有碗托,所述上料输送带、下料输送带和碗托的上端均设置有碗坯,所述下料支架的上端安装有检测结构,所述下料支架的底部安装有清洗结构;
[0005]所述检测结构包括吊架,所述吊架的上端安装有CCD相机,所述下料支架的上端安装有连接架,所述连接架的上端设置有第一电机,所述第一电机的输出端设置有螺纹杆,所述连接架的外侧开设有滑槽,所述螺纹杆的外侧设置有螺纹座,所述螺纹座的一侧设置有滑块,所述螺纹座的另一侧设置有支撑块,所述支撑块的外侧安装有电动气缸,所述电动气缸的输出端设置有辅助块,所述辅助块的底部安装有第二下料吸盘,所述下料支架的外侧设置有废料盒。
[0006]作为本技术进一步的技术方案,所述吊架和CCD相机之间为固定连接,所述连接架和下料支架之间通过螺栓进行连接,所述第一电机的输出端和螺纹杆之间形成固定连接,所述滑槽和滑块之间相适配。
[0007]作为本技术进一步的技术方案,所述螺纹座和滑块之间为固定连接,所述螺纹座和螺纹杆之间相适配,所述支撑块和电动气缸之间为固定连接,所述辅助块和电动气缸的输出端之间形成固定连接,所述废料盒为中空结构。
[0008]作为本技术进一步的技术方案,所述清洗结构包括下料支架底部安装的清洗盒,所述清洗盒为矩形中空结构,所述清洗盒的外侧固定连接有第二电机,所述第二电机的输出端固定连接有转动轴,所述转动轴和清洗盒的内壁连接处设置有活动座,所述转动轴和活动座之间为转动连接。
[0009]作为本技术进一步的技术方案,所述转动轴的外侧固定连接有转动辊,所述
转动辊的宽度大于下料支架的宽度,所述转动辊的外侧固定连接有清洗刷,所述清洗刷为塑料材质。
[0010]作为本技术进一步的技术方案,所述清洗盒的外侧开设有注水口和排水口,所述注水口和排水口分别与清洗盒之间相连通,所述注水口和排水口的外侧均安装有密封盖。
[0011]有益效果
[0012]本技术提供了一种浸入式上釉机。与现有技术相比具备以下有益效果:
[0013]1、一种浸入式上釉机,通过检测结构的设置,在碗坯浸釉完成后,将其进行检测,避免残次品进入后续工序,进而提高浸釉合格率。
[0014]2、一种浸入式上釉机,通过清洗结构的设置,在碗坯浸釉完成后,通过第一下料吸盘将其移动至下料输送带的上端外表面时,会粘有一定的液体,通过清洗结构对下料支架的外表面进行清洗,从而避免后续碗坯粘有多余的液体,造成次品的产生,从而提高生产效率。
附图说明
[0015]图1为一种浸入式上釉机的结构示意图;
[0016]图2为一种浸入式上釉机的另一视角图;
[0017]图3为一种浸入式上釉机的局部拆分图;
[0018]图4为一种浸入式上釉机的图3中A的放大图;
[0019]图5为一种浸入式上釉机的侧剖视图。
[0020]图中:1、上料支架;101、上料输送带;2、下料支架;201、下料输送带;3、釉池;4、支座;5、变频电机;6、主动轮;7、传动轮;8、立式转盘;9、皮带;10、悬架;11、碗托;12、碗坯;13、上料吸盘;14、第一下料吸盘;15、检测结构;151、吊架;152、CCD相机;153、连接架;154、第一电机;155、螺纹杆;156、滑槽;157、螺纹座;158、滑块;159、支撑块;1510、电动气缸;1511、辅助块;1512、第二下料吸盘;1513、废料盒;16、清洗结构;161、清洗盒;162、第二电机;163、转动轴;164、活动座;165、转动辊;166、清洗刷;167、注水口;168、排水口。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
[0022]请参阅图1

5,本技术提供一种浸入式上釉机技术方案:一种浸入式上釉机,包括上料支架1、下料支架2、釉池3、支座4、上料吸盘13和第一下料吸盘14,上料支架1的上端设置有上料输送带101,下料支架2的上端设置有下料输送带201,支座4的上端设置有变频电机5,变频电机5的输出端设置有主动轮6,主动轮6的上端设置有传动轮7,传动轮7的外侧设置有立式转盘8,主动轮6和传动轮7的连接处设置有皮带9,立式转盘8的外侧设置有悬架10,悬架10的外侧设置有碗托11,上料输送带101、下料输送带201和碗托11的上端均设置有碗坯12,下料支架2的上端安装有检测结构15,下料支架2的底部安装有清洗结构16,检测
结构15包括吊架151,吊架151的上端安装有CCD相机152,下料支架2的上端安装有连接架153,连接架153的上端设置有第一电机154,第一电机154的输出端设置有螺纹杆155,连接架153的外侧开设有滑槽156,螺纹杆155的外侧设置有螺纹座157,螺纹座157的一侧设置有滑块158,螺纹座157的另一侧设置有支撑块159,支撑块159的外侧安装有电动气缸1510,电动气缸1510的输出端设置有辅助块1511,辅助块1511的底部安装有第二下料吸盘1512,下料支架2的外侧设置有废料盒1513。
[0023]请参阅图2

4,进一步的,吊架151和CCD相机152之间为固定连接,连接架153和下料支架2之间通过螺栓进行连接,第一电机154的输出端和螺纹杆155之间形成固定连接,滑槽156和滑块158之间相适配,螺纹座157和滑块158之间为固定连接,螺纹座157和螺纹杆155之间相适配,支撑块159和电动气缸1510之间为固定连接,辅助块1511和电动气缸1510的输出端之间形成本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种浸入式上釉机,包括上料支架(1)、下料支架(2)、釉池(3)、支座(4)、上料吸盘(13)和第一下料吸盘(14),其特征在于,所述上料支架(1)的上端设置有上料输送带(101),所述下料支架(2)的上端设置有下料输送带(201),所述支座(4)的上端设置有变频电机(5),所述变频电机(5)的输出端设置有主动轮(6),所述主动轮(6)的上端设置有传动轮(7),所述传动轮(7)的外侧设置有立式转盘(8),所述主动轮(6)和传动轮(7)的连接处设置有皮带(9),所述立式转盘(8)的外侧设置有悬架(10),所述悬架(10)的外侧设置有碗托(11),所述上料输送带(101)、下料输送带(201)和碗托(11)的上端均设置有碗坯(12),所述下料支架(2)的上端安装有检测结构(15),所述下料支架(2)的底部安装有清洗结构(16);所述检测结构(15)包括吊架(151),所述吊架(151)的上端安装有CCD相机(152),所述下料支架(2)的上端安装有连接架(153),所述连接架(153)的上端设置有第一电机(154),所述第一电机(154)的输出端设置有螺纹杆(155),所述连接架(153)的外侧开设有滑槽(156),所述螺纹杆(155)的外侧设置有螺纹座(157),所述螺纹座(157)的一侧设置有滑块(158),所述螺纹座(157)的另一侧设置有支撑块(159),所述支撑块(159)的外侧安装有电动气缸(1510),所述电动气缸(1510)的输出端设置有辅助块(1511),所述辅助块(1511)的底部安装有第二下料吸盘(1512),所述下料支架(2)的外侧设置有废料盒(1513)。2.根据权利要求1所述的一种浸入式上釉机,其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员:龚佐力
申请(专利权)人:龙泉市同契青瓷工作室
类型:新型
国别省市:

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