一种用于化学气相沉积炉的分散排气结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于化学气相沉积炉的分散排气结构，涉及化学气相沉积技术领域，所述化学气相沉积炉内设有马弗筒，所述马弗筒的上端中部设有排气口，所述马弗筒内设有均流盖板，所述均流盖板位于排气口的下方，均流盖板的边缘贴于马弗筒的内壁，均流盖板通过碳碳螺栓与马弗筒的上端连接，均流盖板上均匀设有排气孔，所述外侧排气孔的直径大于内侧排气孔的直径；在马弗筒内设置均流盖板，通过不同直径的排气孔，利用分散多点排气的方式，提高马弗筒排气的均匀性，大大优化马弗筒内的气氛均匀性，使得气体由下而上均匀上升，避免了气体集中的现象，提高了产品表面CVD涂层的厚度均匀性、表面美观性，确保了产品质量。确保了产品质量。确保了产品质量。

【技术实现步骤摘要】
一种用于化学气相沉积炉的分散排气结构


[0001]本技术涉及化学气相沉积
，具体为一种用于化学气相沉积炉的分散排气结构。

技术介绍

[0002]化学气相沉积(CVD)是一种材料表面改性技术。它可以利用气相间的反应,在不改变基体材料的成分和不削弱基体材料的强度条件下,赋予材料表面一些特殊的性能。目前,由化学气相沉积技术制备的材料,例如热解炭涂层(PyC)、碳化硅涂层(SiC)、碳化钽涂层(TaC)、氮化硼涂层(BN)涂层等，不仅应用于刀具材料、耐磨耐热耐腐蚀材料、宇航工业上的特殊复合材料、原子反应堆材料及生物医用材料等领域,而且被广泛应用于制备与合成各种粉体材料、块体材料、新晶体材料、陶瓷纤维及金刚石薄膜等。
[0003]化学气相沉积炉是实现化学气相沉积工艺的重要设备之一，主要进气系统、排气系统加热器、马弗筒等几部分组成，其中马弗筒是承载产品沉积CVD涂层的重要部件，起到了提供封闭环境、平均温度、导通气流、稳定气氛的重要作用。
[0004]目前，现有技术中大部分立式化学气相沉积炉均采用底部多点进气、顶部单点排气的技术方案，例本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于化学气相沉积炉的分散排气结构，所述化学气相沉积炉内设有马弗筒，所述马弗筒的上端中部设有排气口，其特征在于：所述马弗筒内设有均流盖板，所述均流盖板位于排气口的下方，均流盖板的边缘贴于马弗筒的内壁，均流盖板通过碳碳螺栓与马弗筒的上端连接，均流盖板上均匀设有排气孔，所述外侧排气孔的直径大于内侧排气孔的直径。2.如权利要求1所述的一种用于化学气相沉积炉的分散排气结构，其特征在于：所述碳碳螺栓的头部位于马弗筒的上端，碳碳螺栓的头部与马弗筒之间垫有柔性石墨纸。3.如权利要求2所述的一种用于化学气相沉积炉的分散排气结构，其特征在于：所述碳碳螺栓远离头部的一端设有外螺纹，所述均流盖板上设有与碳碳螺栓配合的拉孔，均流盖板的两侧通过与碳碳螺栓配合的碳碳螺母夹紧固定。4.如权利要求2所述的一种用于化学气相沉积炉的分散排气结构，其特征在于：所述柔性石墨纸为圆环形，柔性石墨纸的内...

【专利技术属性】
技术研发人员：耿广仁，王吉祥，赵俊杰，刘岩，
申请(专利权)人：山东伟基炭科技有限公司，
类型：新型
国别省市：