一种蚀刻系统多层进气喷淋头装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种蚀刻系统多层进气喷淋头装置，用于真空等离子蚀刻系统，包括进气板、第一匀气板、第二匀气板与工艺腔体，进气板安装在工艺腔体上，第二匀气板安装在进气板的中部，第一匀气板安装在第二匀气板内，进气板的中部分布有六个进气口，第一匀气板上等距分布有若干第一匀气孔，第二匀气板上等距分布有若干第二匀气孔，若干第一匀气孔与若干第二匀气孔错位分布，进气速度快，分流速度快，且安装灵活，拆卸方便。拆卸方便。拆卸方便。

【技术实现步骤摘要】
一种蚀刻系统多层进气喷淋头装置


[0001]本技术涉及蚀刻系统的
，特别涉及一种蚀刻系统多层进气喷淋头装置。

技术介绍

[0002]目前，市场上用于真空等离子蚀刻系统的喷淋头装置均匀性较差，进气量和进气速度较低，导致设备处理产品的均匀性达不到要求；且安装方式不够灵活，后期维护维修较为麻烦。

技术实现思路

[0003]本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术提出一种蚀刻系统多层进气喷淋头装置，可将气体均匀分流，提高进气速度与分流速度，有效提高系统设备处理产品的质量，且安装方式灵活，便于维修。
[0004]根据本技术的一种蚀刻系统多层进气喷淋头装置，用于真空等离子蚀刻系统，包括进气板、第一匀气板、第二匀气板与工艺腔体，所述进气板安装在工艺腔体上，所述第二匀气板安装在进气板的中部，所述第一匀气板安装在第二匀气板内，所述进气板的中部分布有六个进气口，所述第一匀气板上等距分布有若干第一匀气孔，所述第二匀气板上等距分布有若干第二匀气孔，所述若干第一匀气孔与若干第二匀气孔错位分布。
[0005]进一步地，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蚀刻系统多层进气喷淋头装置，用于真空等离子蚀刻系统，其特征在于：包括进气板、第一匀气板、第二匀气板与工艺腔体，所述进气板安装在工艺腔体上，所述第二匀气板安装在进气板的中部，所述第一匀气板安装在第二匀气板内，所述进气板的中部分布有六个进气口，所述第一匀气板上等距分布有若干第一匀气孔，所述第二匀气板上等距分布有若干第二匀气孔，所述若干第一匀气孔与若干第二匀气孔错位分布。2.根据权利要求1所述的一种蚀刻系统多层进气喷淋头装置，其特征在于：所述进气口的直径大于第一匀气孔的孔径，所述第一匀气孔...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙俊，冼健威，
申请(专利权)人：东莞市晟鼎精密仪器有限公司，
类型：新型
国别省市：