含芳杂环结构的吡唑酰胺类化合物及其制备方法和应用技术

本发明专利技术涉及一种含芳杂环结构的吡唑酰胺类化合物及其制备方法与应用。具体地，本发明专利技术公开了式(I)所示结构，其中各基团和取代基的定义如说明书中所述；本发明专利技术还公开了所述化合物的制备方法及其在杀虫杀螨方面的用途。物的制备方法及其在杀虫杀螨方面的用途。物的制备方法及其在杀虫杀螨方面的用途。

【技术实现步骤摘要】
含芳杂环结构的吡唑酰胺类化合物及其制备方法和应用


[0001]本专利技术涉及农用化学品及其制备
，具体地，本专利技术涉及一种含芳杂环结构的吡唑酰胺类化合物及其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]5‑
酰胺吡唑类杀虫剂是一类高效、杀虫谱广、应用作物范围大、效果卓越的药剂，并兼具杀虫、抑食、抑制产卵及杀菌作用。该类化合物作用于呼吸链复合体Ⅰ，抑制电子在此处的传递，电子传递遭到阻碍，无法建立电化学(质子)梯度，无法驱动ATP合成，ATP供应不足，昆虫、螨虫或细菌、真菌死亡。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于提供一种式I所示含芳杂环结构的吡唑酰胺类化合物及其制备和其在杀虫方面的用途。
[0004]本专利技术的第一方面，提供了一种含芳杂环结构的吡唑酰胺类化合物、其光学异构体、顺反异构体或其农药学上可接受的盐，其特征在于，所述化合物具有式I所示结构，
[0005][0006]其中，
[0007]R1选自取代或未取代的下组基团：C1‑6烷基、C3‑6环烷基、C2‑6烯基、C2‑6炔基、C1‑8烷氧基、氢、苯基、萘环基、5
‑
6元杂芳基、氨基、羟基、酰胺基、酰氧基、羧基甲基、硝基、氰基、磺酸基、卤素、甲酰基、酰基、羧基；所述取代是指被一个或多个(如2、3、4或5个)选自下组的取代基取代：卤素、羟基、C1‑6烷氧基、C1‑6烷基、氨基、硝基、羧基、羧基甲基、氰基、C1‑6卤代烷基、酰胺基、酰氧基、C3‑6环烷基、C3‑6卤代环烷基、C2‑6烯基、C2‑6卤代烯基、C2‑6炔基、C2‑6卤代炔基、C5‑7环烯基；
[0008]R2选自取代或未取代的下组基团：C1‑6烷基、C3‑6环烷基、C2‑6烯基、C2‑6炔基、C1‑6烷氧基、苯基、氢、氨基、羟基、酰胺基、酰氧基、羧基甲基、硝基、氰基、磺酸基、卤素、甲酰基、酰基、羧基；所述取代指被一个或多个卤素取代；
[0009]A选自取代或未取代的苯基、取代或未取代的萘环基、取代或未取代的4
‑
8元杂芳基、取代或未取代的C8‑
14
杂芳二环或三环环系；所述取代是指被一个或多个(如2、3、4或5个)选自下组的取代基取代：卤素、羟基、C1‑6烷氧基、C1‑6烷基、氨基、硝基、羧基、羧基甲基、氰基、C1‑6卤代烷基、酰胺基、酰氧基、C3‑6环烷基、C3‑6卤代环烷基、C2‑6烯基、C2‑6卤代烯基、C2‑6炔基、C2‑6卤代炔基、C5‑7环烯基、苯基、萘基；
[0010]B为不饱和或饱和的5
‑
6元含氮杂环基，其中，所述的杂环基含至少一个N杂原子以及0
‑
2个选自N、O或S的杂原子；
[0011]n选自0或1；
[0012]Y选自下组：氢、C1‑6烷氧基、C1‑8烷基、C1‑6卤代烷基、C3‑6环烷基、C3‑6卤代环烷基、C2‑6烯基、C2‑6卤代烯基、C2‑6炔基、C2‑6卤代炔基、C5‑7环烯基、取代或未取代的苯基、取代或未取代的萘环基、取代或未取代的4
‑
8元杂芳基、取代或未取代的C8‑
14
杂芳二环或三环环系、或3
‑
7元杂环基；所述取代是指被一个或多个(如2、3、4或5个)选自下组的取代基取代：C1‑6烷基、C2‑6烯基、卤素、C1‑6卤代烷基、氰基、氨基、硝基、羧基、羧基甲基、酰胺基、酰氧基、C3‑6环烷基、C3‑6卤代环烷基、C2‑6卤代烯基、C2‑6炔基、C2‑6卤代炔基、C5‑7环烯基、苯基、萘基。
[0013]在另一优选例中，R1选自取代或未取代的下组基团：C1‑6烷基、C2‑6烯基、C1‑6烷氧基、苯基、5
‑
6元杂芳基、氢、氨基、酰胺基、卤素、甲酰基、酰基、羧基；所述取代指被一个或多个(如2、3、4或5个)选自下组的取代基取代：卤素、羟基、C1‑6烷氧基、C1‑6烷基、氨基、硝基、羧基、羧基甲基、氰基、C1‑6卤代烷基、酰胺基、酰氧基；
[0014]R2选自取代或未取代的下组基团：C1‑5烷基、C3‑5环烷基、C2‑5烯基、C2‑6炔基、C1‑6烷氧基、卤素；所述取代指被一个或多个卤素取代；
[0015]A选自取代或未取代的苯基、取代或未取代的4
‑
8元杂芳基；所述取代是指被选自下组的一个或多个取代基取代：卤素、羟基、C1‑6烷氧基、C1‑6烷基、氨基、硝基、羧基、羧基甲基、氰基、C1‑6卤代烷基、酰胺基、酰氧基、C3‑6环烷基、C3‑6卤代环烷基、C2‑6烯基、C2‑6卤代烯基、C2‑6炔基、C2‑6卤代炔基、C5‑7环烯基、苯基、萘基；
[0016]B为不饱和的5
‑
6元含氮杂环基，其中，所述的杂环基含至少一个N杂原子以及0
‑
2个选自N、O或S的杂原子；
[0017]Y选自下组：氢、C1‑6烷氧基、C1‑6烷基、C1‑6卤代烷基、C3‑6环烷基、C2‑6烯基、C2‑6炔基、取代或未取代的苯基、取代或未取代的4
‑
8元杂芳基；所述取代是指被选自下组的一个或多个取代基取代：C1‑6烷基、C2‑6烯基、卤素、C1‑6卤代烷基、氰基、氨基、硝基、羧基、羧基甲基、酰胺基、酰氧基、C3‑6环烷基、C3‑6卤代环烷基、C2‑6卤代烯基、C2‑6炔基、C2‑6卤代炔基、C5‑7环烯基、苯基、萘基。
[0018]在另一优选例中，B为在环上含有1
‑
3个N杂原子和0
‑
2个S杂原子的5元或6元含氮杂环基。
[0019]在另一优选例中，B为含有1
‑
3个氧代(＝O)、硫代(＝S)或双氧代(如在S上具有两个氧代，形成S(O)2)取代基的含氮杂环基。
[0020]在另一优选例中，B为5
‑
6元含氮杂环基，其中，所述的杂环基含1、2或3个N杂原子以及0
‑
2个选自N、O或S的杂原子，并且所述杂环基的环上杂原子的数量≤3(即为1、2、3)。
[0021]在另一优选例中，所述的3
‑
7元杂环基含有1
‑
3个选自N、O和S的杂原子。
[0022]在另一优选例中，B通过环上的N原子与
‑
(CH2)
n
‑
Y相连，即形成
[0023]在另一优选例中，B选自下组：
[0024][0025][0026]在另一优选例中，R1选自取代或未取代的下组基团：C1‑6烷基、苯基、5
‑
6元杂芳基、氢、氨基、酰胺基、卤素；所述取代指被一个或多个选自下组的取代基取代：卤素、羟基、C1‑6烷氧基、C1‑6烷基、氨基、硝基、羧基；
[0027]R2选自取代或未取代的下组基团：C1‑5烷基、C1‑6烷氧基、C2‑5烯基、卤素；所述取代指被一个或多个卤素取代；
[0028]A选自取代或未取代的苯基；所述取代是指被一个或多个选自下组的取代基取代：卤素、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
炔基、C2‑6卤代炔基、C5‑7环烯基、苯基、萘基；B为不饱和的5
‑
6元含氮杂环基，其中，所述的杂环基含至少一个N杂原子以及0
‑
2个选自N、O或S的杂原子；Y选自下组：氢、C1‑6烷氧基、C1‑6烷基、C1‑6卤代烷基、C3‑6环烷基、C2‑6烯基、C2‑6炔基、取代或未取代的苯基、取代或未取代的4
‑
8元杂芳基；所述取代是指被选自下组的一个或多个取代基取代：C1‑6烷基、C2‑6烯基、卤素、C1‑6卤代烷基、氰基、氨基、硝基、羧基、羧基甲基、酰胺基、酰氧基、C3‑6环烷基、C3‑6卤代环烷基、C2‑6卤代烯基、C2‑6炔基、C2‑6卤代炔基、C5‑7环烯基、苯基、萘基。3.如权利要求2所述的化合物，其特征在于，R1选自取代或未取代的下组基团：C1‑6烷基、苯基、5
‑
6元杂芳基、氢、氨基、酰胺基、卤素；所述取代指被一个或多个选自下组的取代基取代：卤素、羟基、C1‑6烷氧基、C1‑6烷基、氨基、硝基、羧基；R2选自取代或未取代的下组基团：C1‑5烷基、C1‑6烷氧基、C2‑5烯基、卤素；所述取代指被一个或多个卤素取代；A选自取代或未取代的苯基；所述取代是指被一个或多个选自下组的取代基取代：卤素、羟基、C1‑6烷氧基、C1‑6烷基、氨基、硝基、羧基、氰基、C1‑6卤代烷基、酰胺基、酰氧基；B选自下组：Y选自下组：氢、C1‑6烷氧基、C1‑6烷基、C1‑6卤代烷基、C2‑6烯基、取代或未取代的苯基、取代或未取代的4
‑
8元杂芳基；所述取代是指被一个或多个选自下组的取代基取代：C1‑6烷基、C2‑6烯基、卤素、C1‑6卤代烷基、氰基、氨基、硝基、羧基、羧基甲基、酰胺基、酰氧基。4.如权利要求3所述的化合物，其特征在于，R1选自取代或未取代的下...

【专利技术属性】
技术研发人员：李忠，邵旭升，徐晓勇，程家高，张露，陈睿嘉，
申请(专利权)人：华东理工大学，
类型：发明
国别省市：