【技术实现步骤摘要】
一种二氧化硅增透膜的制备方法
[0001]本专利技术属于光学材料制备
，更具体地说，本专利技术涉及一种二氧化硅增透膜的制备方法。
技术介绍
[0002]在高功率激光系统中有成很多光学元件，由于空气与元件界面之间折射率的剧烈变化，激光会在元件界面处产生强烈的反射，这种光的反射不仅会扰乱靶室的判断、损坏光学系统中的光学元件，还会减少激光能量的输出。在某些特殊的激光光路系统中，需要将产生的1053nm的基频光束通过一系列频率转换晶体转换成351nm的三倍频率激光，在频率转换过程中，一些光学元件将同时承受351nm、527nm、1053nm、1064nm四个波长的激光束。虽然在元件表面镀了一层二氧化硅(SiO2)增透膜可以使得元件界面之间的折射率平缓变化，减少光的反射，增加光的透过，从而减少对元件的损害，但是单层的SiO2增透膜只能在单个波长处提供有效的增透，难以满足大部分激光系统中的光学元件对多波长、宽波段的高透光率要求。这时再使用单一的SiO2增透膜就难以满足大部分光学元件对高透光率和低损伤方面的要求，而且由于单一SiO2...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种二氧化硅增透膜的制备方法，其特征在于，包括：通过溶胶
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凝胶提拉镀膜法制备出多层SiO2薄膜，其中底层膜A是用酸催化SiO2溶胶和碱催化SiO2溶胶混合制备所得，上层膜B是用HMDS处理的SiO2溶胶制备得到，经过A/B/A/B/A/B...A/B的顺序多层叠加实现宽光谱范围的强增透效果。2.如权利要求1所述的二氧化硅增透膜的制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤：步骤一、制备碱催化SiO2溶胶，具体方法为：取适量的正硅酸乙酯和无水乙醇与氨水混合，得到溶液，将该溶液密封在反应器中，并在一定温度条件下搅拌一定时间，然后置于室温条件下放置陈化一定时间，得到碱催化SiO2溶胶，记为溶胶solC；步骤二、制备酸催化SiO2溶胶，具体方法为：取适量的正硅酸乙酯、无水乙醇与去离子水混合均匀，其中去离子水中含有一定量浓盐酸，得到反应液，将该反应液密封于反应器中，并在一定温度的条件下搅拌反应一定时间，然后置于室温条件下放置陈化一定时间，得到酸催化SiO2溶胶，记为溶胶solD；步骤三、制备HMDS/TEOS溶胶，具体方法为：取适量的无水乙醇、氨水、去离子水、六甲基二硅胺烷和正硅酸乙酯混合，将这些试剂加入到反应器中，并在一定温度下搅拌一定时间，然后置于室温条件下放置陈化，镀膜前用无水乙醇将溶胶稀释一倍，得到HMDS/TEOS溶胶，记为溶胶solB；步骤四、将溶胶solC回流冷凝，回流冷凝一定时间以除掉氨气，直至pH试纸无明显变化；然后将溶胶solC和溶胶solD按照一定体积比混合得到酸碱复合溶胶，记为溶胶solA；步骤五、在提拉镀膜之前，依次用乙醇和丙酮溶液超声清洗基底，再用吹风将基底吹干净；将溶胶solA以特定的提拉速度沉积在预先清洗好的基底上，作为底层膜A，...
【专利技术属性】
技术研发人员：万莉莉，熊政伟，竹文坤，高志朋，
申请(专利权)人：西南科技大学，
类型：发明
国别省市：
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