本发明专利技术提供了一种TOPCon电池硅片刻蚀装置及方法，属于太阳能电池技术领域，包括作业台、传输组和真空吸盘，作业台包括上料台、药液槽和下料台；真空吸盘与真空泵相连接；传输组包括设于作业台上方的传输轨道、行走机构和升降机构，行走机构连接在传输轨道上，升降机构连接行走机构，升降机构的作业端连接真空吸盘，行走机构沿在传输轨道移动，以借助升降机构带动硅片传输。本发明专利技术提供的TOPCon电池硅片刻蚀装置，通过在工作台上方设置真空吸盘和传输组来固定和传输硅片，使硅片在药液中刻蚀时，不受药液浮力作用影响，硅片不易倾翻，从而避免了药液翻到硅片正面的问题发生。避免了药液翻到硅片正面的问题发生。避免了药液翻到硅片正面的问题发生。
【技术实现步骤摘要】
一种TOPCon电池硅片刻蚀装置及方法
[0001]本专利技术属于太阳能电池
，更具体地说，是涉及一种TOPCon电池硅片刻蚀装置及方法。
技术介绍
[0002]TOPCon(Tunnel Oxide Passivated Contact，隧穿氧化层钝化接触)电池的生产过程中，在去除硅片背面扩散的硼硅玻璃时，一般用到链式设备，链式设备中包括一个较长的HF刻蚀段，在HF刻蚀段中设有药液槽，药液槽内设有传输轨道，当硅片在HF刻蚀段传输时，硅片放置在传输轨道上，药液没过轨道与硅片的背面接触，对硅片背面进行刻蚀，在此环境中，硅片受到药液的浮力作用，使得硅片与传输轨道之间的摩擦力减小，硅片的传输效果变差，硅片一旦受到外界干扰，如遇到药液液面波动或者传输轨道不平时，硅片容易出现侧倾，导致部分药液翻到硅片正面，对硅片正面造成腐蚀，影响硅片质量。
技术实现思路
[0003]本专利技术的目的在于提供一种TOPCon电池硅片刻蚀装置，以解决现有技术中硅片传输不稳，导致硅片正面容易受到药液腐蚀的问题。
[0004]为实现上述目的，本专利技术采用的技术方案是：提供一种TOPCon电池硅片刻蚀装置，包括：
[0005]作业台，所述作业台包括顺序连接的上料台、药液槽和下料台；
[0006]真空吸盘，所述真空吸盘与真空泵相连接，用于吸附硅片；
[0007]传输组，所述传输组包括设于所述作业台上方的传输轨道、行走机构和升降机构，所述行走机构连接在所述传输轨道上，所述升降机构连接所述行走机构，所述升降机构的作业端连接所述真空吸盘，所述行走机构沿所述传输轨道移动，以借助所述升降机构带动所述硅片传输。
[0008]在一种可能的实现方式中，所述升降机构的作业端连接有载物盘，所述载物盘上设有贯穿上下端面的吸气孔，所述真空泵与所述吸气孔的上端相连接，所述真空吸盘连接所述载物盘的下端并与所述吸气孔的下端口连通。
[0009]在一种可能的实现方式中，所述载物盘的下端面设有多个卡爪，多个所述卡爪位于所述真空吸盘的周向用于卡接所述硅片。
[0010]在一种可能的实现方式中，所述卡爪内侧设有倾斜面，所述倾斜面自上而下向外倾斜。
[0011]在一种可能的实现方式中，所述载物盘上设有多个贯穿其上下端面的送风孔，多个所述送风孔的上端与气源相连。
[0012]在一种可能的实现方式中，所述载物盘的下端面开设有环形槽，所述吸气孔位于所述环形槽的内侧，多个所述送风孔位于所述环形槽的外侧，所述环形槽内滑动穿设有环形垫块，所述环形垫块的上端面与所述环形槽之间连接有弹性件，所述环形垫块的下端面
位于所述环形槽的外部，且处于所述真空吸盘的下方。
[0013]在一种可能的实现方式中，所述环形垫块包括自上而下依次连接的连接段和引流段，所述连接段与所述弹性件相连，所述引流段位于所述环形槽的外部，所述引流段的外侧壁设有曲面，且所述曲面自上而下向外弯曲，所述送风孔包括倾斜孔，所述倾斜孔贯穿所述载物盘的下端面设有出风口，且所述出风口朝向所述引流段一侧设置。
[0014]在一种可能的实现方式中，所述载物盘的下端面开设有让位槽，所述环形槽与所述真空吸盘均位于所述让位槽的内部，所述让位槽的侧壁自下而上向内倾斜设置，所述倾斜孔的数量为多个，多个所述倾斜孔贯穿所述让位槽的侧壁与所述送风孔连通。
[0015]在一种可能的实现方式中，所述TOPCon电池硅片刻蚀装置还设有三通电磁阀，所述三通电磁阀包括端口一、端口二和端口三，所述端口一连接所述吸气孔，所述端口二连接所述真空泵，所述端口三连通大气。
[0016]本专利技术提供的TOPCon电池硅片刻蚀装置的有益效果在于：与现有技术相比，本专利技术TOPCon电池硅片刻蚀装置，硅片的刻蚀作业过程如下：将待刻蚀的硅片放置在上料台上，操作行走机构移动到上料台上方，操作升降机构使其作业端向下移动，使真空吸盘与硅片正面接触，启动真空泵，使真空吸盘内产生负压，并吸附在硅片上，操作升降机构作业端向上移动，使硅片在真空吸盘的吸附力作用下脱离上料台,操作行走机构将硅片移动到药液槽内，操作升降机构作业端向下移动，使硅片背面和药液接触，药液对硅片进行刻蚀，待硅片完成刻蚀后，操升降机构作业端向上移动使硅片远离药液，再通过操作行走机构移动，使硅片移动至下料台上，完成作业。
[0017]本专利技术还提供了一种TOPCon电池硅片刻蚀方法，包括以下步骤：
[0018]S1：将待刻蚀的硅片放置上料台上；
[0019]S2：以真空吸附的方式抓取硅片；
[0020]S3：将硅片转移至刻蚀槽中进行刻蚀；
[0021]S4：对硅片正面吹风；
[0022]S5：待硅片完成刻蚀后，停止吹风，将硅片转移到下料台上，硅片解除真空吸附。
[0023]本专利技术提供的TOPCon电池硅片刻蚀方法，与现有技术相比，通过真空吸附的方式抓取和转运硅片，使硅片在药液刻蚀过程中不受药液浮力作用，硅片稳定性好不易倾斜，通过在硅片正面形成空气膜可有效避免了药液蒸汽附着在硅片正面对硅片造成腐蚀的问题发生。
附图说明
[0024]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0025]图1为本专利技术实施例提供的TOPCon电池硅片刻蚀装置的示意图；
[0026]图2为本专利技术实施例提供的载物盘的主视图；
[0027]图3为本专利技术实施例提供的载物盘的俯视图；
[0028]图4为沿图3中A
‑
A线的剖视结构图；
[0029]图5为沿图4中B
‑
B线的剖视结构图；
[0030]图6为沿图4中C
‑
C线的剖视结构图；
[0031]图7为本专利技术实施例提供的载物盘抓取硅片的结构图；
[0032]图8为本专利技术实施例提供的环形垫块的主视图；
[0033]图9为本专利技术实施例提供的环形垫块的俯视图；
[0034]图10为本专利技术实施例提供的环形垫块的主视剖视图。
[0035]其中，图中各附图标记：
[0036]100、上料台；200、药液槽；300、下料台；401、传输轨道；402、行走机构；403、升降机构；
[0037]1、载物盘；2、真空吸盘；3、硅片；5、环形垫块；6、三通电磁阀；11、吸气孔；111、上连接管；112、下连接管；12、让位槽；13、送风孔；131、倾斜孔；1311、出风口；132、横槽；1031、接风管；14、卡爪；141、倾斜面；15、环形槽；16、弹性件；51、连接段；52、引流段；521、曲面。
具体实施方式
[0038]为了使本专利技术所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种TOPCon电池硅片刻蚀装置，其特征在于，包括：作业台，所述作业台包括顺序连接的上料台(100)、药液槽(200)和下料台(300)；真空吸盘(2)，所述真空吸盘(2)与真空泵相连接，用于吸附硅片(3)；传输组，所述传输组包括设于所述作业台上方的传输轨道(401)、行走机构(402)和升降机构(403)，所述行走机构(402)连接在所述传输轨道(401)上，所述升降机构(403)连接所述行走机构(402)，所述升降机构(403)的作业端连接所述真空吸盘(2)，所述行走机构(402)沿所述传输轨道(401)移动，以借助所述升降机构(403)带动所述硅片(3)传输。2.如权利要求1所述的TOPCon电池硅片刻蚀装置，其特征在于，所述升降机构(403)的作业端连接有载物盘(1)，所述载物盘(1)上设有贯穿上下端面的吸气孔(11)，所述真空泵与所述吸气孔(11)的上端相连接，所述真空吸盘(2)连接所述载物盘(1)的下端并与所述吸气孔(11)的下端口连通。3.如权利要求2所述的TOPCon电池硅片刻蚀装置，其特征在于，所述载物盘(1)的下端面设有多个卡爪(14)，多个所述卡爪(14)位于所述真空吸盘(2)的周向用于卡接所述硅片(3)。4.如权利要求3所述的TOPCon电池硅片刻蚀装置，其特征在于，所述卡爪(14)内侧设有倾斜面(141)，所述倾斜面(141)自上而下向外倾斜。5.如权利要求2所述的TOPCon电池硅片刻蚀装置，其特征在于，所述载物盘(1)上设有多个贯穿其上下端面的送风孔(13)，多个所述送风孔(13)的上端与气源相连。6.如权利要求5所述的TOPCon电池硅片刻蚀装置，其特征在于，所述载物盘(1)的下端面开设有环形槽(15)，所述吸气孔(11)位于所述环形槽(15)的内侧，多个所述送风孔(13)位于所述环形槽(15)的外侧，所述环形槽...
【专利技术属性】
技术研发人员：郎芳，潘明翠，夏新中，王红芳，翟金叶，孟庆超，
申请(专利权)人：英利能源发展有限公司，
类型：发明
国别省市：
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