投射系统及投射器技术方案

技术编号:3615501 阅读:426 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
投射系统包含向预定被投射部投射图像光的投射部,对由前述投射部产生的投射图像摄像的摄像部,根据前述摄像部产生的摄像结果进行预定处理的处理部,前述摄像部的摄像透镜安置在前述投射图像的光的直接反射光的反射区之外。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及应用摄像部对投射图像摄像的投射系统及投射器。在这样演示中用CCD摄像机对投射图像以及在其投射图像上指示的指示图像进行摄像,对在摄取图像内通过指示棍或手指产生的影子作为低亮度区检测,通过其影子的形状进行指示位置的检测,通过检测激光指示器的高亮度区进行指示位置的检测,因此在相当指示位置的投射画面内显示光标或预定图像,根据指示位置进行预定的程序处理以便显示其结果,借此提供支持演示的演示系统。因此与CCD摄像机的位置有关,受热点的影响,在通过投射图像内亮度变化分布检测指示位置时,通过热点反射光不能正确地进行指示位置的检测,也有时根据摄像结果不能正确地进行各种处理。鉴于以上问题提出了本专利技术,其目的是提供能降低热点的影响并满意地处理摄像数据的投射系统及投射器。本专利技术的投射系统包含向预定的被投射部投射图像的光的投射部;对由前述投射部产生的投射图像摄像的摄像部;根据前述摄像部的摄像结果进行预定的处理的处理部,其中前述摄像部的摄像透镜安排在前述投射图像的光直接反射的光的反射区之外,因此达到上述目的。本专利技术的投射器具有向预定被投射部投射图像的光的投射部,包含对由前述投射部本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种投射系统,包含: 向预定的被投射部投射图像的光的投射部, 对由前述投像部产生的投射图像进行摄像的摄像部, 根据由前述摄像部产生的摄像结果进行预定处理的处理部,其特征为:前述摄像部的摄像透镜安置在前述投射图像的光的直接反射光的反射区之外。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:米野邦夫
申请(专利权)人:精工爱普生株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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